一种硬质B-C-N光学薄膜制造技术

一种射频(13.56MHz)磁控溅射制得的硬质B-C-N光学薄膜，其是在玻璃基体表面形成了与基体良好结合的B-C-N光学薄膜；同时，选用了合适的石墨/硼复合靶以及相应的溅射工艺参数，获得了接近于BC2N化学计量比的高性能薄膜；同时经过热处理能尽可能消除薄膜内应力；硬质B-C-N光学薄膜的厚度约为135nm，薄膜表面的元素的原子百分含量为22.7B-51.5C-25.8N，表面的硬度约为14GPa，薄膜的可见光区平均透光率约为87％。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种材料表面薄膜，尤其是一种硬质B-C-N光学薄膜。
技术介绍
根据金刚石和立方BN (c-BN)的机构相似性，人们理论上预期能够合成B_C_N三元薄膜，并期望其能够兼具金刚石的超高硬度以及c-BN高温稳定性、抗氧化性等。而经过广泛的实验研究证实，合成B-C-N三元薄膜确实可行，并且B-C-N三元薄膜也确实与金刚石和立方BN —样具有超高的硬度，此外，与金刚石、氮化碳等硬质涂层相比，其还具有高温化学稳定性优异、薄膜的内应力低等无可比拟的使用优点，特别是B-C-N三元薄膜还是一种新型的人工合成的宽带隙材料，可望作为一种新兴的光电材料而广泛使用。但目前对于B-C-N三元薄膜的研究还主要集中于其力学性能，对于其作为光学薄膜的研究和应用都较少。特别是对于B-C-N三元薄膜作为光学薄膜的组成控制、厚度控制、与基体的紧密附着、薄膜内应力的消除等问题上，仍然存在各种各样的不足，成为制约 B-C-N光学薄膜广泛应用的障碍。
技术实现思路
针对上述问题，本专利技术的目的即在于为射频磁控溅射B-C-N光学薄膜制备方法选择合适的工艺参数，从而获得一种与基体结合紧密的高性能硬质B-C-N光学薄本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种射频（１３．５６ＭＨｚ）磁控溅射制得的硬质Ｂ－Ｃ－Ｎ光学薄膜，其由下述步骤得到：首先，将玻璃基体材料分别用丙酮、酒精和去离子水等在超声波清洗器中各清洗约１０ｍｉｎ后，用氮气吹干备用。随后，将基体材料置于真空室内的样品台上，并将石墨／硼复合靶置于靶位，其中所述的石墨／硼复合靶是将环状的硼套在圆片状的石墨外，且石墨与硼的面积比在２．５∶１－２∶１之间，石墨的纯度为９９．９９９％、硼的纯度为９９．９％，石墨／硼复合靶与基体材料距离为７－８ｃｍ。随后将真空室内真空度抽到≤５×１０－４Ｐａ，同时通入流量为８－１０ｓｃｃｍ的Ａｒ，当真空室气压为２－４Ｐａ时，预溅射２－３ｍｉｎ，预溅射的功率为５０－...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：戴圣英，
申请(专利权)人：宁波市瑞通新材料科技有限公司，
类型：发明
国别省市：97