一种工艺气体的输送法兰制造技术

本实用新型专利技术公开了一种工艺气体的输送法兰，其包括环形的法兰体、设于该法兰体内一侧的冷却水流道、设于该法兰体外缘的与冷却水流道一端口联通的进水管以及与其另一端口联通的出水管；还包括设于所述法兰体内另一侧的工艺气体流道、沿工艺气体流道内壁设置的并与法兰体内壁导通的一圈针孔、设于法兰体外缘的并与工艺气体流道联通的气嘴，设于法兰体的内圈、靠近冷却水流道一侧的密封圈。本实用新型专利技术将工艺气体通过法兰体针孔往石英管反应室内渗透，而不是采用传统的方式通过气嘴直接往里吹气。这使得工艺气体混合更加充分，在反应室内的分布更加均匀，也提高了反应室内气场的稳定性，很好地改善了硅片的镀膜效果。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及半导体工艺设备，尤其涉及一种晶体硅太阳能电池生产中PECVD 工艺气体的输送法兰。
技术介绍
PECVD是一种半导体工艺设备，主要用于晶体硅太阳能电池制造中电池片的减反 射膜生长工艺。在晶体硅太阳能电池生产中，电池片减反射膜的镀膜效果直接关系到电池 片的最终转换效率与电性能参数。PECVD镀膜工艺要求其反应管内气流稳定，且工艺气体分布均勻。但是现有的 PECVD镀膜设备，一般用“Y”型气嘴将两种工艺气体在炉口法兰处汇集起来，直接往PECVD 的石英管反应室内吹气，受气体流速的影响，在靠近气嘴处的工艺气体浓度必然高于石英 管反应室内其它地方的浓度，这种供气方式影响到反应室内工艺气体分布的均勻性，从而 影响镀膜工艺时的化学反应，继而影响到电池片镀膜工艺质量。另外，供气气嘴还容易受到 工艺气体气流的冲击而松动。
技术实现思路
本技术所要解决的现有PECVD镀膜工艺中反应室内工艺气体分布均勻、气嘴 易松动的技术问题，提出一种这使得工艺气体混合更加充分、在反应室内的分布更加均勻、 气嘴连接可靠的工艺气体输送法兰。为解决所述技术问题，本技术提出的工艺气体的输送法兰，其包括环形的法 兰体、本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种工艺气体的输送法兰，其特征在于，包括环形的法兰体（１）、设于该法兰体内一侧的冷却水流道（２）、设于该法兰体外缘的与冷却水流道（２）一端口联通的进水管（３）以及与其另一端口联通的出水管（４）；还包括设于所述法兰体（１）内另一侧的工艺气体流道（５）、沿工艺气体流道内壁设置的并与法兰体内壁导通的一圈针孔（６）、设于法兰体外缘的并与工艺气体流道（５）联通的气嘴（７），设于法兰体（１）的内圈、靠近冷却水流道（２）一侧的密封圈（１５）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍波，张勇，李时俊，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]