本发明专利技术提供具有高立构规整度、特别是高全同立构规整度的多官能聚合物及其制造方法。本发明专利技术涉及分子内具有下述通式（２）表示的重复单元、且全同二元组（ｍ）与间同二元组（ｒ）之比（ｍ∶ｒ）为６０∶４０～１００∶０的聚合物，其化学修饰体以及它们的制造方法。通式（２）中，Ｒ１和Ｒ２不同，表示氢原子、烷基、芳基等，＊表示不对称碳。
【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
通过乙烯基单体的自由基聚合，一般难以得到立构规整性聚合物、特别是全同立构聚合物。迄今为止，唯一报道过几种具有体积大的酯取代基的甲基丙烯酸酯和甲基丙烯酰胺聚合物采用全同立构结构(非专利文献1)，但是该聚合物的制造困难且在数十度的加热下即分解等，非常不稳定。另外，这些聚合物在分子内仅具有一种酯基或酰胺基作为官能团，难以制造多官能化的聚合物。另外，非专利文献2中记载了在单体结构单元中具有羟基和羧基的双官能聚合物的制造方法。但是，所得的双官能聚合物并不是具有立构规整度、特别是高全同立构规整度的聚合物。而且，形成了多个来自全同立构结构或间同立构结构的分子内内酯，不适合制造有效地发挥羟基和羧基的功能的多官能聚合物。另外，专利文献1中报道了通过活性自由基聚合来制造立构规整性聚合物的技术。但是，可以理解为所述聚合物是以N-异丙基丙烯酰胺为代表的单官能聚合物，并且全同立构规整度未必高。非专利文献 1 Hoshikawa, N. ；Hotta, Y. ；Okamoto, Y. J. Amer. Chem. Soc. 2003， 125(41)，12380##^lJ ^lK 2 =Miyagawa, T. =Sanda, F. ；Endo, T. J. Polym. Sci. Part A =Polym. Chem. 2001，39，1629
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供具有高立构规整度、特别是高全同立构规整度的多官能聚合物及其制造方法。本专利技术人鉴于上述课题进行了深入研究，结果发现，使用由L-乳酸或发酵乳酸衍生的在2位上具有不对称碳的5-亚甲基-1，3-二氧戊环-4-酮衍生物作为原料单体进行自由基聚合反应，可以得到具有高立构规整度(特别是全同立构规整度)的聚合物。并且还发现，通过将所得聚合物水解，能够转变为在同一个碳上具有羟基和羧基的多官能聚合物。 基于该见解进一步反复进行了研究，结果完成了本专利技术。S卩，本专利技术提供多官能的聚合物及其制造方法。第1项.一种聚合物，分子内具有通式(2)表示的重复单元，该聚合物中的全同二元组(m)与间同二元组(r)之比(m r)为60 40 100 0，权利要求1.一种聚合物，分子内具有通式(2)表示的重复单元，该聚合物中的全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0，2.一种权利要求1所述的聚合物的制造方法，其特征在于，使包含通式(1)表示的化合物的单体进行自由基聚合，3.一种聚合物的制造方法，用于制造分子内具有通式(3)表示的重复单元、且全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0的聚合物，所述方法的特征在于，使包含通式(1)表示的化合物的单体进行自由基聚合来制造权利要求1所述的聚合物， 然后将该聚合物水解，4. 一种聚合物的制造方法，用于制造分子内具有通式C3)表示的重复单元、且全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0的聚合物，所述方法的特征在于，将权利要求1所述的聚合物水解，式中，Y表示氢原子或抗衡阳离子。5. 一种聚合物的制造方法，用于制造分子内具有通式(4)表示的重复单元、且全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0的聚合物，所述方法的特征在于，使通式(5)表示的化合物与权利要求1所述的聚合物反应，式中，R3和R4相同或不同，表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基或可具有取代基的杂芳基，或者R3和R4可以相互键合而与邻接的氮N —起形成环， HNR3R4 (5) 式中，R3和R4与前述相同。6. 一种聚合物的制造方法，用于制造分子内具有通式(6)表示的重复单元、且全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0的聚合物，所述方法的特征在于，使具有通式(7)表示的键的化合物与权利要求1所述的聚合物反应，式中，R1和R2不同，表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基或可具有取代基的杂芳基，或者R1和R2可以相互键合而与邻接的碳一起形成不对称的环，R5表示可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基或可具有取代基的杂芳基，Y表示氢原子或抗衡阳离子，7. 一种聚合物的制造方法，用于制造分子内具有通式(8)表示的重复单元、且全同二元组m与间同二元组r之比即m r为60 40 100 0的聚合物，所述方法的特征在于，将权利要求1所述的聚合物还原，8. 一种化合物，由通式(Ic)表示，全文摘要本专利技术提供具有高立构规整度、特别是高全同立构规整度的多官能聚合物及其制造方法。本专利技术涉及分子内具有下述通式(2)表示的重复单元、且全同二元组(m)与间同二元组(r)之比(m∶r)为60∶40～100∶0的聚合物，其化学修饰体以及它们的制造方法。通式(2)中，R1和R2不同，表示氢原子、烷基、芳基等，*表示不对称碳。文档编号C08F8/02GK102292360SQ201080005509 公开日2011年12月21日 申请日期2010年1月25日 优先权日2009年1月26日专利技术者田中均 申请人:国立大学法人德岛大学本文档来自技高网...
【技术保护点】
１．一种聚合物，分子内具有通式（２）表示的重复单元，该聚合物中的全同二元组ｍ与间同二元组ｒ之比即ｍ∶ｒ为６０∶４０～１００∶０，式中，Ｒ１和Ｒ２不同，表示氢原子、可具有取代基的烷基、可具有取代基的芳基或可具有取代基的杂芳基，或者Ｒ１和Ｒ２可以相互键合而与邻接的不对称碳Ｃ＊一起形成不对称的环，＊表示不对称碳。
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...
【专利技术属性】
技术研发人员：田中均，
申请(专利权)人：国立大学法人德岛大学，
类型：发明
国别省市：JP
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