【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及Low-E玻璃的真空镀膜操作中的设备，特别是一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统。
技术介绍
Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异个隔热效果和良好的透光性。对于Low-E玻璃上镀膜的方式主要采用真空镀膜的方式，而真空镀膜的操作主要是在真空室(或负压室)中进行。目前，将Low-E玻璃基片输送到负压室的操作主要采用人工搬运输送操作，并在基片输送到位后再采用抽真空的方式来实现镀膜操作的真空环境。 这种操作方式的工作效率十分低，即便是在操作非常熟练的情况下，该工位的工作节拍也要达到45秒/节拍，以致于降低了生产效率。
技术实现思路
本专利技术的目的在于提供一种Low-E玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，主要解决现有将基片人工输入负压室并进行抽真空操作的工作效率较低，影响生产效率的技术问题，它可将该工位的工作节拍提高到观秒/节拍，提高了生产效率。为实现上述目的，本专利技术是这样实现的。...
【技术保护点】
１．一种Ｌｏｗ－Ｅ玻璃的真空镀膜操作中将基片输入负压室的系统，它包括负压室（１），其特征在于：该负压室（１）具有一入口闸门（１０），该入口闸门（１０）前具有基片输送带（２）；该负压室（１）上具有进气阀（１１）和真空抽气口，该真空抽气口连接到负压形成装置上。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：阮洪良，阮泽云，
申请(专利权)人：福莱特光伏玻璃集团股份有限公司，上海福莱特玻璃有限公司，
类型：发明
国别省市：33
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