本发明专利技术提供一种导电性基板及其制造方法以及触摸面板，其中，改变了制造工序，并且即使在透明导电膜的图案形状不显眼的导电性基板上，透明导电膜图案形状和金属配线图案的位置精度也高。导电性基板4在透明基板1的至少一面上，从透明基板1侧依次具有导电层2和透明导电膜3。此外，导电性基板4的制造方法中，依次具有：在透明基板1的至少一面上形成导电层2的工序，和在导电层2的表面上形成透明导电膜3的工序。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种用于触摸面板的导电性基板以及导电性基板的制造方法，该触摸面板可以作为输入部件而安装。
技术介绍
近年来，在各种电子仪器的显示器上都安装了作为输入部件的透明的触摸面板。作为触摸面板的方式，可以列举电阻膜式、静电容量式等。特别是，静电容量式能够多点触控，因而广泛用于移动办公设备等用途。在静电容量式的触摸面板中，在基板表面及里面上分別形成了 X坐标和Y坐标图案的透明导电膜，通过金属配线图案与电路连接，并且形成了可以探测表面的透明导电膜和里面的透明导电膜间电压变化的结构。作为透明导电膜图案的形成方法，有专利文献I至3所述的采用光刻的方法。作为其它方法，有专利文献4所述的方法，其中，使用具有对光产生反应的官能基或部位的铟化合物以及具有相同官能基或部位的锡化合物作为导电膜形成用组合物，并进行图案曝光；以及专利文献5所述的通过激光形成图案的方法等。此夕卜，作为金属配线图案，有时如专利文献I所述，和透明导电膜的图案同时形成；或者如专利文献5或6所述，通过使用Ag油墨或Al等金属膜印刷在透明导电膜上等而形成。 现有技术专利文献专利文献I :日本特开平1-197911号公报专利文献2 日本特开平2-109205号公报专利文献3 :日本特开平2-309510号公报专利文献4 日本特开平9-142884号公报专利文献5 :日本特开2008-140130号公报专利文献6 :日本特开2008-33777号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在通过专利文献I至3所述的采用光刻法的方法形成透明导电膜图案后，再印刷专利文献5或6所述的金属配线图案时，存在有下述问题当透明导电膜图案为了不便图案形状显眼而采用微细结构时，用于使金属配线图案在透明导电膜图案上重合的定位用标记无法被读取，透明导电膜的图案与金属配线图案产生偏移。另ー方面，在专利文献I中记载了金属配线图案与透明导电膜图案同时形成，但是其在金属配线图案中包含了用于透明导电膜的ΙΤ0，因而在必须使用较多的稀缺资源铟这一方面存在问题。本专利技术是鉴于这些现有技术的缺点而进行的，其目的是提供一种导电性基板及其制造方法、以及触摸面板，其中，改变了制造エ序，并且即使在透明导电膜的图案形状不显眼的导电性基板上，透明导电膜图案形状和金属配线图案的位置精度也高。解决问题的方法作为解决上述问题的方法，权利要求I所述的专利技术是ー种导电性基板，其特征在于，在透明基板的至少一面上，从前述透明基板侧依次具有导电层和透明导电膜。权利要求2所述的专利技术是如权利要求I所述的导电性基板，其特征在于，前述透明导电膜具有导电性图案区域和非导电性图案区域。权利要求3所述的专利技术是如权利要求2所述的导电性基板，其特征在于，在前述透明导电膜的表面上形成ー层或两层以上的光学调节层。 权利要求4所述的专利技术是如权利要求2所述的导电性基板，其特征在于，仅在前述透明导电膜的导电性图案区域的表面上形成了ー层或两层以上的光学调节层。权利要求5所述的专利技术是如权利要求3所述的导电性基板，其特征在于，在前述导电性基板的至少一面的任意ー层之间或最表面上形成有硬涂层。权利要求6所述的专利技术是如权利要求5所述的导电性基板，其特征在干，前述导电层的表面电阻值为I Ω/ □以下，前述透明导电膜的表面电阻值为100 Ω/ □以上700kΩ/ □以下。权利要求7所述的专利技术是使用权利要求6所述的导电性基板的触摸面板。权利要求8所述的专利技术是如权利要求2所述的导电性叠层体，其特征在于，通过粘接层与其它透明基板或其它导电性基板粘合而成。权利要求9所述的专利技术是如权利要求8所述的导电性基板，其特征在干，前述导电层的表面电阻值为I Ω/ □以下，前述透明导电膜的表面电阻值为100 Ω/ □以上700kΩ/ □以下。权利要求10所述的专利技术是使用权利要求9所述的导电性基板的触摸面板。权利要求11所述的专利技术是ー种导电性基板的制造方法，其特征在于，依次具有在透明基板的至少一面上形成导电层的エ序；在前述导电层的表面上形成透明导电膜的エ序。权利要求12所述的专利技术是如权利要求11所述的导电性基板的制造方法，其特征在于，在前述导电层的表面上形成透明导电膜的エ序，是在前述导电层的表面上形成具有导电性图案区域和非导电性图案区域的透明导电膜的エ序。权利要求13所述的专利技术是如权利要求12所述的导电性基板的制造方法，其特征在干，进ー步含有形成光学调节层的エ序和/或形成硬涂层的エ序。权利要求14所述的专利技术是如权利要求13所述的导电性基板的制造方法，其特征在于，通过卷对卷方式进行全部エ序。专利技术效果根据本专利技术，能够提供一种即使在透明导电膜的图案形状不显眼的导电性基板上，透明导电膜和金属配线的对位也容易进行的导电性基板及其制造方法、以及触摸面板。附图说明图I是本专利技术导电性基板的剖面例I的说明图。图2是本专利技术导电性基板的剖面例2的说明图。图3是本专利技术导电性基板的剖面例3的说明图。图4是本专利技术导电性基板的剖面例4的说明图。图5是本专利技术导电 性基板的剖面例5的说明图。图6是本专利技术导电性基板的剖面例6的说明图。图7是本专利技术导电性基板的剖面例7的说明图。图8是本专利技术导电性基板的剖面例8的说明图。图9是本专利技术导电性基板的剖面例9的说明图。图10是本专利技术导电性基板的剖面例10的说明图。图11是透明导电膜的图案例(X坐标)的说明图。图12是透明导电膜的图案例(Y坐标)的说明图。图13是透明导电膜的图案例的X坐标和Y坐标的位置关系说明图。图14是本专利技术的导电性基板的图案形成エ序例的说明图。具体实施例方式以下，使用附图对本专利技术的实施方式进行说明。另外，本专利技术并不限定于以下所述的实施方式，并且还可以基于本领域技术人员的知识进行设计的改变等变形，这种进行了该变形的实施方式也包含在本专利技术的范围内。图I是本专利技术导电性基板的剖面例I的说明图。导电性基板4由设置在透明基板I 一面上的导电层2 ;不具有图案的透明导电膜3构成。由于透明导电膜3不具有图案，因此图I的导电性基板4可以用作电阻膜式触摸面板的导电性基板。图2是本专利技术导电性基板的剖面例2的说明图。导电性基板4由设置在透明基板I 一面上的导电层2、形成有导电性图案区域3a和非导电性图案区域3b的透明导电膜3构成。由于透明导电膜3具有图案，因此图2的导电性基板4可以用作静电容量式触摸面板的导电性基板。此处，导电性图案区域是指在透明导电层中具有导电性的部分，非导电性图案区域是指在透明导电层中，除具有导电性部分的不具有导电性的部分。作为本专利技术静电容量式触摸面板的导电性基板，除了图2以外，还可以列举图3至图10的导电性基板。图3和图4分别为本专利技术导电性基板的剖面例3和4的说明图。可以像图3那样，在图2所示的透明导电膜3上设置光学调节层5。此外，还可以像图4那样，根据其结构仅在透明导电膜3的导电性图案区域3a上设置光学调节层5。图5和图6分别为本专利技术导电性基板的剖面例5和6的说明图。可以像图5那样，在图2所示的导电性基板4的至少一面上形成硬涂层6，从而形成表面硬度高，难以划伤的基板。此处，虽然例示了在形成导电层2的ー侧相反的面上形成硬涂层6的例子，但也可以适当选择导电层2和透明基板I之间；形成了导电性图案区域3a和非导电性图案区域3b的透明导电膜3的表面；或像图6那样的光学本文档来自技高网...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：小林裕，富川典俊，
申请(专利权)人：凸版印刷株式会社，
类型：发明
国别省市：
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