硅片对准光源幅度调制装置制造方法及图纸

一种硅片对准光源幅度调制装置，包括：激光器、光弹晶体、压电晶体、功率驱动器、调制控制器、光学组件、偏振分光镜、光电探测器、信号调理单元、信号采集单元及控制单元。光源模块提供的入射光束依次经过光幅调制模块、光学组件、分束器后形成第一调制光束与第二调制光束，光电探测模块探测所述第二调制光束的光信号，根据所述光信号的规律，判断及输出一调制参数，所述光幅调制模块根据所述调制参数调制所述入射光束。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及光刻领域，尤其涉及用于光刻机中的硅片对准光源幅度调制装置。
技术介绍
现有的光刻设备的硅片对准中，采用了光源幅度调制技术，其直接使用比较独立的单元，即包括光弹晶体、压电晶体、功率驱动单元、调制控制器，如图1所示。现有方案在实际的应用中存在以下缺点首先，通过手动调整调制控制器的操作面板上的按钮，调整调制器的调制频率和调制强度。但是由于仪器加工制造过程中存在的误差，使得面板上的调整读数与实际设置下去的调制参数也可能存在一定的误差。影响了调制的准确性。尤其是在硅片对准中，对准探测精度要求在几个nm量级，这种调制准确性的问题，会直接影响到硅片对准的整体精度。即时调制参数已准确设置，但是在与硅片对准的光路进行配合使用时，由于光路中的其它光学组件制造参数上偏差，使得实际整体调制情况偏离理想设计。另外，由于调制器工作外界环境条件存在长期稳定性的问题，也直接影响到调制器的稳定性。也影响到硅片对准的整体性能。需要一种新的光源幅度调制装置解决原有装置的不足。针对上述问题，本专利技术提出了一种硅片对准光源幅度调制装置，通过探测调制后的光信号，根据信号的规律，判断并调整调制参数，使得调制效本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种用于硅片对准系统的光源幅度调制装置，其特征在于：光源模块提供的入射光束依次经过光幅调制模块、光学组件、偏振分束器后形成第一调制光束与第二调制光束，光电探测模块探测所述第二调制光束的光信号，根据所述光信号的规律，判断及输出一调制参数，所述光幅调制模块根据所述调制参数调制所述入射光束。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：王海江，王诗华，戈亚萍，唐文力，李运锋，程鹏，陈振飞，宋海军，韦学志，胡明辉，
申请(专利权)人：上海微电子装备有限公司，上海微高精密机械工程有限公司，
类型：发明
国别省市：31