光刻机用近紫外光截止膜结构制造技术

一种光刻机用近紫外光截止膜结构，包括一碗状反光镜，在所述碗状反光镜上镀设一近紫外光截止膜层，该近紫外光截止膜层由二氧化锆膜层和二氧化硅膜层一隔一间隔层叠构成，该近紫外光截止膜层的层数共为36～40层；其中，第一层为二氧化钛膜层，第二层为二氧化硅膜层，依次间隔层叠。本方案解决了现有技术中在光刻过程中，紫外线经反射镜被透射到空气中，而达不到光刻面所要求的能量，从而影响光刻产品质量的问题。（*该技术在2021年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种光刻机用近紫外光截止膜结构，主要用于可见光的反射和透射。
技术介绍
由于近紫外光波长短、热效应不强等独特特性，而广泛应用于工业(半导体芯片生产、在塑料上雕刻图形)、医学装置(片上生物工厂的制造)、天文、侦破等领域。特别是随着高密度信息存储、大规模集成电路以及惯性约束核聚变等近代科学技术的发展，人们对存储密度、仪器集成度的要求越来越高，紫外波段高功率激光系统的发展愈来愈受到重视。 而紫外薄膜正是支持紫外光路系统的重要元件，它们的光学性能影响制约着整个系统的效率。随着电子业的飞速发展，对作为电子元器件基础的印制板的加工精度要求越来越高。紫外线光刻机是印制板制造工艺中的重要设备。在使用光刻机对产品进行光刻时，一般是用放电放出最大的紫外光线能量，然后通过一碗状反射镜把光线聚成一个均匀的能量源照射在光刻产品上。但使用的反射镜通常为碗状玻璃反射镜，而玻璃具有透过和反射可见光的功能，则紫外线通常有很大一部分被玻璃透射到空气中，从而达不到光刻面所要求的能量。因此如何解决在光刻过程中，紫外线经反射镜被透射到空气中，而达不到光刻面所要求的能量，是本技术所要解决的问题。
技术实现思路
本技术提供一种光刻机用近紫外光截止膜结构，其目的是解决现有技术中在光刻过程中，紫外线经反射镜被透射到空气中，而达不到光刻面所要求的能量，从而影响光刻产品质量的问题。为达到上述目的，本技术采用的技术方案是一种光刻机用近紫外光截止膜结构，包括一碗状反光镜，在所述碗状反光镜上镀设一近紫外光截止膜层，该近紫外光截止膜层由二氧化锆膜层和二氧化硅膜层一隔一间隔层叠构成，该近紫外光截止膜层的层数共为36 40层；其中，第一层为二氧化钛膜层，第二层为二氧化硅膜层，依次间隔层叠。上述技术方案中的有关内容解释如下I、上述方案中，所述近紫外光截止膜层共37层。由于上述技术方案运用，本技术与现有技术相比具有下列优点由于本技术在所述碗状反光镜上镀设一近紫外光截止膜层，该近紫外光截止膜层由二氧化锆膜层和二氧化硅膜层一隔一间隔层叠构成，并把膜层优化到了 37层，在达到光刻面所要求的能量的同时，既缩短了生产时间，又提高了生产的效率。附图说明附图I为在不同波长对应的反射率曲线图；附图2为本技术截面示意图。以上附图中1、碗状反光镜；2、近紫外光截止膜层；3、二氧化锆膜层；4、二氧化硅膜层。具体实施方式以下结合附图及实施例对本技术作进一步描述实施例—种光刻机用近紫外光截止膜结构，包括一碗状反光镜I，在所述碗状反光镜I上镀设一近紫外光截止膜层2，该近紫外光截止膜层2由二氧化锆膜层3和二氧化硅膜层4 一隔一间隔层叠构成，该近紫外光截止膜层2的层数共为36 40层；其中，第一层为二氧化钛膜层3，第二层为二氧化硅膜层4，依次间隔层叠。所述近紫外光截止膜层2共37层。近紫外截止膜(UV-CTT)是一种波长范围在350-430nm范围内的不可见光线。在设计这个光学膜的时候，不用我们常用的Tio2+Sio2组合镀这个紫外膜，而是选择了 Zro2+Sio2 组合一隔一间隔层叠构成，主要是因为TiO2膜层在350-400nm有很大的吸收，不能使紫外光达到最大的反射率。而ZrO2膜层在350-400nm处紫外光就很有好的反射效果，吸收明显比用TiO2效果低。在最先用Tio2+Sio2膜层镀制膜的时候，镀制39层，同样的截制深度，测出的实际曝光面能量一直小于IOmW/cm2,而客户所需的曝光面能量值要大于20mW/cm2,反复镀制几次后确认下来是由材料的吸收造成的曝光能量值小，通过材料筛选选用Zix)2+Si02 膜层镀制膜的时候，同样镀制39层，测出的曝光值达到了 18mW/cm2，这就说明21~02膜层对紫外光吸收远小于Tio2膜层。然后又对膜系的截止度做了优化，由原来的98%提高到99%， 把紫外光截止宽度由原来的350-430nm拉宽到350_450nm，反复镀制同次后，测试曝光能量值达到了 20mW/cm2以上，最高时可达到28mW/cm2，足以达到光刻面所要求的能量。最后为了便于生产和控制，把膜层优化到了 37层，这样又满足了客户的要求，缩短了生产时间，也提闻了生广的效率。上述实施例只为说明本技术的技术构思及特点，其目的在于让熟悉此项技术的人士能够了解本技术的内容并据以实施，并不能以此限制本技术的保护范围。 凡根据本技术精神实质所作的等效变化或修饰，都应涵盖在本技术的保护范围之内。权利要求1.一种光刻机用近紫外光截止膜结构，包括一碗状反光镜(I)，其特征在于在所述碗状反光镜(I)上镀设ー近紫外光截止膜层(2)，该近紫外光截止膜层(2)由ニ氧化锆膜层(3)和ニ氧化硅膜层(4) ー隔ー间隔层叠构成，该近紫外光截止膜层(2)的层数共为36 40层；其中，第一层为ニ氧化钛膜层(3)，第二层为ニ氧化硅膜层(4)，依次间隔层叠。2.根据权利要求I所述的光刻机用近紫外光截止膜结构，其特征在于所述近紫外光截止膜层⑵共37层。专利摘要一种光刻机用近紫外光截止膜结构，包括一碗状反光镜，在所述碗状反光镜上镀设一近紫外光截止膜层，该近紫外光截止膜层由二氧化锆膜层和二氧化硅膜层一隔一间隔层叠构成，该近紫外光截止膜层的层数共为36～40层；其中，第一层为二氧化钛膜层，第二层为二氧化硅膜层，依次间隔层叠。本方案解决了现有技术中在光刻过程中，紫外线经反射镜被透射到空气中，而达不到光刻面所要求的能量，从而影响光刻产品质量的问题。文档编号B32B9/00GK202351442SQ20112041706公开日2012年7月25日 申请日期2011年10月28日 优先权日2011年10月28日专利技术者朱文斌 申请人:苏州灵菱照明镀膜科技有限公司本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：朱文斌，
申请(专利权)人：苏州灵菱照明镀膜科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：