光漫射器、光掩模以及它们的制造方法技术

一种具有随机开口的大掩模可这样形成，即形成具有透射开口的随机图案的较小掩模（还被称为单元掩模），然后将该较小掩模重复复制以产生该较大掩模。该随机图案可通过将开口地点扰动较小的量而产生，或者在满足一定准则的条件下，开口可被随机放置在单元掩模内。作为选择，具有透射开口的随机图案的大掩模可不使用单元掩模而形成。这种大掩模可用于制造没有遭受在具有被非随机地构图的结构的器件中常见的干涉、衍射和其它光学效应的漫射器以及其它器件。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术总体上涉及光漫射器(diffuser)、光掩冲莫以及它们的制 造方法，并且尤其涉及具有随机放置(place)的结构的光漫射器、具 有随机放置的开口的光掩模，以及它们的制造方法。
技术介绍
光掩模可用于制造光漫射器和多种其它光学器件。通常，大多数 光掩模具有规则的并且非常有序的开口。但是，得到的光学器件常常 会由于通过规则的且非常有序的掩模所产生的特征而遭受衍射、干涉 或其它光学效应。因此，本领域中强烈地需要可解决这些问题的器件 和掩模。
技术实现思路
本专利技术的一个方面提供了一种光掩模，该光掩模包括具有多个区 域的掩模。该多个区域中的每一个具有被随机定位的透射开口的基本 相同的图案(pattern)。本专利技术的另一个方面是提供一种制造光掩模的方法，该方法包括 通过随机生成透射开口位置选择透射开口图案和在掩模的多个区域中 形成所述透射开口图案。本专利技术的另一个方面是提供一种光学器件，该光学器件包括在基 底上具有包含被随机定位的器件结构的至少 一个区域的器件，该随机 定位的器件结构中的每一个具有底部和顶部。该底部位于该顶部和该基底之间，并且所述随机定位的器件结构的顶部附近的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种光掩模，该光掩模包括：　具有多个区域的掩模，　其中，该多个区域中的每一个具有被随机定位的透射开口的基本相同的图案。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：路志坚，
申请(专利权)人：路志坚，
类型：发明
国别省市：US[美国]