一种用于微晶玻璃的纳米抛光液及其制备方法技术

本发明专利技术涉及一种用于微晶玻璃的抛光液及其制备方法。该抛光液中研磨剂的内核为氧化铝、二氧化硅、二氧化铈、二氧化锆、二氧化钛纳米粒子的一种，并通过硅烷偶联剂改性形成中间过渡层，最后用环氧树脂(E-44)和聚丙烯酰胺(PAM)接枝包覆得到复合磨粒。本发明专利技术方法制得的复合磨粒，有效的降低了无机纳米粒子的硬度，该核/壳型结构实现了在加压、加速抛光条件下，抛光微区内磨粒对工件表面的“软冲击”，从而改善抛光划痕和表面损伤，并降低粗糙度。且该复合磨粒具有良好的水分散性，抛光液具有良好的分散稳定性，减轻了颗粒团聚。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及，主要用于微晶玻璃的抛光加工工艺过程中，属表面抛光加工

技术介绍
今年来，随着存储器硬盘容量及存储密度的快速上升，计算机磁头的飞行高度以降低到IOnm左右。随着磁头与磁盘间运行如此接近，对磁盘表面质量的要求也越来越高。 如果硬盘表面粗糙度、波纹度过大，在高速旋转的过程中，磁头就会与磁盘表面发生碰撞， 损坏磁头或存储器硬盘表面上的磁介质，从而导致硬盘设备发生故障或读写信息的错误。 因此，在形成磁介质之前，必须对磁盘基片进行抛光，是基片表面粗糙度和波纹度降至最小，同时还必须完全去除微凸起、细小凹坑、划痕、抛光条痕等表面缺陷。数字光盘技术中，玻璃基片作为数字光盘制造过程中的母盘基片，一般要求其粗糙度在10-20A，随着数字光盘存储密度、数据读取速度的不断提高，将对母盘玻璃基片表面质量提出更高的要求。目前，普遍采用化学机械抛光技术对计算机硬盘基片、数字光盘基片表面进行抛光。研磨剂是化学机械抛光液中的主要成分，无机纳米粒子是目前广泛使用的研磨剂，但大多数的无机纳米粒子硬度大、易团聚。这样，含有无机纳米粒子的抛光液易引起表面损伤， 具体表现为抛光后表面粗糙度较大、划痕、本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于微晶玻璃的抛光液，其特征在于包括复合磨粒、氧化剂、分散助剂、ｐＨ调节剂以及蒸馏水；各种组分所占的质量百分比为：复合磨粒为０．５％～５％，氧化剂为０．５％～５％，分散助剂为０．０５％～２％，蒸馏水为余量；调节ｐＨ值至８～１２。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：乔红斌，朱敏华，储向峰，田雪梅，朱静，
申请(专利权)人：安徽工业大学，
类型：发明
国别省市：34