用于基板定位和检测的偏移校正方法和装置制造方法及图纸

本发明专利技术提供一种用于基板定位和检测的偏移校正方法和装置。本发明专利技术提供一种用于捕获基板图像的斜角检测模块。该模块包括与基板夹头连接的旋转马达，该旋转马达被配置为旋转该基板夹头从而使该基板旋转。该模块还包括照相机和与照相机连接的光学罩，该光学罩被配置为可以旋转的，使闪光可以朝向该基板。该照相机装载在照相机支架上，该照相机支架被配置为使该照相机可水平旋转180度，使得该照相机可以捕获图像，该图像至少包括该基板的俯视图，仰视图和侧视图之一。该模块还包括背光装置，该背光装置被配置为提供光照给该基板，从而使该照相机能捕获该图像，该图像显示基板和背景间的对比。

【技术实现步骤摘要】
用于基板定位和检测的偏移校正方法和装置本申请是申请号为2007800364 . 1，申请日为2007年9月14日，名称为“用于基 板定位和检测的偏移校正方法和装置”的专利申请的分案申请。
技术介绍
等离子处理的进步促进了半导体工业的增长。一般来说，从单一处理后的 基板上切割下来的裸片(die)上可以创建若干个半导体器件。为了对基板进行处理，基板 需要放置在等离子处理室内的基板夹头上。基板在基板夹头上的位置决定了要对基板的哪 一部分进行处理以形成器件。现在存在将基板与基板夹头中心对齐的方法。在一个例子中，在处理模 块中放置传感器以确定基板相对于基板夹头的位置。在另一个例子中，利用如制导机械臂 等对位夹具(alignment fixture)来将基板与基板夹头对齐。尽管跟硬件中心(例如基 板夹头中心)对齐可以达到某种精度，但是与硬件中心对齐并不总是等同于与处理中心 (process center)对齐。这里讨论的硬件中心指的是硬件(如基板夹头)的中心。这里讨论的处理 中心指的是等离子处理的焦点中心。理想情况下，在距离焦点中心的任何给定径向距离，处 理结果(例如刻蚀速率)是一样的。例如，在离处理本文档来自技高网...

【技术保护点】
１．一种计算处理室内的夹头的处理中心的方法，该方法包括：利用斜角检测模块捕获处理过的基板边沿的图像；测量从该处理过的基板的边沿的一组距离以得到干涉条纹，该组距离是在一组角度上测量的；生成离心曲线，该离心曲线为该组距离相对于该组角度的图形形式；及对该离心曲线应用曲线拟合方程以计算该处理中心。

【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员：杰克·陈，安德鲁·D·贝利三世，本·穆林，斯蒂芬·J·凯恩，
申请(专利权)人：朗姆研究公司，
类型：发明
国别省市：US