微波照射装置制造方法及图纸

为均匀处理多个试样而提出的微波照射装置，包括：形成为Ｘ轴边的长度为ａ（ａ＞０）、Ｙ轴边的长度为ｂ（ｂ＞０）、Ｚ轴边的长度为ｃ（ｃ＞０）的ＴＭ（Ｔｒａｎｓｖｅｒｓｅ?Ｍａｇｎｅｔｉｃ）（１１０）模式的方形谐振腔的照射室（１０）；设置在该照射室（１０）的Ｙ－Ｚ面壁（１１、１２）上的狭缝（１３、１４）；通过该狭缝（１３、１４）进入照射室（１０），能够沿着照射室（１０）内的Ｘ－Ｚ面移动的输送片（２０）；设置在该输送片（２０）上的试样支架（２１）。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及对位于照射室内的物体照射微波的微波照射装置。
技术介绍
近年，在生物相关领域，提出了在试样的处理中使用微波。即，将保持有试样的试 样支架放入所谓微波炉中进行处理的微波照射装置。该情况下，对于保持在试样支架上的 多个试样，如何均勻地照射微波成为问题。在微波炉型的微波照射装置的情况下，由于在照射室内产生驻波，所以无论怎样 都存在该驻波引起的微波强弱场所分布的不均，将在试样支架上并列的试样均勻地以40°C 左右的温度进行处理是困难的。因此，提出例如专利文献1、2记载的方法。该方法是对试 样支架进行改进，使保持试样的有底孔的间隔和微波的波长相关联，再通过在试样支架的 下方设置作为虚拟负载的物体，由此实现全体试样的照射的均勻化。专利文献1 日本特开平07-198572号公报专利文献2 日本特开平09-017566号公报
技术实现思路
上述专利文献的技术是将保持有试样的试样支架一次一次地通过手工放入拿出 而进行的分批处理，没有设想自动地进行连续处理的情形。即，在与生物技术或医疗相关的 试样的处理中，谋求将微量的试样以40°C左右的较低温度均勻地处理，但能够持续照射与 其相适应的低输本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种微波照射装置，其构成包括：Ｘ轴边的长度为ａ（ａ＞０）、Ｙ轴边的长度为ｂ（ｂ＞０）、Ｚ轴边的长度为ｃ（ｃ＞０）的ＴＭ１１０模式的方形谐振腔的照射室；设置在该照射室的Ｙ－Ｚ面壁上的狭缝；通过该狭缝进入所述照射室并能够沿着所述照射室内的Ｘ－Ｚ面移动的输送片；设置在该输送片上的试样支架。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：富田昭，斎田久人，
申请(专利权)人：株式会社斎田FDS，
类型：发明
国别省市：JP[日本]