透明导电性薄膜及触摸面板制造技术

本发明专利技术涉及透明导电层进行了图案化且能够抑制因图案部和图案开口部的正下方之间的反射光的色相的差异导致的外观恶化的透明导电性薄膜，以及使用其的触摸面板。本发明专利技术的透明导电性薄膜(10)在透明基材(1)上依次形成有第1透明电介质层(2)及透明导电层(4)。优选的是，在将对图案部(P)照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*P及b*P、将对图案开口部(O)的正下方照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为a*O及b*O时，满足0≤|a*P-a*O|≤4.00的关系，且满足0≤|b*P-b*O|≤5.00的关系。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及透明导电性薄膜及使用其的触摸面板。
技术介绍
在可见光线区域透明且具有导电性的透明导电性部件，除了用于液晶显示器、场致发光显示器等显示器、触摸面板等的透明电极以外，还用于物品的防静电、电磁波阻断寸。以往，作为透明导电性部件，已知的是在玻璃上形成有氧化铟薄膜的所谓导电性玻璃，但是导电性玻璃由于基材为玻璃，因此挠性、加工性差，根据用途的不同，有时使用困难。因此，近年来，从挠性、加工性以及耐冲击性优异、轻量等优点考虑，使用将以聚对苯二甲酸乙二醇酯为首的各种塑料薄膜作为基材的透明导电性薄膜。作为触摸面板等中用于检测输入位置的透明导电性薄膜，已知有具备具有规定的图案形状的透明导电层的透明导电性薄膜。但是，将透明导电层图案化时，图案部和图案开口部(非图案部)的差异明确化，有显示元件的外观变差之虞。为了改善将透明导电层图案化时的外观，例如，在下述专利文献1中提出了在透明基材和透明导电层之间形成透明电介质层的方案。现有技术文献专利文献专利文献1 日本特开2009-76432号公报
技术实现思路
专利技术要解决的问题然而，在以往的透明导电性薄膜中，图案部和图案开口部的正下方之间的反射光的色相的差异导致图案部和图案开口部的边界明确化，其结果，有显示元件的外观变差之虞。因此，本专利技术提供透明导电层进行了图案化的、可以抑制由图案部和图案开口部的正下方之间的反射光的色相的差异导致的外观恶化的透明导电性薄膜和使用其的触摸面板。用于解决问题的方案为了达成上述目的，本专利技术的透明导电性薄膜的特征在于，其为在透明基材上依次形成有第1透明电介质层及透明导电层的透明导电性薄膜，上述透明导电层通过图案化形成有图案部和图案开口部，在将对上述图案部照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为及b*P、将对上述图案开口部的正下方照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为 < 及时，满足0彡a*p-a*0l彡4.00的关系，且满足 O^ |b*P-b*ol彡5. 00的关系。需要说明的是，上述“反射光”是指，利用碘钨灯，以10度入射角从透明导电层侧向图案部或图案开口部正下方照射白色光时的反射光。利用本专利技术的透明导电性薄膜，由于图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异得到抑制，因此难以辨别图案部和图案开口部，能够提供外观良好的透明导电性薄膜。本专利技术的透明导电性薄膜优选的是，进一步具有配置在上述第1透明电介质层和上述透明导电层之间的、折射率与上述第1透明电介质层不同的第2透明电介质层。这是因为，能够降低图案部和图案开口部正下方之间的反射率差，从而可进一步抑制图案部和图案开口部的差异。本专利技术的透明导电性薄膜进一步具有上述第2透明电介质层时，优选上述第1透明电介质层的光学厚度为3 45nm、优选上述第2透明电介质层的光学厚度为3 50nm、优选上述透明导电层的光学厚度为20 lOOnm，将上述第2透明电介质层的折射率设为nl、 将上述透明导电层的折射率设为n2时，优选满足nl <n2的关系。这是因为，利用该构成， 可进一步抑制图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异。另外，由于能够进一步降低图案部和图案开口部正下方之间的反射率差，因此可进一步抑制图案部和图案开口部的差异。需要说明的是，各层的“光学厚度”是指，各层的物理厚度(利用厚度计等测定出的厚度)乘以该层的折射率所得的值。另外，本专利技术中的折射率是对波长589. 3nm的光的折射率。需要说明的是，本专利技术中，物理厚度仅称为“厚度”。上述第2透明电介质层优选通过图案化而形成图案部和图案开口部。这是因为， 利用该构成，可进一步抑制图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异。该情况下，优选上述透明导电层的图案部和上述第2透明电介质层的图案部一致。这是因为，利用该构成，可进一步抑制图案部和图案开口部正下方之间的反射光的色相的差异，而且可进一步降低图案部和图案开口部正下方之间的反射率差。本专利技术的触摸面板为包含上述本专利技术的透明导电性薄膜的触摸面板。利用本专利技术的触摸面板，可得到与上述本专利技术的透明导电性薄膜的效果同样的效果。附图说明图1是表示本专利技术的透明导电性薄膜的一例的剖面图。图2是表示本专利技术的透明导电性薄膜的另外的一例的剖面图。图3中A C是表示本专利技术的透明导电性薄膜的其他例的剖面图。具体实施例方式以下，参照附图对本专利技术的实施方式进行说明。需要说明的是，对于相同的构成要素附上相同的符号而省略重复的说明。图1是表示本专利技术的透明导电性薄膜的一例的剖面图。图1所示的透明导电性薄膜10包括透明基材1、和在该透明基材1上依次形成的第1透明电介质层2、第2透明电介质层3及透明导电层4。透明导电层4及第2透明电介质层3进行了图案化，分别形成有图案部P和图案开口部0。另外，透明导电层4的图案部P和第2透明电介质层3的图案部P—致。而且，关于透明导电性薄膜10，在将对透明导电层4的图案部P照射白色光时的反射光的色相a*值及色相b*值分别设为力及b*P、将对透明导电层4的图案开口部0的正下方照射白色光时的反射光的色相f值及色相b*值分别设为< 及时，满足 O^ a*p-a*ol彡4. 00的关系，且满足0彡|b*p-b*ol彡5. 00的关系。由此，图案部P和图案开口部0的正下方之间的反射光的色相的差异得到抑制，从而难以辨别图案部P和图案开口部0，能够形成外观良好的透明导电性薄膜10。需要说明的是，所谓“图案开口部0的正下方”，在图1的情况下，是指面向图案开口部0的第1透明电介质层2的表面。为了进一步抑制透明导电性薄膜10中上述反射光的色相的差异，优选的是，满足0彡a*p-a*ol彡3. 00 的关系，且满足0彡|b*P-b*0l彡4. 50的关系。从同样的观点考虑，I心-的值更优选为 0 2. 00、进一步优选为0 1. 00、更进一步优选为0 0. 70。从进一步抑制透明导电性薄膜10中图案部P和图案开口部0的正下方之间的反射光的色相的差异的观点、以及降低图案部P和图案开口部0的正下方之间的反射率差从而进一步抑制图案部P和图案开口部0的差异的观点考虑，优选透明导电性薄膜10满足以下的条件。即，优选的是，透明导电性薄膜10中，第1透明电介质层2的光学厚度为3 45nm、第2透明电介质层3的光学厚度为3 50nm、透明导电层4的光学厚度为20 lOOnm， 且在将第2透明电介质层3的折射率设为nl、透明导电层4的折射率设为n2时，满足nl < n2的关系。各层的光学厚度的更优选的范围是，第1透明电介质层2为3 22nm、第2 透明电介质层3为3 40nm、透明导电层4为20 75nm。作为透明基材1，没有特别的限制，可使用具有透明性的各种塑料薄膜。例如，作为其材料，可列举出聚酯系树脂、醋酸酯系树脂、聚醚砜系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚酰胺系树脂、聚酰亚胺系树脂、聚烯烃系树脂、(甲基)丙烯酸系树脂、聚氯乙烯系树脂、聚偏二氯乙烯系树脂、聚苯乙烯系树脂、聚乙烯醇系树脂、聚芳酯系树脂、聚苯硫醚系树脂等。其中，特别优选的是聚酯系树脂、聚碳酸酯系树脂、聚烯烃系树脂。另外，也可以使用日本特开2001-3435 号公报(W001/37007)中记载的高分子薄膜。例如，可例示出含本文档来自技高网...

【技术保护点】

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中岛一裕，菅原英男，梨木智刚，
申请(专利权)人：日东电工株式会社，
类型：发明
国别省市：