制造可旋转溅射靶的方法技术

本发明专利技术涉及制造可旋转溅射靶的方法。该方法包括步骤：提供衬管；通过将至少一个狭长元件围绕所述衬管进行卷绕而在所述衬管上提供靶材；在所述靶材的顶部提供外部材料；对所述外部材料和／或对所述衬管施加热和／或压力；去除所述外部材料。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及。
技术介绍
使用溅射靶在大面积基材例如玻璃或狭长的柔性基材上沉积涂层 例如金属涂层或陶瓷涂层在本领域中是公知的。可以通过许多不同方法例如通过粉末的等静压、浇注或喷涂来制造溅射靶例如可旋转溅射靶。等静压法可以包括冷等静压(CIP)、温等 静压(WIP)或热等静压(HIP)。在本领域中已知的等静压法中，将粉末注入到衬管和外容器之间， 在例如1(T巴的真空下将所述粉末除湿和/或脱气，并且可以例如通过 真空焊接来密封村管和外容器之间的空间。在等静压单元中，以预定速率将压力和/或温度提高到所需的加工 值。在预定时间段(维持时间)期间、这两个参数保持恒定。最后， 以一定速率降低温度和/或压力直到可以打开等静压单元。在等静压步骤后，通过碾磨去除外容器，在外表面可以获得致密化的粉末。虽然粉末的热等静压允许使靶材致密化，但粉末的热等静压显示 出许多缺点。首先，因为该方法需要用细粉末进行，这引起健康和安全问题。 其次，因为需要粉末的高流动性来有效填充衬管和外容器之间的 间隙，所以该粉末必须满足特定要求。此外，通过使用粉末可以获得的振实密度(tapping density)通 常过低，本文档来自技高网...

【技术保护点】
制造可旋转溅射靶的方法，所述方法包括步骤：　－提供衬管；　－通过将至少一个狭长元件围绕所述衬管进行卷绕而在所述衬管上提供靶材；　－在所述靶材的顶部提供外部材料；　－对所述外部材料和／或对所述衬管施加热和／或压力；　 　－去除所述外部材料。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：A德斯迈特，H莱温斯，
申请(专利权)人：贝卡尔特股份有限公司，
类型：发明
国别省市：BE[比利时]