带隔离处理装置的扩散炉制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种带隔离处理装置的扩散炉，这种技术和装置主要应用于扩散炉中；它包括有加热炉和操作室，加热炉带有炉腔，其炉口朝向操作室方向，在加热炉内还设有可沿炉腔方向内外滑动的石英舟；所述操作室内靠近炉口处设有一中部带圆形开口的隔板，开口内侧嵌有一环形风刀。本实用新型专利技术通过环形风刀形成的风帘有效将加热炉与操作室间隔离开，这样就可以避免或减少一些尘粒和杂质在高温时扩散到硅片中，造成对ＰＮ结质量的影响；并且卸载时能会吹扫掉硅片上的残留气体，隔离了炉内和操作间，可以避免残留气体进入到密封的操作间，产生腐蚀、污染和对人员的污染。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种扩散炉，尤其涉及一种带隔离处理装置的扩散炉。
技术介绍
扩散炉是一种半导体工艺设备，主要用于掺杂工艺，特别在晶体硅太阳能电池生 产中，扩散炉是唯一的掺杂设备，是制造工艺中对PN结的生成、转换效率的提高起决定性 的关键设备。扩散炉通常由加热炉、操作室及气源组成；加热炉带有炉腔，其炉口朝向操作 室方向；在加热炉内还设有用于放置硅片的石英舟。现有的扩散炉中，存在以下不足 1、现有扩散炉在装载硅片时，操作室操作空间里的一些尘粒，会进入到加热炉炉 腔内比较干净的高温扩散区域中，这些尘粒和杂质，会扩散到硅片中从而影响器件质量。特 别在太阳能硅电池中，这是要解决的问题之一。 2、现有扩散炉在卸载硅片时，硅片及承载硅片的石英舟上会残留有扩散工艺气 体、产生的废气等。尤其是晶体硅太阳能电池的扩散工艺，由于掺杂剂量大，残留气体和废 气就比一般的扩散工艺多，这些残留气体(P205)和废气(Cl2)。若遇到温度较低的冷空气， 其中的水就会与P205结合生成偏磷酸、与Cl2结合生成盐酸。偏磷酸是一种无色玻璃状体， 为有毒物品，对呼吸道有剌激，眼接触或致灼伤，造成永久性损害，皮肤接触可致严重灼伤。 盐酸是一种腐蚀性气体，对人体同样有害。玻璃状的偏磷酸，对后面的工艺有影响。偏磷酸 还容易潮解成磷酸，磷酸和盐酸对设备、仪器、厂房设施产生腐蚀。 3、现在的扩散炉，一般装在洁净厂房中。洁净厂房为密封结构，这些磷酸和盐酸， 将长久破坏净化设施，从而损伤设施、危害操作人员。
技术实现思路
本技术为了解决现有扩散炉中尘粒及残留物易在加热炉和操作室之间扩散，易影响器件的处理质量及损伤设备、人员的缺陷，提供一种带隔离处理装置的扩散炉；通过设置环形风刀将加热炉与操作室的空间隔离，有效减少尘粒及残留物的扩散。 为解决上述技术问题，本技术采用如下技术方案一种带隔离处理装置的扩散炉，包括有加热炉和操作室，加热炉带有炉腔，其炉口朝向操作室方向，在加热炉内还设有可沿炉腔方向内外滑动的石英舟；所述操作室内靠近炉口处设有一中部带圆形开口的隔板，开口内侧嵌有一环形风刀。 所述环形风刀为一连接着送气装置的圆环形管体，在管体内侧设有一圈小气孔； 环形风刀紧密配合在隔板内侧壁上；所述环形风刀及隔板上开口的尺寸等于或大于炉口尺 寸。 所述隔板与炉口之间的空间为排气室，在排气室内设有抽气装置。 所述排气室边侧设有一柱状风刀。 所述柱状风刀为一直管体，在管体侧部开有一排朝向排气室内侧的小气孔；管体 上端部封闭，下端连接有相应的送气装置。 本技术通过在加热炉与操作室之间设置环形风刀，环形风刀形成的风帘有效 将加热炉与操作室间隔离开，这样就可以避免或减少一些尘粒和杂质在高温时扩散到硅片 中，造成对PN结质量的影响；并且卸载时能会吹扫掉硅片上的残留气体，隔离了炉内和操 作间，可以避免残留气体进入到密封的操作间，产生腐蚀、污染和对人员的污染。以下结合附图和实施例对本技术做进一步的说明 附图说明图1为本技术剖视结构示意图。具体实施方式如图1所示一种带隔离处理装置的扩散炉，包括有加热炉1和操作室8，加热炉1 带有炉腔，其炉口 2朝向操作室8方向，在加热炉1内还设有可沿炉腔方向内外滑动的石英 舟3，石英舟3装载有相关的驱动系统及控制软件。所述操作室8内靠近炉口 2处设有一 中部带圆形开口的隔板9，开口内侧嵌有一环形风刀11 ;所述环形风刀11及隔板9上开口 的尺寸等于或大于炉口 2尺寸，以保证当石英舟3载着硅片4时能够通过。隔板9与炉口 2之间的空间为排气室7，在排气室7边侧设有抽气装置。所述环形风刀11为一连接着送 气装置的圆环形管体，在管体内侧设有一圈小气孔10 ;环形风刀11紧密配合在隔板9内侧 壁上。所述排气室7内还设有一柱状风刀5 ;所述柱状风刀5为一直管体，在管体侧部开有 一排朝向排气室7内侧的小气孔6，小气孔6形成风帘的方向与炉口 2平行；管体上端部封 闭，下端连接有相应的送气装置。柱状风刀5起吹落硅片4上残留物及灰尘的作用，而环形 风刀11的作用重点在于隔离空间。前述排气室7内抽气装置作用是抽掉排气室7内的废 气，环形风刀11及柱状风刀5吹出的气体与被抽掉的气体成正比。 所述环形风刀和柱状风刀也可以是现有其它结构类型的风刀，相应的送气装置及 抽气装置参照现有技术。送气装置还包括的氮气气源。 参照图l，环形风刀11为耐高温、耐腐蚀材质的管体，当管体中通有一定压力的干 净N2时，就会沿着这圈小气孔10向中心喷射，形成一个完整的风帘，把操作室8和炉腔隔离 开来。柱状风刀5原理相同。当石英舟3载着硅片4由装载驱动系统带着进隔板9的开口 位置时，控制软件会控制驱动速度，使之在开口附近有所减速，从而使其缓慢穿过风帘。一 方面可吹扫掉硅片4上的尘粒，一方面可以隔离两个空间，使操作室8的尘粒进不了炉腔。 当石英舟3载着硅片4由装载驱动系统带着出炉门柜时，控制软件会控制驱动速度，使之在 炉门柜口附近有所减速，从而使其缓慢穿过风帘。 一方面可吹扫掉硅片上的残留气体， 一方 面可以隔离两个空间，使炉内的残留气体？205)和废气(Cl2)出不了炉内。 本技术公开的技术和装置，对提升设备技术性能，保护生产线操作房间不受 污染，保护操作人员不受伤害起到重要作用。权利要求一种带隔离处理装置的扩散炉，包括有加热炉(1)和操作室(8)，加热炉(1)带有炉腔，其炉口(2)朝向操作室(8)方向，在加热炉(1)内还设有石英舟(3)，其特征在于所述操作室(8)内靠近炉口(2)处设有一中部带圆形开口的隔板(9)，开口内侧嵌有一环形风刀(11)。2. 根据权利要求l所述的带隔离处理装置的扩散炉，其特征在于所述环形风刀(11)为一连接着送气装置的圆环形管体，在管体内侧设有一圈小气孔(10);环形风刀(11)紧密配合在隔板(9)内侧壁上；所述环形风刀(11)及隔板(9)上开口的尺寸等于或大于炉口(2)尺寸。3. 根据权利要求1或2所述的带隔离处理装置的扩散炉，其特征在于所述隔板(9)与炉口 (2)之间的空间为排气室(7)，在排气室(7)内设有抽气装置。4. 根据权利要求3所述的带隔离处理装置的扩散炉，其特征在于所述排气室(7)边侧设有一柱状风刀(5)。5. 根据权利要求4所述的带隔离处理装置的扩散炉，其特征在于所述柱状风刀(5)为一直管体，在管体侧部开有一排朝向排气室(7)内侧的小气孔(6);管体上端部封闭，下端连接有相应的送气装置。专利摘要本技术公开了一种带隔离处理装置的扩散炉，这种技术和装置主要应用于扩散炉中；它包括有加热炉和操作室，加热炉带有炉腔，其炉口朝向操作室方向，在加热炉内还设有可沿炉腔方向内外滑动的石英舟；所述操作室内靠近炉口处设有一中部带圆形开口的隔板，开口内侧嵌有一环形风刀。本技术通过环形风刀形成的风帘有效将加热炉与操作室间隔离开，这样就可以避免或减少一些尘粒和杂质在高温时扩散到硅片中，造成对PN结质量的影响；并且卸载时能会吹扫掉硅片上的残留气体，隔离了炉内和操作间，可以避免残留气体进入到密封的操作间，产生腐蚀、污染和对人员的污染。文档编号H01L21/00GK201488540SQ200920204160公开日2010年5月26日 申请日期本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带隔离处理装置的扩散炉，包括有加热炉（１）和操作室（８），加热炉（１）带有炉腔，其炉口（２）朝向操作室（８）方向，在加热炉（１）内还设有石英舟（３），其特征在于：所述操作室（８）内靠近炉口（２）处设有一中部带圆形开口的隔板（９），开口内侧嵌有一环形风刀（１１）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍波，张勇，李果山，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]