【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术一般地涉及低压等离子体反应器,更具体地涉及在低压等离子体反应器中 产生纳米颗粒的方法。
技术介绍
纳米技术的出现在很多
产生根本性的变化,这是因为在纳米级尺度,许 多材料的性质发生改变。例如,一些结构的尺寸降低至纳米级可以增大表面积与体积之比, 从而使材料的电、磁、活性、化学、结构以及热的性质发生改变。纳米材料已经找到商业应 用,并且可能在接下来的几十年中存在于计算机、光伏、光电子、药物/制药、结构材料、军 事应用等所有事物中。初期的研究努力集中在多孔硅上,但是很多兴趣和努力已经从多孔硅转移到了硅 纳米颗粒。小硅纳米颗粒(< 5nm)的一个主要特征是这些颗粒在被较低波长源(UV)激励 时能够进行可见的光致发光。这被认为是由在纳米颗粒的直径小于激子半径时发生的量 子限制效应导致的,其引起带隙弯曲(即,间隙的增加)。图IA示出了纳米颗粒的带隙能 量(单位为电子伏特)与纳米颗粒的直径(单位为纳米)的函数关系(见T. Takagahara 和K. Takeda, Phys. Rev. B, 46,15578 (1992))。尽管硅在体材料情况下是间 ...
【技术保护点】
1.一种低压高频脉冲等离子体反应器系统,包括:流量控制器,用于控制至少一种前驱体气体的流量;腔室,被配置为接纳至少一个基板,并且能够被抽真空至所选压强;等离子体源,用于从所述至少一种前驱体气体生成等离子体;以及甚高频射频功率源,用于以基于脉冲射频功率源和等离子体之间的耦合效率选择的射频向等离子体提供脉冲射频功率,其中所述射频功率的至少一个参数能够基于通过向等离子体提供脉冲射频功率而形成的纳米颗粒的至少一个性质而被选择。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。