成膜装置制造方法及图纸

技术编号:7833746 阅读:196 留言:0更新日期:2012-10-11 12:59
一种成膜装置,构成包括蒸镀釜及其内的加热部,在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板及其移动夹具;用档板与所述蒸镀釜分隔的副釜;蒸镀溶液供给部,该蒸镀溶液供给部的供给管直通所述的副釜内;贯通所述挡板从所述副釜至所述蒸镀釜内的加热部设置传送蒸镀材料的传输带;所述蒸镀溶液供给部向所述的副釜内将蒸镀溶液连续不断地提供给所述传输带上,所述的加热部对所述的蒸镀材料加热汽化后的蒸汽从所述的蒸汽出汽口喷射在所述的基板上沉积,形成所述蒸镀材料的膜。本发明专利技术的成膜装置的特点是连续地使用液态的蒸镀材料进行蒸发镀膜,并能有效地防止所形成膜的膜质劣化。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种成膜装置,特别是一种连续式进行真空蒸镀的成膜装置。
技术介绍
真空蒸镀作为无机膜及有机膜的制作方法被广泛使用,通过真空蒸镀的方式在光学零部件等的表面形成具有防污性能的有机膜的方法而被认知。例如通过构成真空蒸镀装置的釜中安装的加热器使制作有机膜的蒸镀材料加热 汽化、向成膜对象的表面喷出蒸镀材料的蒸汽并沉积,从而形成有机膜。作为形成有机膜的蒸镀装置有很多种类。例如,专利文献I中记载的一种成膜装置,使用固体或粉末状的有机膜形成用蒸镀材料,通过真空蒸镀法形成有机膜。另外,在专利文献2的图4以及对应说明书的记载公开了一种成膜装置,把含有液体状防污剂的多孔片材或是液体状的防污剂等物直接用容器加热蒸发进行蒸镀。专利文献3公开了将带有全氟烷基的硅烷化合物等有机硅烷化合物浸于多孔性无机氧化物中的蒸镀材料,在高真空度下进行真空蒸镀获得防水性膜的方法。为了防止蒸镀材料劣化和保证其均匀性,需要将上述真空蒸镀中使用的有机膜形成用蒸镀材料在溶剂中溶解成溶液状态后使用。但是,例如以连续式进行真空蒸镀的成膜装置中,使用液态的有机膜形成用蒸镀材料进行蒸镀时,在蒸镀材料中容易混入溶剂,形成的有机膜在耐久性以及耐磨性等性能方面有膜质变劣的倾向等不利之处。现有技术文献专利文献专利文献I专利公开2009- 263751号专利文献2专利公开2002- 155353号专利文献3专利公开平成9一 137122号。
技术实现思路
本专利技术要解决的问题是,以连续式使用液态蒸镀材料进行蒸发镀膜时,难以防止所形成的膜的质量劣化。为了解决上述问题,本专利技术采用以下技术方案本专利技术的成膜装置包括蒸镀釜、通过挡板与所述蒸镀釜隔开的副釜、贯通挡板从所述蒸镀釜内朝向所述副釜内而设置并且可以从所述副釜向所述蒸镀釜移动的蒸镀材料供给传输带、将置于副釜中的已在溶剂中溶解形成蒸镀溶液的蒸镀材料提供给所述蒸镀材料供给传输带的蒸镀溶液供给部、设置在所述蒸镀釜内部并使所述蒸镀釜内所定各个位置上的所述蒸镀材料供给传输带上的蒸镀材料气化进行加热的加热部,以及设置在所述蒸镀釜内并保持及搬送所述基板的基板夹具。所述副釜中的所述蒸镀溶液供给部供给的所述蒸镀溶液内的所述蒸镀材料留在所述蒸镀材料供给传输带上,使所述溶剂挥发而分离,所述蒸镀釜内通过所述加热部加热使所述蒸镀材料汽化得到所述蒸镀材料的蒸汽,使蒸汽喷在所述基板上并沉积,从而形成所述蒸镀材料的膜。上述本专利技术的成膜装置具有蒸镀釜、副釜、蒸镀材料供给传输带、蒸镀溶液供给部、加热部和基板夹具。副釜通过挡板与所述蒸镀釜隔开。蒸镀材料供给传输带贯通挡板从所述蒸镀釜内朝向所述副釜内而设置,并可以从所述副釜向所述蒸镀釜移动。蒸镀溶液供给部将已在溶剂中溶解形成蒸镀溶液的蒸镀材料提供给位于副釜的蒸镀材料供给传输带。加热部设置在蒸镀釜内部,将蒸镀釜内所定各个位置上的蒸镀材料供给传输带上的蒸镀材料进行加热汽化。基板夹具设置在所述蒸镀釜内,并保持及搬送所述基板。在这里,由副釜中蒸镀溶液供给部供给的蒸镀溶液中的蒸镀材料留在蒸镀材料供给传输带上,使溶剂挥发而分离,蒸镀釜内通过加热部加热使蒸镀材料汽化得到蒸镀材料的蒸汽,使蒸汽喷在基板上并沉积,从而形成蒸镀材料的膜。 上述本专利技术的成膜装置,较好地,所述蒸镀材料供给传输带呈环状,即具有从所述副釜向所述蒸镀釜移动后再回到所述副釜的结构。上述本专利技术的成膜装置,较好地,把来自所述副釜中的所述蒸镀溶液供给部供给的所述蒸镀溶液中的所述蒸镀材料留在所述蒸镀材料供给传输带上,使所述溶剂连续地挥发而分离。上述本专利技术的成膜装置,较好地,所述蒸镀溶液供给部连续地将所述蒸镀溶液提供到所述蒸镀材料供给传输带上。上述本专利技术的成膜装置,较好地,所述基板夹具以连续式在成膜过程中连续地搬送所述基板。上述本专利技术的成膜装置,较好地,所述基板夹具在每个成膜过程中以步进式重复操作所述基板的搬送及保持静止。上述本专利技术的成膜装置,较好地,具有使所述蒸镀材料供给传输带从所述副釜移动到所述蒸镀釜的蒸镀材料供给传输带驱动部,使所述蒸镀材料供给传输带从所述副釜移动到所述蒸镀爸。上述本专利技术的成膜装置,较好地,把所述副釜、所述蒸镀材料供给传输带、所述蒸镀溶液供给部以及所述加热部集成为一个整体。上述本专利技术的成膜装置,较好地,所述副釜由被挡板隔成的多个腔室构成,每个腔室各有一个抽真空的真空泵,以保持多个串连的腔室的背压依次降低。更好地,所述副釜由被挡板隔成的3个以上腔室构成。专利技术的效果本专利技术的成膜装置,以连续式使用溶液状态的蒸镀材料进行真空蒸镀,把来自于副釜中蒸镀溶液供给部供给的蒸镀溶液中的蒸镀材料留在蒸镀材料供给传输带上,使溶剂挥发而分离后,通过置于蒸镀釜内的加热部加热而汽化得到的蒸镀材料的蒸汽喷向基板并沉积,形成蒸镀材料的膜.本专利技术可以防止所形成的膜的膜质劣化。附图说明图I是本专利技术成膜装置实施例I的结构示意图。图2是本专利技术成膜装置实施例2的结构示意图。图3是本专利技术成膜装置实施例3的结构示意图。图4是本专利技术成膜装置实施例4的结构示意图。图5是本专利技术成膜装置实施例5的结构示意图。图6是本专利技术成膜装置实施例6的结构示意图。图7是本专利技术成膜装置实施例6的结构示意图。图8是本专利技术成膜装置实施例6的结构示意图。图9是本专利技术成膜装置实施例6的结构示意图。 图10是本专利技术成膜装置实施例6的结构示意图。图11是本专利技术成膜装置实施例7的结构示意图。图12是本专利技术成膜装置实施例7的结构示意图。图13是本专利技术成膜装置实施例7的结构示意图。图14是本专利技术成膜装置实施例7的结构示意图。图15是本专利技术成膜装置实施例7的结构示意图。图16是本专利技术成膜装置实施例8的结构示意图。符号说明I…基板2…搬送方向10…蒸镀釜11…真空泵20…副釜20S…第一腔室21...真空泵22…第二腔室23…真空泵24…第二腔室25…真空泵26…第三腔室27…真空泵30…蒸镀材料供给传输带31…第一转动驱动部32…第二转动驱动部33…加热部33S…分配器34…供给管40…档板41…第一档板42…第二档板43…第一档板44…第二档板45…第三档板20A,20B,20C …副釜21A,21B,210.真空泵30A, 30B, 300 蒸镀材料供给传输带33A,33B,330.加热部34A,34B,340.供给管 40A,40B,40C …档板A…第一单元B…第二单元C…第三单元具体实施例方式下面,参照附图说明本专利技术的成膜装置以及使用本专利技术的成膜装置形成有机膜方法的实施方式。实施例I「成膜装置的结构」图I是本专利技术中的实施例I的成膜装置的结构示意图。例如,成膜装置具有蒸镀釜10、副釜20、蒸镀材料供给传输带30、蒸镀溶液供给部(未在图中示出)、加热部33和基板夹具(未在图中示出)。蒸镀釜10通过排气管与真空泵11连接,其内部的气体压力可以降低到设定的压力。按照真空蒸镀法成膜时,例如蒸镀釜内的背压大约是10_2 10_5Pa。副釜20是用档板40从蒸镀釜10中隔出所构成的。副釜20通过排气管与真空泵21连接,其内部的气体压力可以降低到设定的压力。真空蒸镀成膜时,例如副釜20内的背压大约是10 一2 10_5Pa。副釜20的背压与蒸镀釜10相比真空度可以做到更低。蒸镀材料供给传输带30设置成贯通档板40、从蒸镀釜10本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
2011.08.11 JP 2011-1761161.一种成膜装置,其特征在于,具有 蒸镀釜及设置在蒸镀釜内的加热部,在所述的蒸镀釜内与所述的加热部的蒸汽出汽口相对的是基板,及夹持和移动所述的基板的基板夹具; 用档板与所述蒸镀釜分隔的副釜; 蒸镀溶液供给部,该蒸镀溶液供给部的供给管直通所述的副釜内; 贯通所述挡板从所述副釜至所述蒸镀釜内的加热部设置传送蒸镀材料的传输带; 所述蒸镀溶液供给部通过供给管向所述的副釜内将蒸镀材料溶解在溶剂中的蒸镀溶液连续不断地提供给所述传输带上,该蒸镀溶液在所述传输带的传送过程中,所述蒸镀溶液的溶剂在副釜中挥发而分离,仅蒸镀材料留在传输带上进入所述的加热部,该加热部对所述的蒸镀材料加热汽化后的蒸汽从所述的蒸汽出汽口喷射在所述的基板上沉积,形成所述蒸镀材料的膜。2.根据权利要求I所述的成膜装置,其特征在于,所述的蒸镀釜具有抽真空的真空泵,所述的副釜具有抽真空的真空泵。3.根据权利要求I所述的成膜装置,其特...

【专利技术属性】
技术研发人员:岡田浩和岛田修一雀堂健洋范宾小林贵行
申请(专利权)人:光驰科技上海有限公司
类型:发明
国别省市:

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1