装饰膜、装饰组件以及制造装饰膜的方法技术

一种装饰膜、装饰组件以及制造装饰膜的方法。此装饰膜包括基板、配置在此基板上的黏合层以及配置在基板与此黏合层之间的低导电率金属层，其中电磁波能够穿过此低导电率金属层而不会被完全屏蔽。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及一种装饰膜、一种装饰组件以及一种制造装饰膜的方法，尤其涉及一种带有金属光泽层的装饰膜、一种装饰组件以及一种制造装饰膜的方法。
技术介绍
通常，形成在塑料外壳表面上的图案或装饰主要是通过喷雾工艺(spraying process)或印刷工艺(printing process)来形成，以便呈现出特定的视觉效果。然而， 在大规模生产中，由于耗费时间、过程复杂、厚度均勻性低等缺点，所以喷雾工艺并不适宜。为了解决上述问题，多种使用装饰膜的特定装饰工艺被提出，其中装饰膜具有形成在基板(substrate)上的预定装饰层。这些装饰工艺包括模内装饰(in-mold decoration, IMD)技术、热转移印刷(heat transfer printing)工艺、升华热转移(sublimation heat transfer)工艺、热冲压(hot stamping)工艺、喷墨印刷(ink-jet printing)工艺、水转移印刷(water transfer printing)工艺，等等。举例而言，模内装饰技术的过程包括将装饰膜置于射出成型机(injection machine)的模具(mold)中；在此模具中在装饰膜的一侧注射熔化的树脂，使熔化的树脂与装饰膜的装饰层结合在一起，以形成装饰组件；然后，从模具中取出此装饰组件。如此一来， 模内装饰工艺完成。由于人们对装饰组件的外观的要求各不相同，所以预定的装饰层必须具备各种特性，诸如特定的触感和特定的视觉效果。举例而言，某装饰组件被要求具有金属光泽， 所以要藉由电镀(electroplating)工艺、真空蒸镀(vacuum evaporation)工艺、溅镀 (sputtering)工艺、电子束蒸镀(electron beam evaporation)工艺等在装饰膜中形成具有良好导电性的金属层，以用作装饰层。然而，金属层通常具有良好的导电性，所以会在装饰组件中产生金属屏蔽效应。因此，诸如移动电话、个人数字助理(personal digital assistant)、笔记本式计算机等使用装饰组件作外壳的电子产品在信号通信方面可能品质欠佳。
技术实现思路
因此，本专利技术提供一种有助于提供金属光泽而不会产生金属屏蔽效应的装饰膜。本专利技术旨在提供一种装饰组件，此装饰组件具有带金属光泽但不会产生金属屏蔽效应的装饰层。本专利技术还旨在提供一种制造带有金属光泽但不会产生金属屏蔽效应的装饰膜的方法。本专利技术提出一种装饰膜，其包括基板、配置在此基板上的黏合层以及配置在基板与此黏合层之间的低导电率金属层，其中电磁波能够穿过低导电率金属层而不会被完全屏蔽。依照本专利技术一实施例，装饰膜还包括配置在低导电率金属层与基板之间的离型层(releasing layer)，其中此离型层接触基板。依照本专利技术一实施例，低导电率金属层的材质包括带有金属光泽的材料和掺质 (dopant)材料。具体地说，带有金属光泽的材料是选自锡(Sn)、铬(C r)、钛(Ti)、镍(Ni)、 锌(Zn)、钼(Mo)、铝(Al)、金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)或上述材料的组合。掺质材料是选自铟 (In)、锡(Sn)、金(Au)、银(Ag)、铜(Au)、钴(Co)、钨(W)、铝(Al)、铬(Cr)、镍(Ni)、锆(Zr)、 锌(Si)、钼(Pt)、钯(Pd)、钼(Mo)、二氧化钛(TiO2)、氧化钛(TiOx)、二氧化锆(ZrO)、二氧化硅(SiO2)或上述材料的组合。在一实施例中，低导电率金属层的颜色或光泽随着掺质材料的材质而变化。依照本专利技术一实施例，装饰膜还包括配置在基板与黏合层之间的油墨层。在一实施例中，此油墨层位于低导电率金属层与基板之间。可选择的是，此油墨层可位于低导电率金属层与黏合层之间。依照本专利技术一实施例，装饰膜还包括氧化层，其配置在低导电率金属层的至少一侧。此氧化层的材质包括氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化铝(Al2O3)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化镁(MgO)、氧化铜(CuO)、二氧化锆(&0)、二氧化硅(SiO2) 或上述材料的组合。本专利技术也提供一种装饰组件，其包括外壳、低导电率金属层、黏合层以及外层。低导电率金属层配置在外壳的表面上，其中电磁波能够穿过此低导电率金属层而不会被完全屏蔽。黏合层配置在外壳与低导电率金属层之间。外层配置在低导电率金属层的远离黏合层的一侧。依照本专利技术一实施例，低导电率金属层的材质包括带有金属光泽的材料和掺质材料。在一实施例中，带有金属光泽的材料可选自锡(Sn)、铬(C r)、钛(Ti)、镍(Ni)、锌(Zn)、 钼(Mo)、铝(Al)、金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)或上述材料的组合。此外，掺质材料可选自铟 an)、锡(Sn)、金(Au)、银(Ag) (Au)、钴(Co)、钨(W)、铝(Al)、铬(C r)、镍(Ni)、锆(Z r)、锌(Si)、钼(Pt)、钯(Pd)、钼(Mo)、二氧化钛(TiO2)、氧化钛(TiOx)、二氧化锆(ZrO)、二氧化硅(SiO2)或上述材料的组合。在一实施例中，低导电率金属层的颜色或光泽随着掺质材料的材质而变化。依照本专利技术一实施例，装饰组件还包括配置在外层与黏合层之间的油墨层。在一实施例中，此油墨层位于低导电率金属层与外层之间。可选择的是，此油墨层可位于低导电率金属层与黏合层之间。依照本专利技术一实施例，外层是基板、离型层或保护层。依照本专利技术一实施例，装饰膜还包括氧化层，其配置在低导电率金属层的至少一侧。此氧化层的材质包括氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化铝(Al2O3)、氧化铟锡(ITO)、氧化铟(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化镁(MgO)、氧化铜(CuO)、二氧化锆(&0)、二氧化硅(SiO2) 或上述材料的组合。本专利技术还提供一种制造上述装饰膜的方法，其中低导电率金属层是藉由执行蒸镀工艺或溅镀工艺来形成。依照本专利技术一实施例，蒸镀工艺或溅镀工艺的靶材(target material)包括带有金属光泽的材料和掺质材料。在一实施例中，带有金属光泽的材料可选自锡(Sn)、铬(Cr)、 钛(Ti)、镍(Ni)、锌(Si)、钼(Mo)、铝(Al)、金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)或上二述材料的组合。掺质材料可选自铜(In)、锡(Sn)、金(Au)、银(Ag)、铜(Cu)、钴(Co)、钨(W)、铝(Al)、铬 (Cr)、镍(Ni)、锆(Zr)、锌(Zn)、钼(Pt)、钯(Pd)、钼(Mo)、ニ氧化钛(TiO2)、氧化钛(TiOx)、 ニ氧化锆(ZrO)、ニ氧化硅(SiO2)或上述材料的組合。在一实施例中，低导电率金属层的颜 色或光泽随着掺质材料的材质而变化。依照本专利技术ー实施例，制造装饰膜的方法还包括在低导电率金属层的至少ー侧形 成氧化层。此氧化层的材质包括氧化钛(TiO2)、氧化锌(ZnO)、氧化铝(Al2O3)、氧化铜锡 (ITO)、氧化铜(In2O3)、氧化锡(SnO2)、氧化镁(MgO)、氧化铜(CuO)、ニ氧化锆(ZrO)、ニ氧化 硅(SiO2)或上述材料的組合。如上所述，藉由蒸镀エ艺或溅镀エ艺而形成的低导电率金属层形成在装饰膜中。 此低导电率金属层有助本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种装饰膜，包括：基板；黏合层，其配置在所述基板上；以及低导电率金属层，其配置在所述基板与所述黏合层之间，其中电磁波穿过所述低导电率金属层，而不会被完全屏蔽。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：应国良，
申请(专利权)人：锣洋科技股份有限公司，
类型：发明
国别省市：71