多晶硅原料水洗槽制造技术

多晶硅原料水洗槽，涉及多晶硅清洗设备，清洗槽下部为支架，清洗槽上面开口、四周及底面为槽壁，其特征在于：清洗槽被下隔板分离为若干槽间，下隔板的下部与底面的槽壁连接；在清洗槽的首槽间的上部设有进水口，进水口与进水管相接，在中间槽间下隔板的前部还设有上隔板，上隔板的下部不与底面的槽壁连接，在每个槽间下部设有排水口，排水口通向排水管。本实用新型专利技术具有以下有益效果：１、省水，由于原料的清洗方向与水流方向相反，清水先经过最后需清洗的原料，最后经过刚需清洗的原料，从而可有效地节省水资源。２、清洗效果好。各槽间漂浮物相互不影响，整体为活水，重杂物与轻杂物均可通过水洗槽得到彻底的清洗，从而确保多晶硅原料的纯净度。（*该技术在2020年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及多晶硅生产
，尤其是涉及多晶硅原料的水洗槽。技术背景现有的多晶硅原料处理过程中，设有原料清洗工序，目的是清洗原料中含有的酸 碱及其它杂质，该工序通常的做法是将原料放入清洗槽内通入清水进行清洗。由于目前清 洗槽设计大多不合理，如设计成阶梯状，存在着两个主要问题其一，漂浮物流动相互影响， 其二，下部水成为死水，起不到清洗作用。这样，清洗效果不理想，因而造成水资源浪费严重。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种多晶硅原料水洗槽，它可克服现有技术的缺陷，做 到漂浮物不相互影响，将整个清洗水的形成活动水系，从而既保证清洗效果，又节省水资 源。为实现上述目的，本技术采用如下技术方案多晶硅原料水洗槽，清洗槽下部 为支架，清洗槽上面开口、四周及底面为槽壁，其特征在于清洗槽被下隔板分离为若干槽 间，下隔板的下部与底面的槽壁连接；在清洗槽的首槽间的上部设有进水口，进水口与进水 管相接，在中间槽间下隔板的前部还设有上隔板，上隔板的下部不与底面的槽壁连接，在每 个槽间下部设有排水口，排水口通向排水管。本技术还可通过以下方案进一步实现防水上隔板的上端还设有上隔板上沿。上隔板与下隔板间相距1-本文档来自技高网...

【技术保护点】
多晶硅原料水洗槽，清洗槽下部为支架，清洗槽上面开口、四周及底面为槽壁，其特征在于：清洗槽被下隔板分离为若干槽间，在清洗槽的首槽间的上部设有进水口，进水口与进水管相接，在中间槽间下隔板的前部还设有上隔板，上隔板的下部不与底面的槽壁连接，下隔板的下部与底面的槽壁连接，在每个槽间下部设有排水口，排水口通向排水管。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：霍立，孙嘉，孙志刚，刘茂华，
申请(专利权)人：安阳市凤凰光伏科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：41