【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及,属于太阳能晶硅电池片制造
技术介绍
传统的二次清洗工艺方法在清洗氧化层之后需要脱水处理,目前主流的方法有甩干和经过纯水槽的慢提拉处理后烘干两种方法。机械甩干能有效的去除硅片表面的水滴,但碎片率高;而慢提拉处理能大大降低碎片率及硅片的机械损伤被广泛关注。大规模生产中,采用慢提拉处理的硅片表面容易附着一层水溶氧后与花篮接触形成的再次氧化的花篮印,镀膜后会产生明显的暗白色花篮状印记,对成品的外观影响很大。大规模生产中,采用慢提拉处理的硅片表面容易附着一层水溶氧后与花篮接触形成的再次氧化的花篮印,镀膜后会产生明显的暗白色花篮状印记,对成品的外观影响很大。传统的二次清洗工艺方法在清洗氧化层之后需要脱水处理,目前主流的方法有甩干和经过纯水槽的慢提拉处理后烘干两种方法。机械甩干能有效的去除硅片表面的水滴,但碎片率高;而慢提拉处理能大大降低碎片率及硅片的机械损伤被广泛关注。大规模生产中,采用慢提拉处理的硅片表面容易附着一层水溶氧后与花篮接触形成的再次氧化的花篮印,镀膜后会产生明显的暗白色花篮状印记,对成品的外观影响很大。本专利技术属于太阳能晶硅电池片制 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:孙良欣,张应可,陈壁滔,
申请(专利权)人:北京吉阳技术股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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