太阳能级硅片水基清洗剂及其制备方法技术

一种太阳能级硅片水基清洗剂，由下列重量份的原料制成：氢氟酸2-3、二甲苯磺酸钠1-2、壬基酚聚氧乙烯醚2-3、十二烷基二甲基氧化胺1-2、月桂醇聚氧乙烯醚3-5、二氯四氟甲烷6-8、丙二醇9-12、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120。本发明专利技术不仅可以有效的去除硅片表面的有机、无机污染，而且可以去除附着在硅片表面的金属、非金属颗粒，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。本发明专利技术的清洗液配方简单，清洗效果好，且清洗方法简单，清洗时间短，清洗需要的温度不高。本发明专利技术的助剂能够在电路板表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀电路板，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及清洗剂领域，尤其涉及一种。
技术介绍
硅片清洗剂广泛应用于光伏，电子等行业硅片清洗；由于硅片在运输过程中会有所污染，表面洁净度不是很高，对即将进行的腐蚀与刻蚀产生很大的影响，所以首先要对硅片表面进行一系列的清洗操作。清洗的一般思路首先是去除表面的有机沾污，然后溶解氧化膜，因为氧化层是“沾污陷进”，会引起外延缺陷；再去除颗粒、金属等，同时使硅片的表面钝化。目前多数娃片清洗剂米用RAC清洗中的一号液和三号液,但是一号液显碱性,可能会造成硅表面粗糙，要严格控制温度、浓度和时间；三号液显酸性，有强腐蚀性，对人体健康也不利，生产成本高，有刺激性气味，污染环境，因此需要进一步改进配方，以达到清洁彻底、无污染、腐蚀小、对人体健康、电路安全、降低成本的目的。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种，该清洗剂具有清洁彻底、清洁速度快、清 洗简单的优点。本专利技术的技术方案如下:一种太阳能级硅片水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成:氢氟酸2-3、二甲苯磺酸钠1-2、壬基酚聚氧乙烯醚2-3、十二烷基二甲基氧化胺1-2、月桂醇聚氧乙烯醚3-5、二氯四氟甲烷6-8、丙二醇9-12、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120 ；所述助剂由下列重量份的原料制成:硅烷偶联剂KH-570 2-3、抗氧剂1035 1_2、植酸1-2、吗啉3_4、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯3_4、乙醇12-15 ;制备方法是将硅烷偶联剂KH-570、植酸、乙醇混合，加热至60-70°C，搅拌20-30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80-85°C，搅拌30-40分钟，即得。所述太阳能级硅片水基清洗剂的制备方法，其特征在于包括以下步骤:将去离子水、氢氟酸、二甲苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、十二烷基二甲基氧化胺、月桂醇聚氧乙烯醚、丙二醇、乙醇混合，在1000-1200转/分搅拌下，以6-8°C /分的速率加热到60_70°C，加入其他剩余成分，继续搅拌15-20分钟，即得。本专利技术的有益效果本专利技术不仅可以有效的去除硅片表面的有机、无机污染，而且可以去除附着在硅片表面的金属、非金属颗粒，从而提高了太阳能电池片的优质率与效率。本专利技术的清洗液配方简单，清洗效果好，且清洗方法简单，清洗时间短，清洗需要的温度不高。本专利技术的助剂能够在电路板表面形成保护膜，隔绝空气，防止大气中水及其他分子腐蚀电路板，抗氧化，方便下一步制作工艺进行。【具体实施方式】一种太阳能电池硅片清洗剂，由下列重量份(公斤)的原料制成:氢氟酸2.5、二甲苯磺酸钠1.5、壬基酚聚氧乙烯醚2.5、十二烷基二甲基氧化胺1.6、月桂醇聚氧乙烯醚4、二氯四氟甲烷7、丙二醇11、乙醇36、助剂4.5、去离子水110 ；所述助剂由下列重量份(公斤)的原料制成:硅烷偶联剂KH-570 2.5、抗氧剂10351.5、植酸1.5、吗啉3.5、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯3.5、乙醇14 ;制备方法是将硅烷偶联剂KH-570、植酸、乙醇混合，加热至65°C，搅拌25分钟后，再加入其它剩余成分，升温至84°C，搅拌34分钟，即得。所述太阳能级硅片水基清洗剂的制备方法，包括以下步骤:将去离子水、氢氟酸、二甲苯磺酸钠、壬基酚聚氧乙烯醚、十二烷基二甲基氧化胺、月桂醇聚氧乙烯醚、丙二醇、乙醇混合，在1100转/分搅拌下，以7V /分的速率加热到65°C，加入其他剩余成分，继续搅拌17分钟，即得。该太阳能级硅片水基清洗剂用于清洗太阳能电池硅片，洗净率为99.2%，对洗净硅片表面不会残留不溶物，不产生新污染，不影响产品的质量，洗净后的硅片表面干净，色泽一致，无花斑。`本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种太阳能级硅片水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成：氢氟酸2?3、二甲苯磺酸钠1?2、壬基酚聚氧乙烯醚2?3、十二烷基二甲基氧化胺1?2、月桂醇聚氧乙烯醚3?5、二氯四氟甲烷6?8、丙二醇9?12、乙醇30?40、助剂4?5、去离子水100?120；所述助剂由下列重量份的原料制成：硅烷偶联剂KH?570?2?3、抗氧剂1035?1?2、植酸1?2、吗啉3?4、甲基丙烯酸?2??羟基乙酯3?4、乙醇12?15；制备方法是将硅烷偶联剂KH?570?、植酸、乙醇混合，加热至60?70℃，搅拌20?30分钟后，再加入其它剩余成分，升温至80?85℃，搅拌30?40分钟，即得。

【技术特征摘要】
1.一种太阳能级硅片水基清洗剂，其特征在于由下列重量份的原料制成:氢氟酸2-3、二甲苯磺酸钠1-2、壬基酚聚氧乙烯醚2-3、十二烷基二甲基氧化胺1-2、月桂醇聚氧乙烯醚3-5、二氯四氟甲烷6-8、丙二醇9-12、乙醇30-40、助剂4-5、去离子水100-120 ；所述助剂由下列重量份的原料制成:硅烷偶联剂KH-570 2-3、抗氧剂1035 1_2、植酸1-2、吗啉3_4、甲基丙烯酸-2-羟基乙酯3_4、乙醇12-15 ;制备方法是将硅烷偶联剂KH-...

【专利技术属性】
技术研发人员：郭万东，孟祥法，董培才，
申请(专利权)人：合肥中南光电有限公司，
类型：发明
国别省市：