【技术实现步骤摘要】
本专利技术属于溅射镀覆
，特别是涉及一种用于电子器件的同端进出式连续溅射镀膜设备。
技术介绍
几乎所有电子器件都要对其一个或多个表面镀以金属薄膜，以便进行电极制作等后续工艺。现有技术多是采用炉装式真空蒸发镀膜，其缺点是蒸镀的薄膜与基片的结合力差、薄膜的均勻性与一致性不佳、生产效率低下，容易导入操作工的人为因素影响。中国 200610049197. 3号专利公布了一种连续式溅射设备，该设备由预抽室、前过渡室、溅射室、 后过渡室和减压室五个真空腔体以及进片台、出片台、工件架返回装置等构成，工件架依次通过进片台、预抽室、前过渡室、溅射室、后过渡室和减压室被输送出机体到达出片台，再由体外的工件架返回装置将工件架传输回进片端，该设备的缺陷在于由于工件架是从设备一端进，另一端出，真空腔体多，设备庞大，造价高，占地面积大；为了防止被灰尘污染，电子器件的生产一般都需要将工件架、进出片台处在超净环境中进行，由于该设备庞大，还带有一个很长的体外片架返回装置，相应需要一个体积庞大、运转费用高昂的超净室，所以，双端设备的能耗较大、运转费用昂贵，不符合节能减排的时代要求。专利技术内...
【技术保护点】
１．同端进出式连续溅射镀膜设备，包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有可往复传输的工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合，并能将工件架从装卸片台依次输送到预抽室、溅射室，并从原路输回到所述装卸片台。
【技术特征摘要】
1.同端进出式连续溅射镀膜设备，包括真空腔体和真空抽气装置，所述真空抽气装置与真空腔体相连通，其特征在于所述真空腔体由相邻且相通的预抽室和溅射室两个真空室构成，两个真空室之间设有隔离阀，腔体的末端和前端分别设有盲法兰和真空锁阀，所述真空锁阀外侧设有一个装卸片台，在溅射室内设置有可往复传输的工件架传输装置，在预抽室内装有复合传输装置，所述溅射室内装有至少三对相对布置的磁控溅射靶，所述工件架传输装置能够与工件架相配合，并能将工件架从装卸片台依次输送到预抽室、溅射室，并从原路输回到所述装卸片台。2.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述真空室均由不锈钢或碳钢材料制成，腔体型式为立式结构和卧式结构中的一种。3.根据权利要求1所述同端进出式连续溅射镀膜设备，其特征在于所述预抽室复合传输装置由平移器，至少由两套互相平行的驱动导轨构成，所述两套互相平行的驱动导轨均装有摩擦式驱动轮、同步轮和轴承，每套驱动导轨单独连接一个可逆电机，可逆电机的轴与摩擦驱动轮同步轮相配合，所述直线导轨的滑块与驱动导轨固定连接，...
【专利技术属性】
技术研发人员：王德苗，金浩，顾为民，任高潮，沈小虎，冯斌，周剑，
申请(专利权)人：浙江大学，
类型：发明
国别省市：86
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