溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置制造方法及图纸

本实用新型专利技术公开了溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，包括机头、进样装置和研磨装置；所述机头包括顶部和下部，机头顶部内置一个动力装置，机头下部还包括一个机罩，所述的研磨装置包括上磨和下磨，上磨的下表面和下磨的上表面进行配合，所述的动力装置驱动上磨运行，所述进样装置安装在上模上，在机头的下方有一个收集装置，所述的收集装置内表面与下磨相配合，外表面与机罩相配合，在所述的收集装置上有一个目筛。有益效果是：二氧化硅可以经过连续地自动化地研磨，省时省力；研磨面大从而保证二氧化硅得到充分均匀地研磨；过200目筛后收集，保证实验对粒度的要求；整个研磨过程都是在密闭环境下完成，防止二氧化硅受污染和受潮。（*该技术在2022年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本技术涉及一种研磨装置，尤其涉及一种在“工作场所粉尘中游离二氧化硅含量的测定-红外光谱法”中对溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置。
技术介绍
红外光谱法因其快速、方便而逐渐取代传统焦磷酸法用于粉尘中游离二氧化硅含量的测定。红外光谱法是通过称取一定量的粉尘样品与一定量的溴化钾粉末充分混合后压成薄片，然后对薄片进行红外光谱扫描进而得到粉尘样品中游离二氧化硅的含量。红外光谱法对样品有以下要求一是溴化钾粉末及粉尘样品必须经过充分均匀研磨，且经过200目筛后再称量混匀压片；二是在研磨过程中要始终保持样品干燥，因此在研磨溴化钾及粉尘样品时，研磨人员必须带口罩；三是必须用玛瑙研磨。目前，实验室均采用玛瑙研钵手工研磨溴化钾及粉尘样品，实验中溴化钾需要量较大，用玛瑙研钵一次只能研磨2-3克，每研磨一批需要2-3个小时；而含游离二氧化硅的粉尘样品的硬度很高，想要研磨达到实验要求,往往研磨几个小时才能磨好1-2克。费时费力且不容易达到制样要求，并且如果实验人员长期研磨容易得腱鞘炎，不利于职业卫生。目前，电动研磨装置像球磨机等均适用于大量物质的研磨，而适用于实验室的少量且超硬物质的研磨装置极少。专利本文档来自技高网...

【技术保护点】
溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，包括机头、进样装置和研磨装置；所述机头包括顶部和下部，机头顶部内置一个动力装置，机头下部还包括一个机罩，所述的研磨装置包括上磨和下磨，上磨的下表面和下磨的上表面配合，所述的动力装置驱动上磨运行，所述进样装置安装在上模上，其特征在于：在机头的下方有一个收集装置，所述的收集装置内表面与下磨相配合，外表面与机罩相配合，在所述的收集装置上有一个目筛，所述的上磨和下磨为玛瑙磨。

【技术特征摘要】
1.溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，包括机头、进样装置和研磨装置；所述机头包括顶部和下部，机头顶部内置一个动力装置，机头下部还包括一个机罩，所述的研磨装置包括上磨和下磨，上磨的下表面和下磨的上表面配合，所述的动力装置驱动上磨运行，所述进样装置安装在上模上，其特征在于在机头的下方有一个收集装置，所述的收集装置内表面与下磨相配合，外表面与机罩相配合，在所述的收集装置上有一个目筛，所述的上磨和下磨为玛瑙磨。2.如权利要求I所述的溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，其特征在于所述的上磨是一个扁圆柱体，上磨的下表面和下磨的上表面通过凹槽和突起配合，上磨的中心线一侧有一个贯穿上磨的圆柱形管道，管道的上端与进样装置相通。3.如权利要求I所述的溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，其特征在于所述的下磨分为两个部分，上面的扁圆柱体的底面与上磨底面的半径相同，下磨的下半部分是比上半部分底面半径略小一点的圆柱体。4.如权利要求I所述的溴化钾及工作场所空气中粉尘样品的研磨装置，其特征在于所述的动力装置包括一个减速机，减速机通过一个压紧装置和传动杆与上磨的上表面相连。5.如权利要求I所述的溴化钾及工作场所空...

【专利技术属性】
技术研发人员：陈晓，张国英，窦丹丹，
申请(专利权)人：山东电力集团公司电力科学研究院，国家电网公司，
类型：实用新型
国别省市：