用于翘曲变形测试的样品制备方法技术

本发明专利技术涉及一种用于翘曲变形测试的样品制备方法，其特征是，包括以下步骤：（1）将待测样品放置在样品台上，样品台中间为放置待测样品的放置区域，在放置区域的周围设置凸台；（2）在待测样品的上方放置白色胶膜，白色胶膜的边缘托放在凸台上；（3）在样品台上方的压力滚轮向下挤压，并且压力滚轮从一侧向另一侧滚压，使白色胶膜与待测样品紧密贴；（4）将待测样品从样品台上取下，并将待测样品边缘多余的白色胶膜切割去除。本发明专利技术在样品表面涂覆一层白色胶膜，该白色胶膜的厚度控制更加均匀；测试完毕后胶膜可以很容易去除，不会对样品表面造成污染；升温过程中胶膜不易挥发，不会对光栅和样品测试结果造成影响。

【技术实现步骤摘要】
用于翘曲变形测试的样品制备方法
本专利技术涉及一种用于翘曲变形测试的样品制备方法，属于半导体封装

技术介绍
在半导体制作技术和半导体封装技术中，芯片、基板等组件的表面形貌和翘曲控制非常重要。一种非接触式，利用云纹干涉原理进行翘曲检测的设备（如shadowmoire）和检测方法在该领域应用广泛，其优势在于可以模拟回流工艺曲线，检测样品在整个回流过程中各温度点下的变形情况。该检测设备一般配备有镜头，用于捕捉样品表面形貌信息；刻有一定长度和间距条纹的玻璃光栅将平行光束照射在样品表面，其反射条纹与光栅条纹相互干涉，形成包含样品表面变形情况的干涉条纹。该检测方法要求样品表面为白色，这样才能被样品上方的镜头捕捉到，并记录其变形情况。因此，在样品制备过程中，通常要在表面涂覆一层白色薄膜。在测试过程中，要求镜头捕捉到的薄膜表面形变信息可以等同为样品表面形变信息，且薄膜容易去除，对样品表面无污染，这对薄膜提出了很高的要求。目前的样品制备方法，通常是在其表面喷洒一层白色的漆。喷洒过程中细小的液滴均匀落在样品表面，形成一层白色薄膜。但这种制样技术会对样品表面造成严重污染，测试完毕后样品只能废弃不本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种用于翘曲变形测试的样品制备方法，其特征是，包括以下步骤：（1）将待测样品（1）放置在样品台（2）上，样品台（2）中间为放置待测样品（1）的放置区域，在放置区域的周围设置凸台（3）；（2）在待测样品（1）的上方放置白色胶膜（4），白色胶膜（4）的边缘托放在凸台（3）上；（3）在样品台（2）上方的压力滚轮（5）向下挤压，并且压力滚轮（5）从一侧向另一侧滚压，使白色胶膜（4）与待测样品（1）紧密贴；（4）将待测样品（1）从样品台（2）上取下，并将待测样品（1）边缘多余的白色胶膜（4）切割去除。

【技术特征摘要】
1.一种用于翘曲变形测试的样品制备方法，其特征是，包括以下步骤：（1）将待测样品（1）放置在样品台（2）上，样品台（2）中间为放置待测样品（1）的放置区域，在放置区域的周围设置凸台（3）；（2）在待测样品（1）的上方放置白色胶膜（4），白色胶膜（4）的边缘托放在凸台（3）上；（3）在样品台（2）上方的压力滚轮（5）向下挤压，并且压力滚轮（5）从一侧向另一侧滚压，使白色胶膜（4）与待测样品（1）紧密贴；（4）将待测样品（1）从样品台（2）上取下，并将待测样品（1）边缘多余的白色胶膜（4）切割去除。2.如权利要求1所述的用于翘曲变形测试的样品制备方法，其特征是：所述白色胶膜的成分为特氟龙。3.如权利要求...

【专利技术属性】
技术研发人员：刘海燕，
申请(专利权)人：华进半导体封装先导技术研发中心有限公司，
类型：发明
国别省市：江苏,32