用于薄膜太阳电池的透明导电基板的制备方法技术

技术编号:7061956 阅读:224 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术公开了一种用于薄膜太阳电池的透明导电基板的制备方法,该方法的特征是通过对玻璃基板的两个表面作喷沙处理及一面蒸镀减反层,另一面蒸镀透明导电膜,再作腐蚀处理,使其二表面形成陷光结构,大大增加了其有效光透过,有效增加了到达电池吸收层的透光率。及对透明导电基板的钢化处理,增加了基板的抗冲击强度、抗弯强度和耐高温冲击,可明显提高最后组成的太阳电池组件的各项安全指标,有利于产品的标准认证。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及薄膜太阳能电池,具体是指一种用于薄膜太阳电池的具有陷光结构的透明导电基板的制备方法。
技术介绍
在一个标准太阳AM1.5(100mW/cm2)条件下,整个光谱可有效利用的范围在 300-1100nm范围内,在到达薄膜太阳能电池吸收层之前由于各层的反射而导致的光损失约在10%左右,相当于大约10mW/cm2(理论值)。造成这个原因其一是太阳光谱光子的反射是由于空气/玻璃及内部各层界面之间的衍射指数的差异造成的;其次,是由于各个界面的特性不同造成的。表征界面的不同有两个指标粗糙度和雾度(Haze),前者影响后者。雾度是指透过材料而偏离入射光方向的散射光通量与透射光通量之比,表征透明或半透明材料的散透射特性。合适的雾度,可以增加到达吸收层光子的数量,从而增加有效电子-空穴对而对光电流做出贡献。对于薄膜电池来说,提高其转换效率需要多个途径来进行解决。其中一个重要的途径就是光照利用率。陷光结构是一种有效的办法,就是通过膜层界面处的“非镜面”处理, 通过对入射光的漫反射、折射和散射,使其以一定角度入射的光线分散为从各个方向入射, 从而增加入射的光子数,使得满足禁带宽度范围内的尽可本文档来自技高网...

【技术保护点】
1.一种用于薄膜太阳电池的透明导电基板的制备方法:其特征在于步骤如下:§A将玻璃基板(1)放在卧式结构的喷砂设备中,腔体内为负压,上下喷嘴同时对玻璃基板二面作喷砂处理,使玻璃基板二面的平均粗糙度达1-50μm,使之具有绒面特性;§B然后把玻璃基板放入HF酸液腐蚀槽中,HF酸浓度为1-10%,腐蚀时间根据雾度要求而定,雾度要求范围:1~10%;§C在玻璃基板的一面采用PECVD或浸镀或磁控溅射镀减反膜(2),减反膜满足n d=λ/4条件,n为折射率,d为厚度;§D对镀减反膜后的玻璃基板作钢化处理,钢化温度为600-800℃,钢化时间根据玻璃厚度决定,通过钢化处理固化减反膜;§E采用磁控溅射或MO...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:褚君浩赵守仁王善力张传军曹鸿邬云华潘建亮孙鹏超
申请(专利权)人:上海太阳能电池研究与发展中心
类型:发明
国别省市:31

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1