带吹扫处理装置的扩散炉制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了一种带吹扫处理装置的扩散炉，主要应用于扩散炉中；它包括有加热炉和操作室；加热炉带有炉腔，其炉口朝向操作室方向，在加热炉内还设有石英舟；在加热炉与操作室之间还设有排气室，排气室内靠近加热炉炉口处设有一风刀。风刀形成的风面在装载及卸载时可吹扫掉硅片上的尘粒，同时卸载时可使硅片快速冷却，有效提高扩散炉的扩散工艺质量。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种扩散炉，尤其涉及一种带吹扫处理装置的扩散炉。
技术介绍
扩散炉是一种用于半导体材料处理的工艺设备，主要用于掺杂工艺，特别在晶体 硅太阳能电池生产中，扩散炉是唯一的掺杂设备，是制造工艺中对PN结的生成、转换效率 的提高起决定性的关键设备。扩散炉通常由加热炉、操作室及气源组成；加热炉带有炉腔， 其炉口朝向操作室方向；在加热炉内还设有用于放置硅片的石英舟。现有的扩散炉中，存在 以下不足 1、扩散炉在装载硅片时，会有一些尘粒粘附在硅片表面，这些尘粒随硅片进入到 炉口内部高温区域后，会扩散到硅片中从而影响器件质量。特别在太阳能硅电池中，这是要 解决的问题之一。 2、扩散炉在卸载硅片时，硅片及承载硅片的石英舟上会残留有扩散工艺气体、产 生的废气等。尤其是晶体硅太阳能电池的扩散工艺，由于掺杂剂量大，残留气体和废气就比 一般的扩散工艺多，这些残留气体(P205)和废气(Cl2)。若遇到温度较低的冷空气，其中的 水就会与P205结合生成偏磷酸、与Cl2结合生成盐酸。偏磷酸是一种无色玻璃状体，为有毒 物品，对呼吸道有剌激，眼接触或致灼伤，造成永久性损害，皮肤接触可致严重灼伤。盐酸是 一种本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种带吹扫处理装置的扩散炉，包括加热炉（１）和操作室（８），加热炉（１）带有炉腔，其炉口（２）朝向操作室（８）方向，在加热炉（１）内还设有石英舟（３），其特征在于：在加热炉（１）与操作室（８）之间还设有排气室（７），排气室（７）内靠近加热炉（１）炉口（２）处设有一风刀（５）。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：伍波，张勇，李果山，
申请(专利权)人：深圳市捷佳伟创微电子设备有限公司，
类型：实用新型
国别省市：94[中国|深圳]