掩模板清洁装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术提供一种掩模板清洁装置，包括：放置掩模板的清洁台，所述清洁台的上方设置有吹气装置，所述吹气装置连接有进气管和驱动所述吹气装置水平移动的驱动装置。本实用新型专利技术掩模板清洁装置，通过在掩模板上方水平移动的吹气装置对掩模板进行吹气，使掩模板上的污染物随清洁后的气体排离掩模板表面，达到了清洁掩模板的目的。（*该技术在2019年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及液晶显示器制造
，尤其涉及一种掩模板清洁装置。
技术介绍
目前，在薄膜晶体管一 液晶显示器(Thin Film Transistor —Liquid Crystal Display,以下简称TFT-LCD)生产中，玻璃基板上图案的形成 是通过光化学反应，将掩膜板上的图案转移到涂有光刻胶的玻璃基板上来 实现的。将掩模板覆盖在涂有光刻胶的玻璃基板表面，用紫外光选择性照射 光刻胶，使受到光照的光刻胶发生化学变化，经上述曝光工序之后，发生化 学变化的部分光刻胶在显影液中的溶解度被改变。显影之后，光刻胶显现出 与掩模板相对应的图案。因此，如果掩模板有缺陷，就会影响到玻璃基板 上图案的质量。掩模板很容易产生缺陷，使掩模板产生缺陷的原因有两种 一种是由 于制作、搬运或者使用不当造成光掩模板自身固有的缺陷，这种缺陷可通 过严格出厂检验、规范使用等方法来防止，使有缺陷的掩模板不进入后序 的生产工艺；另一种是由于生产过程中产生的微粒附着于掩模板的表面， 或者由于人为或其它原因使掩模板表面产生污渍等，使掩膜板受到污染。 这种缺陷可以通过清洁掩模板的方法来避免。在现有掩模板更换装置(mask changer)的操作工序中，从在暗盒 (mask cassette)中取出掩模板到对掩膜板进行曝光操作之间，没有清洁装 置对掩膜板进行清洁，无法消除掩膜板所受到的污染，导致玻璃基板上的 图像失真，从而降低了经曝光之后玻璃基板的质量。
技术实现思路
本技术的目的是提供一种掩才莫板清洁装置，能够消除掩膜板所受到 的污染，避免玻璃基板上的图像失真，提高经曝光之后玻璃基板的质量。为实现上述目的，本技术提供了一种掩模板清洁装置，包括 放置掩模板的清洁台，清洁台的上方设置有吹气装置，该吹气装置连接 有进气管和驱动该吹气装置水平移动的驱动装置。进一步，驱动装置还包括至少一个螺紋旋杆，该螺紋旋杆连接有驱动吹气装置从螺紋旋杆的一端向另 一端移动的电机。该掩^f莫板清洁装置还包括封闭清洁台、吹气装置和驱动装置的外壳； 外壳扣设于所述清洁台上，外壳上设有供所述进气管穿过的通气孔和排放清 洁后气体的排气口。该外壳还连接有分离所述外壳与所述清洁台的升降装置。该升降装置包 括横梁，横梁的两端连接有两个臂形连接件，臂形连接件分别与外壳的两端连接。本技术掩模板清洁装置的电机驱动螺紋旋杆旋转时，吹气装置沿螺 紋旋杆在掩模板上方进行水平移动，同时吹气装置对掩模板进行吹扫，使掩 模板上的污染物随清洁后的气体排离掩模板表面，能消除掩膜板所受到的污 染，达到了清洁掩模板的目的。附图说明图1为本技术掩模板清洁装置第一实施例的内部结构示意图； 图2为本技术掩模板清洁装置第一实施例的外壳主视图； 图3为本技术掩模板清洁装置第二实施例的外壳结构示意图。具体实施方式以下结合附图和具体实施例进一步说明本技术实施例的技术方案。本技术掩模板清洁装置，包括清洁台、进气管、吹气装置和驱动 装置。清洁台要求平整好、能防止静电，用于放置需清洗的掩模板。清洁台的 上方设有吹气装置。吹气装置与进气管连接，进气管用于向该吹气装置通入 气体；吹气装置还与驱动该吹气装置水平移动的驱动装置连接。驱动装置可以由螺紋旋杆和电机构成。吹气装置上设有与螺紋旋杆上螺 紋相对应的螺帽。当电机驱动螺紋旋杆旋转时，吹气装置上的螺帽沿螺紋旋 杆向前或向后移动，从而使吹气装置从螺紋旋杆的一端向另一端移动。另夕卜， 吹气装置与驱动装置也可以通过皮带或链条连接，同时驱动装置采用气缸。吹气装置要与掩模板的表面有一定的角度，避免刮伤掩模板的表面。吹 气装置可采用气枪，气枪为塑料材质且内部不带润滑剂，以防止气枪内部的 污渍污染掩模板的表面。在对掩横板清洁之前，先将掩模板放置在清洁台上。然后通过进气管向 吹气装置通入气体，吹气装置开始对掩模板表面进行吹扫。同时，驱动装置 驱动吹气装置在掩模板上方进行水平移动，对掩模板的表面来回吹扫。为防 止掩模板受到气体污染，吹气装置的气体必须是氮气或压缩空气。本技术掩模板清洁装置，通过在掩模板上方水平移动的吹气装置对 掩模板进行吹气，使掩模板上的污染物随清洁后的气体排离掩模板表面，能 够消除掩膜板所受到的污染，达到了清洁掩模板的目的。为了能将掩模板置于封闭的环境中进行清洁，以达到更好的清洁效果， 本技术掩模板清洁装置还包括封闭清洁台、吹气装置和驱动装置的外 壳。外壳上设有通气孔和排气口，外壳扣设于清洁台上。对掩模板清洁之前， 先通过通气孔向进气管供气，气体经进气管进入吹气装置。吹气装置在掩模 板上方对掩模板进行吹气，吹出的气体携带掩冲莫板表面的污染物经排气口排 出外壳。图1为本技术掩模板清洁装置第一实施例的内部结构示意图，图2 为本技术掩模板清洁装置第一实施例的外壳主视图，如图1和图2所示， 本技术掩模板清洁装置包括清洁台、外壳l、进气管2、吹气装置3、 螺紋》走4干4和电才几5。外壳能将清洁台、吹气装置、螺紋旋杆和电机完全封闭，且外壳上设有 通气孔11和排气口 12。进气管的一端与外壳上的通气孔11连接，进气管2的另一端与吹气装置 3的供气口 31连接。螺紋旋杆4与驱动吹气装置从螺紋旋杆4的一端向另一端移动的电机5 连接。吹气装置3上带有螺帽，当电机带动螺紋旋杆旋转时，吹气装置上的 螺帽沿螺紋旋杆顺时针或逆时针旋转，从而使吹气装置沿螺紋旋杆向前或向 后移动。对掩模板清洁时，先将掩模板置于清洁台上，然后向掩模板清洁装置外 壳的通气孔通入氮气或真空，通入的氮气或真空沿进气管进入到吹气装置内 部，吹气装置通过吹气口 32开始向掩模板吹气。吹气装置吹出的气体携带污 染物，通过外壳上的排气口外壳内排出，防止二次污染掩模板。吹气装置吹气的同时，电机带动螺紋旋杆沿某个方向旋转，吹气装置上 的螺帽随螺紋旋杆旋转并前移，从而使吹气装置向前移动；当电机驱动装置 带动螺紋旋杆旋杆沿另一个方向旋转时，吹气装置上的螺帽随螺紋旋杆旋转 并后退，从而使吹气装置向后移动。因此，吹气装置能在掩模板的上方对掩 模板进行来回吹扫，使掩模板被吹扫的面积增大，实现了有效清洁掩模板的 目的。本技术掩模板清洁装置，将掩模板放在封闭的外壳中进行清洗。电 机驱动螺紋旋杆旋转时，吹气装置沿螺紋旋杆在掩模板上方进行水平移动， 同时吹气装置对掩模板进行吹扫，使掩模板上的污染物随清洁后的气体从外 壳上的排气口排出，达到了清洁掩模板的目的。为了使外壳与清洁台能够分离，以便取出掩模板，本技术掩模板清洁装置还包括分离外壳与清洁台的升降装置。图3为本技术掩才莫板清 洁装置第二实施例的外壳结构示意图，如图3所示，升降装置由横梁6和臂 形连接件7构成。横梁的两端连接两个臂形连接件，两个臂形连接件分别与 外壳的两端连接。利用掩模板清洁装置对掩模板进行清洁时，将横梁和臂形连接件降落， 与臂形连接件相连接的外壳也随之降落，从而使外壳将清洁台、进气管、吹 气装置和驱动装置完全封闭。当清洁完掩模板后，将横梁与臂形连接件升起， 使封闭清洁台、进气管、吹气装置和驱动装置的外壳打开，以便取出掩模板。为了使掩模板清洁装置的外壳能与由横梁和臂形连接件构成的升降装置. 分离，以便于掩模板清洁装置的本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种掩模板清洁装置，其特征在于，包括：放置掩模板的清洁台，所述清洁台的上方设置有吹气装置，所述吹气装置连接有进气管和驱动所述吹气装置水平移动的驱动装置。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：冯京，汪荣，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：实用新型
国别省市：11[中国|北京]