防反射用光学元件以及原盘的制造方法技术

本发明专利技术提供了防反射用光学元件以及用于制造该防反射用光学元件的原盘的制造方法。本发明专利技术的光学元件通过在基体表面以小于等于可视光的波长的细微间隔配置多个由凸部或凹部构成的构造体而形成。各构造体被配置成在基体表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案或准六边形格子图案。构造体为在轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥形状或椭圆锥台形状。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
元件的原盘的制造方法。尤其涉及一种在表面上以小于等于可一见光 波长的细微间隔配置有多个由凸部或凹部构成的构造体的防反射用光学元件。
技术介绍
现有技术中，存在以下方法在采用了玻璃、塑料等透光性基 材的光学元件中，进行用于抑制光的表面反射的表面处理。作为这 种表面处理，存在在光学元件表面形成孩t小且致密的凹凸(蛾眼 (moth eye))形状的方法(例如参照"光4支术4妻触"「光技術〕> 夕夕卜」Vol.43，No.ll(2005),630-637 )。一般，当在光学元件表面设置周期的凹凸形状的情况下，光透 过这里时会发生衍射，透过光的直线传播成分会大幅度减少。但是， 当凹凸形状的间隔短于透过光的波长的情况下，不会发生衍射，比 如当凹凸形状为下文中描述的矩形时，对于其间隔或深度等所对应 的单一波长的光，则可以获得有效的防反射效果。作为采用电子束曝光制作的蛾眼(^"77一 )构造体，公开有 孩吏小帐状的蛾眼构造体(间隔约300nm，深度约400nm )(参照NTT 先进技术(抹)、"无波长依存性的防止反射体(蛾眼)用成形金属 才莫原盘，，、online 、 平成20年2月 27 日4企索、网全各<URL:http〃keytech.ntt-at.co.jp/nano/prd—0033.html〉 ) ( N T T T卜、、 ^乂7亍夕乂口^ (株)、"波長依存性0&V、反射防止体(乇7了 一)用成形金型原盤"、、、O 夕 一 氺、乂卜<URL:http〃keytech.ntt-at.co.jp/nano/prd—0016.html〉参照)。该蛾眼构造体可以获得反射率小于等于1%的高性能防反射特性。但是，近年来，为了提高液晶显示装置等各种显示装置的可一见 性，渴望实现更卓越的防反射特性。
技术实现思路
因此，本专利技术的目的在于提供防反射特性卓越的防反射用光学为了解决上述问题，本专利技术第一方面的防反射用光学元件，其 包括基体；以及多个凸状或凹状的构造体，以小于等于可视光的 波长的细微间隔被配置在基体的表面，其中，各个构造体被配置成 在基体表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案、准六边形格子 图案、四边形格子图案或准四边形格子图案，构造体是沿轨迹的延 伸方向具有长轴方向的椭圓锥或椭圓锥台形状。本专利技术第二方面的防反射用光学元件，其包括基体；以及多 个由凸部或凹部构成的构造体，以小于等于可光的波长的细樣吏间 隔被配置在基体的表面，其中，各个构造体^皮配置成在基体表面构 成多列專九迹，且形成准六边形4各子图案、四边形才各子图案或准四边 形格子图案，构造体对基体表面的填充率大于等于65%。本专利技术第三方面的防反射用光学元件，其包括基体；以及多 个由凸部或凹部构成的构造体，以小于等于可一见光的波长的细樣殳间隔被配置在基体的表面，其中，各个构造体被配置成在基体表面构 成多列轨迹，且形成准六边形格子图案，当将相同轨迹内的构造体 的配置间隔设定为Pl，并将构造体底面在轨迹方向上的直径设定为2r时，直径2r对配置间隔Pl的比率((2r/Pl ) xi00)大于等于 85%。本专利技术第四方面的防反射用光学元件，其包括基体；以及多 个由凸部或凹部构成的构造体，以小于等于可视光的波长的细纟殷间 隔:故配置在基体的表面，其中，各个构造体被配置成在基体表面构 成多列轨迹，且形成四边形才各子图案或准四边形4各子图案，当习夸相 同轨迹内的构造体的配置间隔设定为Pl，并将构造体底面在轨迹方 向上的直径i殳定为2r时，直径2r对配置间隔Pl的比率((2r/Pl) xlOO)大于等于90%。本专利技术第五方面的用于制作防反射用光学元件的原盘的制造 方法，其包括在圆柱状或圓筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步 骤；使形成有抗蚀层的原盘旋转，并在使激光的光点以平行于圓柱 状或圆筒状的原盘的中心轴的方式进行相对移动的同时，对抗蚀罢 间歇性地照射激光，以短于可一见光波长的间隔形成潜^f象的步骤；佳: 抗蚀层显影，在原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；以及通过实施以 抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，从而在原盘的表面形成凹状或凸状 的构造体的步骤，其中，在潜像的形成步骤中，潜像被配置成在原 盘表面构成多列轨迹，且形成六边形才各子图案、准六边形4各子图案、 四边形格子图案或准四边形才各子图案，潜像是沿專九迹的延伸方向具 有长轴方向的椭圓形状。本专利技术第六方面的用于制作防反射用光学元件的原盘的制造 方法，其包括在圆柱状或圓筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步 骤；使形成有抗蚀层的原盘旋转，并在4吏激光的光点以平行于圓柱 状或圓筒状的原盘的中心轴的方式进行相对移动的同时，对抗蚀层间歇性地照射激光，以短于可视光波长的间隔形成潜像的步骤；使 抗蚀层显影，在原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；以及通过实施以 抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，从而在原盘的表面形成凹状或凸状 的构造体的步骤，其中，在潜像的形成步骤中，潜傳4皮配置成在原 盘表面构成多列轨迹，且形成准六边形格子图案、四边形格子图案 或准四边形格子图案，构造体对原盘表面的填充率大于等于65%。本专利技术第七方面的用于制作防反射用光学元件的原盘的制造 方法，其包括在圓柱状或圓筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步 骤；使形成有抗蚀层的原盘旋转，并在使激光的光点以平4于于圓柱 状或圆筒状的原盘的中心轴的方式进行相对移动的同时，对抗蚀层 间歇性地照射激光，/人而以短于可一见光波长的间隔形成潜像的步 骤； -使抗蚀层显影，在原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；以及通过 实施以抗蚀图案作为掩模的蚀刻处理，从而在原盘的表面形成凹状 或凸状的构造体的步骤，其中，在潜像的形成步骤中，潜像被配置 成在原盘表面构成多列轨迹，且形成准六边形才各子图案，当将相同 轨迹内的构造体的配置间隔设定为Pl，并将构造体在轨迹方向上的 直径i殳定为2r时，直径2r对配置间隔Pl的比率((2r/Pl)xl00) 在大于等于85%的范围内。本专利技术第八方面的用于制作防反射用光学元件的原盘的制造 方法，其包括在圓柱状或圆筒状的原盘的周面上形成抗蚀层的步 骤；使形成有抗蚀层的原盘旋转，并在使激光的光点以平行于圆柱 状或圓筒状的原盘的中心轴的方式进4亍相对移动的同时，对抗蚀层 间歇性地照射激光，以短于可一见光波长的间隔形成潜l象的步骤；4吏 抗蚀层显影，在原盘的表面形成抗蚀图案的步骤；以及通过实施以 抗蚀图案作为纟奄才莫的蚀刻处理，/人而在原盘的表面形成凹状或凸状 的构造体的步骤，其中，在潜l象的形成步骤中，潜像#1配置成在原 盘表面构成多列轨迹，且形成四边形才各子图案或准四边形格子图案，当将相同轨迹内的构造体的配置间隔设定为Pl，并将构造体在4九迹方向上的直径i殳定为2r时，直径2r对配置间隔Pl的比率 ((2r/Pl ) xl00)在大于等于127%的范围内。在本专利技术中，优选将主构造体周期性地配置成四边形格子状或 准四边形一各子状。这里，所谓四边形一各子是指正四边形的格子。准 四边形才各子不同于正四边形的才各子，是指歪曲的正四边形的才各子。例如，当构造体^皮配置在直线上时，准四边形才各子是指沿直线 状的排列方向(轨迹方向)拉伸正四边形的格子使其歪曲所得到的 四边形才本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种防反射用光学元件，其特征在于，包括：　基体；以及　多个凸状或凹状的构造体，以小于等于可视光的波长的细微间隔被配置在所述基体的表面，　其中，所述各个构造体被配置成在所述基体表面构成多列轨迹，且形成六边形格子图案、准六边形 格子图案、四边形格子图案或准四边形格子图案，　所述构造体是沿所述轨迹的延伸方向具有长轴方向的椭圆锥或椭圆锥台形状。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：远藤惣铭，林部和弥，
申请(专利权)人：索尼株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]