曝光装置及其使用的光掩模制造方法及图纸

本发明专利技术中，光掩模(3)具备：沿着与被曝光体的搬运方向(A)大致正交的方向以规定间距排列形成多个掩模图案(13)的多个掩模图案列(15)；与多个掩模图案列(15)的各掩模图案(13)分别对应而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案(13)缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜(14)，其中，以在位于被曝光体的搬运方向(A)的排头侧的掩模图案列(15a)所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列(15b～15d)所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将上述后续的掩模图案列(15b～15d)及与之对应的各微型透镜(14)沿着多个掩模图案(13)的上述排列方向分别错开规定尺寸。由此，在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及将被曝光体向一方向搬运、并间歇性地向该被曝光体照射曝光光而形成曝光图案的曝光装置，详细而言，涉及要在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案的曝光装置及其使用的光掩模。
技术介绍
以往的曝光装置对以恒定速度搬运的被曝光体经由光掩模间歇性地照射曝光光， 并将光掩模的掩模图案在规定位置曝光，其中，通过拍摄机构来拍摄光掩模产生的曝光位置的被曝光体的搬运方向跟前侧的位置，基于该拍摄图像来进行被曝光体与光掩模的位置对合，并控制曝光光的照射时机(例如，参照专利文献I)。在先技术文献专利文献专利文献I日本特开2008-76709号公报
技术实现思路
专利技术要解决的课题然而，在这种以往的曝光装置中，利用垂直透过光掩模的曝光光，将形成在光掩模上的掩模图案直接转印到被曝光体上，因此，由于向光掩模照射的光源光中的视角(准直半角)的存在，而被曝光体上的图案的像变得模糊，分辨率下降，可能难以曝光形成微细的图案。针对这种问题，对应于掩模图案而在光掩模的被曝光体侧设置微型透镜，从而可以通过将掩模图案缩小投影到被曝光体上来应对，但这种情况下，在沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向相邻的透镜间的部分上无法形成曝光图案，从而存在无法将微细的曝光图案在被曝光体的整面上高密度地形成这样的问题。因此，本专利技术应对这种问题点，目的在于提供一种要在被曝光体的整面上高分辨率且高密度地形成微细的曝光图案的曝光装置及其使用的光掩模。用于解决课题的手段为了实现上述目的，本专利技术涉及一种曝光装置，将被曝光体向一方向搬运并经由光掩模向所述被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在所述光掩模上的多个掩模图案而在所述被曝光体上形成曝光图案，所述曝光装置的特征在于，所述光掩模包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将所述多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。通过这种结构，将被曝光体向一方向搬运并经由如下的光掩模向被曝光体间歇性地照射曝光光，对应于形成在光掩模上的多个掩模图案而在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模包括沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于多个掩模图案列的各掩模图案而形成在被曝光体侧， 并将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，以在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸。并且，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，在该光掩模中，位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向错开向被曝光体上投影的掩模图案的投影像的、与被曝光体的搬运方向大致正交的方向的宽度的整数倍的尺寸。另外，本专利技术的光掩模使用于将被曝光体向一方向搬运并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案的曝光装置，所述光掩模的特征在于，包括沿着与所述被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于所述多个掩模图案列的各掩模图案而形成在所述被曝光体侧，并将所述各掩模图案缩小投影到所述被曝光体上的多个微型透镜，以在位于所述被曝光体的搬运方向排头侧的所述掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着所述多个掩模图案的所述排列方向分别错开规定尺寸。根据这种结构，使用如下的光掩模，将被曝光体向一方向搬运并向该被曝光体间歇性地照射曝光光而形成曝光图案，该光掩模包括沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向将多个掩模图案以规定间距排列形成的多个掩模图案列；分别对应于多个掩模图案列的各掩模图案而形成在被曝光体侧，并将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，以在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光的方式，将后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸。此外，所述后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着所述排列方向错开所述掩模图案的向所述被曝光体上的投影像的与所述多个掩模图案的所述排列方向对应的宽度的整数倍的尺寸。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，在该光掩模中，位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜分别沿着与被曝光体的搬运方向大致正交的方向错开向被曝光体上投影的掩模图案的投影像的、与被曝光体的搬运方向大致正交的方向的宽度的整数倍的尺寸。此外，所述多个掩模图案形成在透明基板的一个面上，所述多个微型透镜形成在所述透明基板的另一个面上。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模将多个掩模图案形成在透明基板的一个面上，并将所述多个微型透镜形成在所述透明基板的另一个面上。并且，一面上形成有所述多个掩模图案的掩模用基板和一面上形成有所述多个微型透镜的透镜用基板以使所述多个掩模图案与所述多个微型透镜相互对应的方式重合。由此，使用如下的光掩模，在被曝光体上形成曝光图案，该光掩模通过将一面上形成有多个掩模图案的掩模用基板和一面上形成有多个微型透镜的透镜用基板以使多个掩模图案与多个微型透镜相互对应的方式重合而形成。专利技术效果根据本专利技术的第一及第三方面，由于与各掩模图案分别对应地在被曝光体侧设置将各掩模图案缩小投影到被曝光体上的多个微型透镜，因此能够高分辨率地形成微细的曝光图案。而且，由于位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列的后续的掩模图案列及与之对应的各微型透镜沿着多个掩模图案的排列方向分别错开规定尺寸而形成，因此在位于被曝光体的搬运方向排头侧的掩模图案列所形成的多个曝光图案之间，通过后续的掩模图案列所形成的多个曝光图案能够进行插补并曝光。因此，能够在被曝光体的整面上高密度地形成曝光图案。另外，根据本专利技术的第二及第四方面，能够更高密度地排列形成曝光图案。此外，根据本专利技术的第五方面，由于将掩模图案和微型透镜一体地形成在同一透明基板上，因此不需要掩模图案与微型透镜的位置对合。因此，光掩模的处理变得容易。并且，根据本专利技术的第六方面，由于将多个掩模图案和多个微型透镜分别形成于不同的基板，因此在掩模图案具有缺陷的情况下或间距相同且进行设计变更的情况下，只要仅更换形成有掩模图案的掩模用基板即可，从而能够抑制光掩模的成本上本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】

【专利技术属性】
技术研发人员：水村通伸，
申请(专利权)人：株式会社V技术，
类型：发明
国别省市：