含氟共聚物组合物及其制造方法技术

本发明专利技术提供能在较低的温度下制造的含有乙烯／四氟乙烯共聚物等含氟共聚物的组合物及其制造方法。所述含氟共聚物组合物的特征在于，含有乙烯／四氟乙烯共聚物等含氟共聚物和含氟芳香族化合物，所述含氟芳香族化合物的熔点在２３０℃以下，且化合物中的氟含量为５～７５质量％，所述含氟共聚物组合物在所述含氟共聚物的熔点以下的温度下呈溶液状态；所述含氟共聚物组合物的制造方法包括在含氟共聚物的熔点以下的温度下将所述含氟共聚物溶解于包含所述含氟芳香族化合物的溶剂的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
氟树脂由于耐溶剂性、低感应性、低表面能性、非粘接性、耐候性等优良，因此被用于无法使用通用塑料的各种用途。其中，乙烯/四氟乙烯共聚物(下面也将四氟乙烯称作 TFE，将乙烯/四氟乙烯共聚物称作ETFE)是耐热性、难燃性、耐化学性、耐候性、低摩擦性、 低感应特性、透明性等优良的氟树脂，因此被用于耐热电线用被覆材料、化工厂用耐腐蚀配管材料、农业用塑料大棚用材料、模具用脱模膜等各种领域。但是，不同于可溶于N-甲基吡咯烷酮等的聚偏氟乙烯，ETFE—般不溶于溶剂，无法通过涂布等形成薄膜，因此其成形方法局限于挤出成形、注塑成形、粉体涂装等熔融成形。至今为止有尝试获得ETFE的溶液的报道。虽然将己二酸二异丁酯等二元羧酸二酯用作溶剂获得了 ETFE溶液，但溶解温度需要达到230°C、260 265°C或290°C这样的高温(参照专利文献1、专利文献2、专利文献幻。此外，也报道了使用低分子量的三氟氯乙烯聚合物作为溶剂的例子，但还是需要加热至聚合物的熔点附近。此外，还有由于溶剂的沸点高，因此难以用于涂布，且由该溶剂得到的分散液在室温附近丧失流动性的记载(参照专利文献4)。另一方面，报道了在高温高压条件下以酮类、氢氟烃类等作为溶剂用于瞬时纺丝 (flash spinning)的例子。但是，由于这些方法均在13MPa以上的非常高的压力条件下实施，因此需要特殊的装置，难以应用于该用途以外的用途，例如根本无法用于薄膜、膜、中空丝等多孔体的制造(参照专利文献5)。因此，至今为止的例子在实际操作层面并不容易实行，尚未知晓在较低的温度下获得ETFE溶液的容易执行的技术或方法。专利文献1 美国专利第M12960号说明书 专利文献2 美国专利第M48952号说明书 专利文献3 美国专利第M84483号说明书 专利文献4 美国专利第4933388号说明书 专利文献5 日本专利特表2000-503731号公报 专利技术的揭示 本专利技术是鉴于上述事实而完成的专利技术，其目的在于提供能制造涂覆薄膜和高强度且具有均质的细孔径的含氟共聚物多孔体、并且能在较低的温度下制造的包含基于乙烯和 TFE的重复单元的含氟共聚物的组合物，以及在较低的温度下制造该含氟共聚物组合物的方法。本专利技术提供具有以下构成的。含氟共聚物组合物，其特征在于，含有含氟共聚物和含氟芳香族化合物，所述含氟共聚物包含基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元，所述含氟芳香族化合物的熔点在230°C以下，且化合物中的氟含量为5 75质量％ ；所述含氟共聚物组合物至少在所述含氟共聚物的熔点以下的温度范围内存在呈溶液状态的温度范围。上述所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟共聚物的含量相对于组合物总量为0. 1 80质量％。上述或所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟芳香族化合物是以下式(I)表示的化合物； 权利要求1.含氟共聚物组合物，其特征在于，含有含氟共聚物和含氟芳香族化合物，所述含氟共聚物包含基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元，所述含氟芳香族化合物的熔点在230°C以下，且化合物中的氟含量为5 75质量％ ；所述含氟共聚物组合物至少在所述含氟共聚物的熔点以下的温度范围内存在呈溶液状态的温度范围。2.如权利要求1所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟共聚物的含量相对于组合物总量为0. 1 80质量％。3.如权利要求1或2所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟芳香族化合物是以下式⑴表示的化合物；R1(ι)式(I)中，Z为N或CR4，R1 R6分别独立地表示氢原子、卤素原子、-X1、-CN、-N02、-N X22、-C00H、-C00X3、-CH0、-C0X4、-OH、-0X5、-0C0H、-0C0X6、-S020H、-S02C1、-S02F、-S02H、-S02X7 、-SF5、-0S02X8或-0C00X9，Z为N时，所述Rl R6不包括R4 ；Xl X9分别独立地表示可被卤素基团或羟基取代且键末端以外的任意-CH2-可被氧原子取代的碳数1 20的烷基、 链烯基或炔基，或者表示可被选自所述烷基、所述链烯基、所述炔基和商素基团的基团取代的苯基；Rl R6中的相邻的两个可以结合而形成可被选自所述烷基、所述链烯基、所述炔基和卤素基团的基团取代的五元 六元的环，此时，构成所述环的原子可包括选自氧原子、 氮原子和硫原子的杂原子，Z为N时，所述Rl R6不包括R4;式(I)具有至少一个氟原子。4.如权利要求3所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟芳香族化合物是满足以下条件的化合物所述式(I)中的Z为N或CR4，Rl R6分别独立地为氢原子、氟原子、氯原子、-XI、-CN、-N02、-C00H、-C00X3、-C0X4、-0X5、-0C0X6、-S02C1、-SF5、-0S02X8 或-0C00X9，或者Rl R6中的相邻的两个结合而形成六元的芳香环，并且式(I)中具有至少两个氟原子，Z为N时，所述Rl R6不包括R4 ；Xl X9中除X2、X7以外分别独立地表示可被卤素基团或羟基取代且键末端以外的任意-CH2-可被氧原子取代的碳数1 20的烷基，或者表示可被选自所述烷基和卤素基团的基团取代的苯基，由Rl R6中的相邻的两个形成的芳香环可被选自所述烷基和卤素基团的基团取代。5.如权利要求1或2所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟芳香族化合物是选自含氟苄腈、含氟苯甲酸及其酯、含氟多环芳香族化合物、含氟硝基苯、含氟苯基烷基醇、 含氟苯酚及其酯、含氟芳香族酮、含氟芳香族醚、含氟芳香族磺酰化合物、含氟吡啶化合物、 含氟芳香族碳酸酯、全氟烷基取代的苯、全氟苯、苯甲酸的多氟烷基酯、邻苯二甲酸的多氟烷基酯和三氟甲磺酸的芳基酯的一种以上。6.如权利要求1或2所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，所述含氟芳香族化合物是具有至少两个以上的氟原子的选自含氟苄腈、含氟苯甲酸及其酯、含氟多环芳香族化合物、 含氟硝基苯、含氟苯基烷基醇、含氟苯酚的酯、含氟芳香族酮、含氟芳香族醚、含氟芳香族磺酰化合物、含氟吡啶化合物、含氟芳香族碳酸酯、全氟烷基取代的苯、全氟苯、苯甲酸的多氟烷基酯、邻苯二甲酸的多氟烷基酯和三氟甲磺酸的芳基酯的一种以上。7.如权利要求1 6中的任一项所述的含氟共聚物组合物，其特征在于，还含有含氟芳香族化合物以外的有机溶剂。8.权利要求1 7中的任一项所述的含氟共聚物组合物的制造方法，其特征在于，包括在含氟共聚物的熔点以下的温度下将含氟共聚物溶解于所述含氟芳香族化合物或包含所述含氟芳香族化合物的混合有机溶剂的工序，所述含氟共聚物包含基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元。9.如权利要求8所述的含氟共聚物组合物的制造方法，其特征在于，所述温度是比含氟共聚物的熔点低30°C以上的温度。10.由含氟共聚物形成的薄膜，其特征在于，用权利要求1 7中的任一项所述的含氟共聚物组合物形成。全文摘要本专利技术提供能在较低的温度下制造的含有乙烯/四氟乙烯共聚物等含氟共聚物的组合物及其制造方法。所述含氟共聚物组合物的特征在于，含有乙烯/四氟乙烯共聚物等含氟共聚物和含氟芳香族化合物，所述含氟芳香族化合物的熔点在230℃以下，且化合物中的氟含量为5～7本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．含氟共聚物组合物，其特征在于，含有含氟共聚物和含氟芳香族化合物，所述含氟共聚物包含基于乙烯的重复单元和基于四氟乙烯的重复单元，所述含氟芳香族化合物的熔点在２３０℃以下，且化合物中的氟含量为５～７５质量％；所述含氟共聚物组合物至少在所述含氟共聚物的熔点以下的温度范围内存在呈溶液状态的温度范围。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：中野贵志，
申请(专利权)人：旭硝子株式会社，
类型：发明
国别省市：JP