选择性沉积的薄膜器件以及形成选择性沉积的薄膜的方法技术

本发明专利技术涉及选择性沉积的薄膜器件以及形成选择性沉积的薄膜的方法。一种用于在衬底上选择性沉积薄膜结构(515)的方法。该方法包括提供工艺气体(709)至该衬底表面(705)以及将来自能量源(701)的集中电磁能(703)引导至表面(705)的至少一部分。该工艺气体(709)分解到该衬底上以形成选择性沉积的薄膜结构(515)。还公开了用于形成选择性沉积的薄膜结构(515)的设备和薄膜器件。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术针对具有选择性沉积的薄膜结构的薄膜器件以及用于形成选择性沉积的薄膜的方法。
技术介绍
能量需求在不断增加。由于能量需求增加，对化石燃料能源备选的源重要性增加。 一个这样的备选能源是太阳能。一般，太阳能通过将辐射(例如，日光)转换成可存储或通过电力网传输的电力来生产。典型地，薄膜部件和结构的沉积和隔离需要仔细安排划刻和沉积的步骤的顺序。 在已知工艺中，薄膜部件和结构的沉积和隔离利用复杂、能量密集和昂贵的工艺实现，例如光刻法等。透明传导氧化物(TCO)用作PV模块中薄膜光伏(PV)电池的在操作期间接收日光的一侧上的电接触的传导层。在工艺过程期间，使用薄膜施加方法和划刻技术、使用化学制品或激光以选择性去除材料来提供电池间的互连。作为形成这些互连的该工艺过程和结构的结果，电池之间的互连区域可以是“死区”，或者是当暴露于光时不产生电力的区域。一种用于产生用于与薄膜器件一起使用的选择性沉积结构的方法。另外，需要具有在电池间的互连中具有减小的电阻率/增加的传导率，而不影响PV电池的有效区域的薄膜器件，这在本领域将是受欢迎的。
技术实现思路
在一个实施例中，一种用于在衬底上选择性沉积薄膜结构本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于在衬底上选择性沉积薄膜结构的方法，所述方法包括：提供工艺气体（７０９）至衬底表面；将来自能量源（７０１）的集中电磁能（７０３）引导到表面（７０５）的至少一部分；以及将所述工艺气体（７０９）分解到所述衬底上以形成选择性沉积的薄膜结构（５１５）。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：S·D·费尔德曼皮博迪，
申请(专利权)人：初星太阳能公司，
类型：发明
国别省市：US