用于平版印刷版的显影和封印的方法技术

描述了一种制备成像的平版印刷版的方法，其中的显影剂包含的 亲水聚合物含有：(m1)衍生自至少一种含聚氧亚烷基链和可自由基聚 合的基团两者的化合物的结构单元，以及(m2)衍生自至少一种可与(i) 的可自由基聚合的基团进行共聚的化合物并包含至少一个pKs＜5的官 能团的结构单元。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】专利说明 本专利技术涉及用于对成像曝光的平版印刷版进行显影和封印的方法，其中显影剂包含水溶性的亲水共聚物。 平版印刷是基于油和水的不混溶性进行，其中油性材料或印墨优选被成像区域吸收，而水或润版液优选被非成像区域吸收。当一适当产生的表面被水润湿并涂布了印墨后，背景或非成像区域接受水并排斥印墨，而成像区域接受印墨并排斥水。然后，成像区域内的印墨转移到诸如纸张，织物等材料的表面，而在其上形成图像。然而，印墨一般是首先转移到被称为橡皮布(转印布)的介质材料上，其随后将印墨转移到将形成图像的材料表面；这一技术被称为胶版印刷术。 一类经常使用的平版印刷版前体包含涂布在铝基基板(衬底)上的光敏涂层。辐射可使该涂层发生反应，从而使曝光部分变为水溶性的，以致于在显影过程中被除去。这种版即为正性工作的。另一方面，如果涂层的曝光部分经辐照后变硬，则这种版为负性工作的。在两种情况下，剩余的成像区域都接受印墨，即其为亲油的，而非成像区域(背景)接受水，即其为亲水的。成像区域和非成像区域之间的差别在曝光中得以显现，为此在真空下将薄膜附着在印刷版前体上以保证获得良好的接触。然后，用包含UV辐射的辐射源对版进行曝光。当使用的是正性版时，膜上对应于版上图像的区域是不透明的，以致于阻止光到达版，而膜上对应于版上非成像的区域是清晰的并使得光透过涂层，其溶解性得以增加。当使用的是负性版时，情况相反。膜上对应于版上图像的区域是清晰的，而非成像区域是不透明的。在清晰的膜区域之下的涂层在入射光下(如通过光聚合作用)而变硬，而未受光影响的区域在显影过程中被除去。这样，负性工作版的光硬化的表面为非透明的并接受印墨，而曾经由那些被显影剂除去的涂层涂覆的非成像区域经脱感而变为亲水性的。 作为另外一种可选方案，版也可在无膜存在下例如用激光进行数字成像曝光。根据最新进展，使用了具有热敏层的版前体，其中，通过直接加热或被转换成热的IR辐射的照射，在涂层的受热和未受热区域出现不同的显影剂溶解性。 有时，水溶性聚合物用作平版印刷版前体上的临时涂层(有时称之为“外涂层(保护涂层)”)，该平版印刷版前体具有对氧敏感的涂层如可光聚合的涂层。水溶性聚合物具有保护涂层在储存、曝光以及尤其在曝光和进一步处理(显影等)期间受大气中氧的影响的功能。在这段时间内，临时涂层必须显示出对光敏基板足够的粘附力，从而保证在无涂层破裂下进行安全的操作(生产，包装，运输，曝光等)。在显影之前，除去外涂层，优选是通过水洗或将外涂层与非成像部分一起溶解在显影剂中。 通常，在涂布辐射敏感层之前，对基板，尤其是具有氧化铝层的铝基板提供亲水保护层(也成为“夹层”)。该亲水层改善了平版印刷版的(非印刷)背景区域的受水性，并在这些区域改善斥印墨性。合适的亲水保护层还确保在显影期间辐射敏感层的可溶部分易于除去且基板上无残留物，从而在印刷期间获得清洁的背景区域。如果没有无残留物式去除，则会在印刷期间发生所谓的调色，即背景区域会接受印墨。 为获得清洁的印刷图像，必须做到成像区域(即成像后剩余涂层)能够较好地接受印墨，而非成像区域(即经成像露出的基板，如铝基板)应当不接受印墨。为了保护经成像露出的基板，如铝基板在印刷版安装在印刷机中时不受指纹、形成的氧化铝、腐蚀和机械破坏，如划痕的影响，即保持和尽可能改善非成像区域的亲水性，通常对显影的印刷版进行“涂胶”处理(也成为“修版”)。在版储存之前或印刷机进行长期闲置之前进行涂胶以确保非成像区域保持亲水性。当印刷开始时，涂胶溶液要求能够使用润版液快速地从版上洗去从而使得成像区域能够快速地吸收墨水。涂胶溶液已经在很长的时间被知晓并且例如在DE 29 26 645，DE 20 42 217 A1，US 4,880,555 A1，US 4,033,919A1，和US 4,162,920A1中被公开。 DE 25 04 594 A1公开了一种含有磷酸的涂胶溶液以及一种共聚物，该共聚物含有衍生自丙烯酰胺的结构单元以及具有羧基的结构单元。该涂胶溶液不适用于对疏水涂层(如不含夹层的基板)具有高的粘附性的平版基板，这是因为在印刷时在这些版上观察到调色现象。 DE 29 25 363 A1描述了一种包含水相和油相的涂胶组合物，其中水相含有亲水聚合物，油相含有有机溶剂、HLB＜14的非离子烷基苯基表面活性剂、脂肪酸酯表面活性剂和阴离子表面活性剂。尽管这种组合物向具有夹层的版提供了良好的去感光性，但却不适用于对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)，这是因为在这种版上观察到了调色现象。另一种用于平版的乳化类型的表面保护剂在EP943 967 A2中被公开；由于存在调色问题它也不适用于无夹层的版。 在US 4,143,021；US 414,531；US 4,266,481和US 5,736,256中公开的涂胶组合物也不适用于对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)，这是因为在印刷机上观察到了调色现象。 在EP985 546 A1中，公开了一种用于平版的表面保护剂，其是环氧乙烷和环氧丙烷的特定共聚物。在涂胶溶液中使用这种试剂不能防止在对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)的印刷过程中出现调色现象。 EP 1 199 606 A1公开了一种制备负性工作平版印刷版的方法，其中显影溶液含有无机碱性试剂和具有聚氧亚烷基醚基团的非离子表面活性剂。已发现对疏水涂层具有高粘附性的平版基板(如无夹层的基板)的清理特性不足，而如果使用了这种显影溶液则在印刷机上观察到很强的调色现象。 为了使平版印刷版表现出优异的性能，基板必须具有良好的亲水性且(涂层的)成像区域必须对基板具有好的粘附性。为了避免在印刷时出现调色现象，基板必须具有良好的亲水性。因此，常常在基板上涂布夹层以提高基板的亲水性。不幸的是，夹层通常会降低印刷图像区域和基板之间的粘附力，进而会缩短印刷运转周期。 为了提高印刷图像的质量(如图像的解析度)，研制出了具有30μm点尺寸或更低点尺寸的FM屏(FM＝调频)，此时点的尺寸变得非常小，从而导致更差的粘附力。对于用FM屏进行成像的版前体而言，重要的是具有极好的粘附力；然而还期望调色现象不是一个大问题(即基板的亲水性能优异)。 因此，本专利技术的目的是提供一种制备成像的平版印刷版的方法，该平版印刷版不受调色的影响，同时图像区域对基板显示出良好的粘附性。 该目的出乎意料地通过下述方法得以实现，该方法包括 (a)经辐射对平版印刷版前体进行成像曝光，该前体包括 (i)基板 (ii)包含一层或多层的辐射敏感涂层，以及 (iii)任选的不渗氧外涂层， 其中辐射为使辐射敏感涂层感光的辐射； (b)使用水性显影剂对已成像曝光的前体进行处理，其中水性显影剂的pH值＞6且包含 (i)水， (ii)至少一种亲水聚合物， 其包含 (ml)由至少一种包含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团的化合物衍生出的结构单元，以及 (m2)由至少一种可与(ml)的可自由基聚合的基团进行共聚并包含至少一个pKs＜5的官能团的化合物衍生出的结构单元，以及 (iii)任选的至少一种选自表面活性剂，碱性试剂，形成水溶性膜的亲水性聚合物，选自有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种制备成像的平版印刷版的方法，包括：　（ａ）经辐射对平版印刷版前体进行成像曝光，该前体包括　（ｉ）基板　（ｉｉ）包含一层或多层的辐射敏感涂层，以及　（ｉｉｉ）任选的不渗氧外涂层，其中辐射为使辐射敏感涂层感光的辐射；（ｂ）使用水性显影剂对已成像曝光的前体进行处理，其中水性显影剂的ｐＨ值＞６且包含　（ｉ）水，　（ｉｉ）至少一种亲水聚合物，其包含　（ｍ１）由至少一种包含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团两者的化合物衍生出的结构单元，以及　（ｍ２）由至少一种可与（ｍ１）的可自由基聚合的基团进行共聚并包含至少一个ｐＫ↓［ｓ］＜５的官能团的化合物衍生出的结构单元，其中酸性官能团可以游离酸基团或盐的形式存在，　（ｉｉｉ）任选的至少一种选自表面活性剂，碱性试剂，形成水溶性膜的亲水性聚合物，选自有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、抗腐蚀剂以及自由基抑制剂的添加剂；以及　（ｃ）任选的至少一步选自用水冲洗、干燥和烘焙的步骤。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】2006.9.20 EP 06019680.51.一种制备成像的平版印刷版的方法，包括(a)经辐射对平版印刷版前体进行成像曝光，该前体包括(i)基板(ii)包含一层或多层的辐射敏感涂层，以及(iii)任选的不渗氧外涂层，其中辐射为使辐射敏感涂层感光的辐射；(b)使用水性显影剂对已成像曝光的前体进行处理，其中水性显影剂的pH值＞6且包含(i)水，(ii)至少一种亲水聚合物，其包含(m1)由至少一种包含聚氧亚烷基链和可自由基聚合的基团两者的化合物衍生出的结构单元，以及(m2)由至少一种可与(m1)的可自由基聚合的基团进行共聚并包含至少一个pKs＜5的官能团的化合物衍生出的结构单元，其中酸性官能团可以游离酸基团或盐的形式存在，(iii)任选的至少一种选自表面活性剂，碱性试剂，形成水溶性膜的亲水性聚合物，选自有机溶剂、杀生物剂、配位剂、缓冲物质、滤光染料、防沫剂、抗腐蚀剂以及自由基抑制剂的添加剂；以及(c)任选的至少一步选自用水冲洗、干燥和烘焙的步骤。2.根据权利要求1的方法，其中辐射敏感涂层存在于不含夹层的基板上。3.根据权利要求1或2的方法，其中辐射敏感性涂层对波长范围为250～750nm的辐射敏感，并且在步骤(a)中，前体通过选自250～750nm范围内的波长的辐射进行成像曝光。4.根据权利要求1或2的方法，其中辐射敏感性涂层对范围从超过750nm至1200nm的波长的辐射敏感，并且在步骤(a)中，前体通过范围从超过750nm至1200nm内的波长的辐射进行成像曝光。5.根据权利要求1～4中任何一项的方法，其中亲水聚合物(ii)包含衍生自至少一种化合物的结构单元(m1)，该至少一种化合物选自聚(乙二醇)甲基丙烯酸酯；聚(乙二醇)丙烯酸酯；聚(丙二醇)甲基丙烯酸酯、聚(丙二醇)丙烯酸酯、丙烯酸或甲基丙烯酸与环氧乙烷和环氧丙烷的嵌段共聚物的单酯；2，4-甲苯二异氰酸酯封端的聚乙二醇或聚丙二醇或聚乙二醇与聚丙二醇的嵌段共聚物或聚(乙二醇-无规-环氧丙烷)与丙烯酸羟...

【专利技术属性】
技术研发人员：C·辛普森，B·施特雷梅尔，H·鲍曼，U·菲巴格，M·亚雷克，
申请(专利权)人：伊斯曼柯达公司，
类型：发明
国别省市：US