一种二氧化硅增透膜的制备方法技术

技术编号:5051664 阅读:283 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术提供了一种二氧化硅增透膜的制备方法,包括以下步骤:a)将含有正硅酸乙酯和无水乙醇的体系混合均匀,碱性条件下通过溶胶-凝胶法得到二氧化硅溶胶;所述体系中还含有可溶性碳酸盐、碳酸氢盐、柠檬酸盐、酒石酸盐和草酸盐中的一种或几种;b)采用步骤a)得到的二氧化硅溶胶进行涂膜,热处理,得到所述二氧化硅增透膜。本发明专利技术提供的制备方法,能稳定制得折射率在1.18-1.32,透光率97-99%的增透膜,工艺简单可控,可重复性高。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及。
技术介绍
增透膜又叫减反射膜,即用于减少表面反射、增加光线透过率的薄膜,能提高工作 波长或波段内的性能。溶胶-凝胶法用于镀膜最早出现在上世纪六十年代末,利用正硅酸 乙酯(TEOS)在乙醇(EtOH)溶液中在氨水的水解和缩聚制备了单分散的球块状二氧化硅颗 粒,并由此生产了第一批增透膜。但该方法对于氧化硅薄膜折射率可控性较差、重复性差。US4535026公开了一种宽带减反射膜的制备方法,通过在基片上先沉积一层二氧 化硅薄膜,然后采用弱的玻璃腐蚀剂(如HF)腐蚀基片上的薄膜涂层,形成多孔且孔洞率由 里到外递增,二氧化硅薄膜的厚度在预定的光波段范围内最长波长的1/4,约150-600nm。 该薄膜涂层的多孔结构控制依赖于热处理工艺、腐蚀液浓度、腐蚀时间、温度及其它相应试 剂的运用,该方法可控制性差,工艺繁琐且易产生环境公害。CN100346177C公开了一种防水型宽带高增透膜及其制备方法,该薄膜通过溶 胶-凝胶法形成SiO2溶胶,加入聚苯乙烯(PS)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA),旋涂镀膜后经 三甲基氯硅烷、正己烷表面改性而成。但是该薄膜的制备工艺繁琐,且该增透膜的折射率本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种二氧化硅增透膜的制备方法,包括以下步骤:a)将含有正硅酸乙酯和无水乙醇的体系混合均匀,碱性条件下通过溶胶-凝胶法得到二氧化硅溶胶;所述体系中还含有可溶性碳酸盐、碳酸氢盐、柠檬酸盐、酒石酸盐和草酸盐中的一种或多种;b)采用步骤a)得到的二氧化硅溶胶进行涂膜,热处理,得到所述二氧化硅增透膜。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:张斌薛进营周维
申请(专利权)人:比亚迪股份有限公司
类型:发明
国别省市:94[中国|深圳]

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