【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及制备锍盐的方法及由此方法制备的锍盐。更具体而言,本专利技术涉及制 备主要用在生酸剂等的制造中作为中间体的锍盐的方法,所述锍盐能够通过简化的制备工 序高产率地大量合成,还涉及由此方法制备的锍盐。
技术介绍
近年来,在使用光刻技术对半导体等进行精加工的领域中对具有较高分辨率的光 致抗蚀剂有需求。适应此需求所开发出来的化学增强光致抗蚀剂组合物含有生酸剂。为了 生成具有提高了分辨率和具有理想性能的抗蚀剂,迄今为止,已经专利技术了多种不同类型的 生酸剂。例如,日本专利申请2006-257078(在下文中称为"专利文献1〃 )公开了由下式 (A)表示的生酸剂权利要求1.一种制备锍盐的方法,所述方法包括使由下式(1)表示的化合物与醇和胺反应,获得铵盐;和 使所述铵盐与还原剂和无机碱反应,获得由下式( 表示的化合物 2.如权利要求1所述的制备锍盐的方法,其中所述胺是选自伯胺、仲胺、叔胺及其组合 中的任何一种。3.如权利要求1所述的制备锍盐的方法,其中所述醇是由下式C3)表示的化合物,且所 述胺是由下式(4)表示的化合物 R3OH NR4R5R6其中在式⑶和⑷中,R3表示选自烷基、环烷基、杂环烷基、烷氧基、芳基和杂芳基中的任何一种; R4至&各独立地表示烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基;且 当&和&为烷基时,它们可连接在一起形成烃环。4.如权利要求3所述的制备锍盐的方法,其中所述铵盐是由下式(5)表示的化合物 N+R3R4R5Re-O Qz其中R1表示选自卤素原子、羟基、羧基、腈基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂 ...
【技术保护点】
一种制备锍盐的方法,所述方法包括:使由下式(1)表示的化合物与醇和胺反应,获得铵盐;和使所述铵盐与还原剂和无机碱反应,获得由下式(2)表示的化合物:***其中在式(1)和(2)中,R↓[1]和R↓[2]各独立地表示选自卤素原子、羟基、羧基、腈基、醛基、环氧基、烷基、环烷基、杂环烷基、芳基和杂芳基中的任何一种;Q↓[1]和Q↓[2]各独立地表示选自氢原子、卤素原子和全氟烷基中的任何一种;M表示选自锂、钠、钾和银中的任何一种;且n是1-10的整数。
【技术特征摘要】
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【专利技术属性】
技术研发人员:吴贞薰,韩俊熙,朴相昱,李承宰,高成保,尹盛俊,
申请(专利权)人:锦湖石油化学株式会社,
类型:发明
国别省市:KR[韩国]
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