【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及半导体制造领域,尤其涉及靶材的加工方法。
技术介绍
溅射是物理气相沉积(PVD)技术的一种,目前常用来进行薄膜沉积。具体过程是以一定能量的粒子轰击固体表面,使固体近表面的离子能够获得足够的能量而最终逸出固体,在溅射过程中,被轰击的固体材料称为靶材。靶材由靶材坯料(Target Blank)和支撑靶材坯料的背板(Backing Plate)组成。实际生产中为了满足溅射镀膜的需要,常通过将靶材分割成多个靶材小片,即分割靶材,于背板上进行接合,从而制造溅射靶材。专利申请号为200880001823. 9的专利申请文件中就公开了一种此类由分割靶材构成的溅射靶。图1是一种现有的扇形分割靶材的正面示意图。所述分割靶材包括平面11、斜面 12、固定孔13和凹槽14。图3是图1沿A-A线的的剖视图。结合图1和图3可以看出,凹槽14位于平面11上,所述凹槽14有多个,与靶材同心,各凹槽14形状、尺寸相同,且间距相同。图2是图1中分割靶材的反面示意图,包括平面21和斜面22。现有技术中三片所述分割靶材接合组成一个完整的圆形靶材,主要的加工方法包括以下步骤首先提供方形 ...
【技术保护点】
1.一种靶材的加工方法,其特征在于,所述方法包括:提供靶材坯料;对所述靶材坯料按目标靶材的形状进行下料,所述目标靶材为多个分割靶材装配组成的靶材;对下料后的靶材坯料进行机械加工,得到半成品靶材;将所述半成品靶材利用线切割进行分割,得到分割靶材。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员:姚力军,潘杰,王学泽,陈玉蓉,
申请(专利权)人:宁波江丰电子材料有限公司,
类型:发明
国别省市:97
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