精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法技术

本发明专利技术公开了一种精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法，精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉，含有如下重量份的组分：氧化铈50-95％，氧化锆5-40％，氧化铁0.1-10％。采用本发明专利技术制备的抛光粉，具有成本低，抛光粉的悬浮性小，耐磨性高，抛光粉的有效利用率高，产品质量稳定等优点，可应用于液晶显示、光学元件、集成电路等领域的精密抛光加工。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种稀土抛光粉及其制备方法，更确切地说，是关于一种铈锆基固溶体稀土抛光粉及其制备方法。
技术介绍
铈基稀土抛光粉是较为重要的稀土产品之一，由于铈基稀土抛光粉具有较优的化学与物理性能，具有切削能力强、抛光时间短、抛光精度高、操作环境清洁等优点，故比其他抛光粉的使用效果佳，而被人们称为“抛光粉之王”。目前该产品在我国发展较快，应用日广，已在各种光学玻璃器件、电视机显像管、光学眼镜片、示波管、平板玻璃、半导体晶片和金属精密制品等的抛光领域得到了广泛应用，发展前景看好。目前市场上主要使用的抛光粉主要为混合稀土抛光粉，包括氧化铈、氟氧化镧铈、 氟氧化镧铈镨等。如CN1156749，CN12053M专利采用氟碳铈矿为原料，CN101010402A公布了混合稀土氧化物、混合稀土氟化物、使用该材料的基于铈的磨料；CN101284983A公布了一种超细，球化稀土抛光粉，该稀土抛光粉亦为稀土氟氧化物。但因近来稀土价格涨幅较大，单纯的使用稀土作为抛光粉的原料使得成本过高， 已不利于下游电子信息行业的发展。同时，我国抛光粉在使用过程中因颗粒粒度分布不均勻，比重较大，导致稀土抛光粉的有效利用率本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．精密型铈锆基固溶体稀土抛光粉，其特征在于，含有如下重量份的组分：氧化铈　　５０－９５％氧化锆　　５－４０％氧化铁　　０．１－１０％。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：贾嘉，赵月昌，李冉，曹红霞，蒙素玲，赵秀娟，
申请(专利权)人：上海华明高纳稀土新材料有限公司，
类型：发明
国别省市：31