磁水分离型平面磁控溅射靶制造技术

一种磁水分离型平面磁控溅射靶，包括冷却进水管1、冷却出水管2、导磁板3、阴极体4、靶材压环5、螺钉6、靶材7、中心极靴8、中心永磁块9、边极靴10、边永磁块11和下密封圈13，阴极体4上有圆环形矩形槽41，其中心有圆形盲孔42，圆环形矩形槽41的圆心与圆形盲孔42的圆心重合，冷却进水管1和冷却出水管2向上穿过导磁板3和阴极体4上的通孔，并用水管密封圈43与阴极体4形成密封，中心极靴8和中心永磁块9位于圆形盲孔42内，边极靴10和边永磁块11位于圆环形矩形槽41内。本发明专利技术由于采用阴极磁路与冷却水路分离的新结构，磁铁的使用寿命大大延长，同时冷却水也不会被污染堵塞，镀膜质量也得到稳定地提高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种新材料领域的真空磁控溅射镀膜装置，特别是一种磁水分离型平面磁控溅射靶。
技术介绍
磁控溅射技术自从20世纪70年代诞生以来，在高速制备金属、半导体和介电薄膜方面取得了巨大进步，广泛用于半导体器件、集成电路微型化和光学器件等领域。所涉及的太阳能利用能效薄膜，不论是全玻璃真空集热管、全金属平板集热器、以及作为太阳能热发电核心元件的高温集热管，在研发过程中都完全使用了磁控溅射制膜技术，而其中一种关键装备就是园柱型和平面型磁控溅射靶。由于热发电的高温集热管所使用的耐高温吸收膜系(多层膜称膜系或膜堆)，有的靶材(薄膜的源料)难于获得管材，就得放弃园柱靶，而板材就容易获取，故高温集热管镀膜机就采用靶材是板材的平面磁控溅射靶。 平面磁控溅射靶根据被镀工件的尺寸，有平面圆型靶和平面矩型靶，原理完全一样，把平面圆型靶沿直径方向拉长，就是平面矩型靶。现有平面磁控溅射靶的结构如图1-4 所示(省略阳极屏蔽绝缘和水管紧固结构)，其包括冷却进水管1、冷却出水管2、导磁板3、 阴极体4、靶材压环5、螺钉6、靶材7、中心极靴8、中心永磁块9、边极靴10、边永磁块11和上、下密封圈12、13，导本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种磁水分离型平面磁控溅射靶，包括冷却进水管、冷却出水管、导磁板、阴极体、靶材压环、螺钉、靶材、中心极靴、中心永磁块、边极靴、边永磁块和下密封圈，导磁板上有冷却进水管和冷却出水管通过的通孔，其位于阴极体的上面，靶材压环和靶材位于阴极体的下面，导磁板、阴极体和靶材压环通过螺钉固定，下密封圈位于阴极体与靶材之间，阴极体上还有冷却进水管和冷却出水管通过的通孔，其特征是阴极体上有矩形槽，其中心有盲孔，冷却进水管和冷却出水管向上穿过导磁板和阴极体上的通孔，并用水管密封圈与阴极体形成密封，中心极靴和中心永磁块位于盲孔内，边极靴和边永磁块位于矩形槽内。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：李云辉，李云松，华冬辉，
申请(专利权)人：衡阳市真空机电设备有限公司，
类型：发明
国别省市：43