本发明专利技术提供一种扩展电阻测试样品制备方法，包括以下步骤：将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上；将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触，对所述样品进行粗磨；将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触，对所述样品进行细磨抛光。本发明专利技术提供的扩展电阻测试样品制备方法可制备目标深度（外延层深度）为１０ｕｍ至６００ｕｍ的扩展电阻测试样品，且相比于现有技术的制备方法，采用本发明专利技术的扩展电阻测试样品制备方法显著提高了样品的制备效率，成本也更加低廉。
【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及集成电路测试领域，特别涉及一种扩展电阻测试样品制备方法及样品 研磨固定装置。
技术介绍
扩展电阻技术(spreading resistance profile, SRP)由于其优越的空间分辨率 越来越广泛地应用在外延片和IC图形片测试中，SRP技术既可以测量外延片纵向电阻变 化，也可以测量外延层厚度、过渡区及夹层宽度等。SRP技术的测量原理如图1所示，将样 品1粘贴在具有固定角度的样品台2上，研磨出一个斜面3，该斜面3水平放置，其与外延 层6界面的角度为α (α同样为样品台2的固定角度)，一对探针4在样品斜面3上按照 一定的步距测量其扩展电阻值，探针4运行到外延层6与高掺杂浓度的衬底5界面上时，扩 展电阻值迅速降低，而达到衬底5时扩展电阻值数值变化不再明显，因此扩展电阻值变化 区间对应的样品深度即为其外延层厚度。假设探针测试在斜面3上到达衬底时水平运行距 离是nl，η为探针对测量点数，则此时对应的外延厚度H = Iilsin α 二池，式中}!= Isina 被称为扩展电阻探针的深度分辨率。样品台2的特殊性在于其α值具有固定的几个角度， 角度越大所能测量的外延层厚度越深，因此需要依据不同的外延厚度选择不同角度的样品 台。但是目前固定角度的样品台的最大角度的只有11. 53度，这意味着假设样品目标深度 (外延层深度)是IOOum时，在对样品进行扩展电阻测试前需制备长度大于500um的样品斜 面。请参看图2，图2为现有技术所采用的扩展电阻测试样品制备方法示意图。如图2 所示，样品1被粘贴在样品台2的斜面上，样品台2通过螺栓7固定于重物8上，重物8固 定于吊臂9上的固定环10内，螺栓7、重物8、吊臂9及固定环10组成样品研磨固定装置， 样品台2斜面的下方为毛玻璃转盘11，在重物8的压力下，样品台2上的样品1以固定角度 接触毛玻璃转盘11，当毛玻璃转盘11旋转时即开始对样品1进行研磨。研磨时，样品研磨 固定装置不动，起到对样品1的固定作用。研磨时通常还将0. Ium直径的钻石膏与油混合 制成磨料均勻涂抹于毛玻璃转盘11的表面进行研磨，这种方法可以使研磨出的样品斜面 非常平滑，但较耗费时间。通常情况下，制备样品斜面角度为11.5度，长度50011!11的样品斜 面需要磨制10-15分钟。而角度越大磨制的速度也就越慢。钻石膏在使用一段时间以后会 混合大量的样品碎屑，并且油挥发后会使磨料变干，从而对样品造成损伤，因此一段时间后 就必须更换磨料再继续进行研磨。故以现有方法制备诸如上述长的样品斜面时，消时长且 成本高。同时，上述样品研磨固定装置一般固定在毛玻璃转盘11上，无法将样品研磨固定 装置整体连同样品台2和样品1与毛玻璃转盘11分离，且该样品研磨固定装置无法精确调 整样品的高度和样品与毛玻璃转盘11间的角度。
技术实现思路
本专利技术要解决的技术问题是提供一种样品研磨固定装置及一种扩展电阻测试样3品制备方法，以解决现有的扩展电阻测试样品制备方法在制备深度大斜面长的样品斜面时 效率低下且成本高的问题。为解决上述技术问题，本专利技术提供一种扩展电阻测试样品制备方法，包括以下步 骤将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于 样品研磨固定装置上；将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所 述粗磨磨具接触，对所述样品进行粗磨；将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所 述细磨磨具接触，对所述样品进行细磨抛光。可选的，所述对对所述样品进行粗磨的步骤包括使用磨盘作为所述粗磨磨具对 所述样品进行研磨。可选的，所述对对所述样品进行粗磨的步骤还包括使用所述磨盘对样品进行研 磨之后还使用细研磨砂纸作为所述粗磨磨具对所述样品进行研磨。可选的，所述使用磨盘对所述样品进行研磨的步骤包括将所述样品研磨固定装 置固定于所述磨盘上，调整所述样品研磨固定装置的高度和水平，使所述样品以特定角度 与所述磨盘接触，然后驱动所述磨盘对所述样品进行研磨。可选的，所述使用细研磨砂纸对所述样品进行研磨的步骤包括将所述细研磨砂 纸固定于转盘上，将所述样品研磨固定装置固定于所述细研磨砂纸上，调整所述样品研磨 固定装置的高度和水平，使所述样品以特定角度与所述细研磨砂纸接触，然后驱动所述转 盘对所述样品进行研磨。可选的，首先使用研磨颗粒直径较大的细研磨砂纸进行研磨，而后换用研磨颗粒 直径较小的细研磨砂纸进行研磨。可选的，所述对所述样品进行细磨抛光的步骤包括使用毛玻璃转盘作为所述细 磨磨具，将所述样品研磨固定装置固定于所述毛玻璃转盘上，调整所述样品研磨固定装置 的高度和水平，使所述样品以特定角度与所述毛玻璃转盘接触，然后驱动所述毛玻璃转盘 对所述样品进行研磨。可选的，研磨时所述毛玻璃转盘的表面涂抹有钻石膏和油混合制成的磨料。本专利技术提供还一种为实施上述扩展电阻测试样品制备方法而设计的样品研磨固 定装置，包括样品支架，所述样品支架的顶面上安装有千分尺旋钮，用以调节所述样品支架 的高度和水平；所述样品支架的底端具有耐磨支脚；所述样品支架的中心设置有螺栓固定 通孔，所述螺栓固定通孔内固定有螺栓，所述螺栓的顶端固定于所述样品支架的顶面上，所 述螺栓的底端突出于所述样品支架的底面，所述螺栓的底端具有螺纹，用于固定样品。可选的，所述样品支架顶面的螺栓通孔上还设置有垫片。可选的，所述千分尺旋钮为一个或多个。本专利技术提供的样品研磨固定装置可灵活并高精度的调节样品的高度以及样品与 磨具间的角度，该样品研磨固定装置可与磨具分离，可使用于不同的磨具进行样品研磨，且 拿取和安放非常方便。本专利技术提供的扩展电阻测试样品制备方法可制备目标深度(外延层 深度)为IOum至600um的扩展电阻测试样品，且相比于现有技术的制备方法，采用本专利技术4的扩展电阻测试样品制备方法制备相同目标深度的测试样品所需时间明显减少，因而显著 提高了样品的制备效率，同时采用本专利技术的扩展电阻测试样品制备方法只需涂抹一次钻石 膏作为磨料，不需要更换新磨料，因而采用本专利技术的扩展电阻测试样品制备方法成本也更 加低廉。附图说明图1为扩展电阻技术测量原理示意图；图2为现有技术所采用的扩展电阻测试样品制备方法示意图；图3为本专利技术方法所使用的样品研磨固定装置顶面结构示意图；图4为本专利技术方法所使用的样品研磨固定装置的底面仰视结构示意图；图5为本专利技术方法所使用的样品研磨固定装置的剖面结构示意图。具体实施例方式为使本专利技术的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本专利技术 的具体实施方式做详细的说明。本专利技术所述的一种样品研磨固定装置及扩展电阻测试样品制备方法可利用多种 替换方式实现，下面是通过较佳的实施例来加以说明，当然本专利技术并不局限于该具体实施 例，本领域内的普通技术人员所熟知的一般的替换无疑涵盖在本专利技术的保护范围内。其次，本专利技术利用示意图进行了详细描述，在详述本专利技术实施例时，为了便于说 明，示意图不依一般比例局部放大，不应以此作为对本专利技术的限定。在制备扩展电阻测试样品时，首先需将样品固定于具有固定角度斜面的样品台的 斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上方能对样品进行研磨。请参阅图3、图4 及图5，图3为本专利技术方法所使用的样品研磨固定装置顶面本文档来自技高网...
【技术保护点】
一种扩展电阻测试样品制备方法，包括以下步骤：将样品固定于与水平面具有固定角度的样品台的斜面上并将所述样品台固定于样品研磨固定装置上；将所述样品研磨固定装置放置于粗磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所述粗磨磨具接触，对所述样品进行粗磨；将所述样品研磨固定装置放置于细磨磨具上，使得所述样品能够以特定角度同所述细磨磨具接触，对所述样品进行细磨抛光。
【技术特征摘要】
【专利技术属性】
技术研发人员：李震远，宋洁，陈彬，
申请(专利权)人：中芯国际集成电路制造上海有限公司，
类型：发明
国别省市：31[中国|上海]
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