【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种烷类化工产品,特别是一种精馏与吸附组合方式制备高纯四氟甲烷方法的工艺技术,适合于化工合成四氟甲烷。
技术介绍
四氟化碳是不燃烧的无色、无味的高压液化气体。四氟化碳是目前微电子工业中用量最大的等离子蚀刻气体,在电子器件表面清洗,太阳能电池的生产,激光技术、气相绝缘、低温制冷、泄漏检验剂、控制宇宙火箭姿态,印刷电路生产中的去污剂等方面也大量使用。由于它的化学稳定性,四氟化碳可用于金属冶炼,例如铜、不锈钢,碳钢、铝、蒙乃尔等; 还可用于塑料行业;如合成橡胶、氯丁橡胶、还可广泛应用于硅、二氧化硅、氮化硅,磷硅玻璃及钨等薄膜材料的蚀刻,在电子器件表面清洗。原有技术不能连续生产,设备运行不稳定,能耗高,产品纯度低。
技术实现思路
本专利技术所要解决的问题在于,克服现有技术的不足,现有技术不能生产高纯的四氟甲烷,本技术提供了一种制备高纯四氟甲烷方法工艺技术。该技术不仅工艺合理,制备简单,而且为生产的四氟甲烷纯度提高到5N (99. 999%),并解决了环境污染问题。本专利技术采用的技术方案是一种采用精馏与吸附组合方式制取高纯四氟甲烷的方法,其特征在于,在催化剂C ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:原东风,
申请(专利权)人:天津市泰源工业气体有限公司,
类型:发明
国别省市:
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