层叠体的制造方法技术

一种层叠体的制造方法，所述层叠体在基材上层叠有粒子的层，所述制造方法包括以下的工序（１）～（３），工序（１）：使由体积分率为０．３０～０．８４的连接成链状的粒径为１０～６０ｎｍ的３个以上的粒子构成的无机粒子链（Ａ）、体积分率为０．１０～０．４５的平均粒径为１～２０ｎｍ的无机粒子（Ｂ）和体积分率为０．０６～０．２５的平均粒径Ｄｃ大于２０ｎｍ的粒子（Ｃ）分散于液体分散剂中，制备混合粒子分散液的工序；工序（２）：将所述混合粒子分散液涂敷于基材上的工序；及工序（３）：通过从涂敷的混合粒子分散液中除去液体分散剂，在所述基材上形成具有满足０．５Ｄ≤Ｄｃ≤Ｄ的厚度Ｄ的所述粒子层的工序。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
本专利技术涉及一种，所述层叠体具有基材和形成于其上的粒子层。
技术介绍
在IXD、PDP、CRT、有机EL、无机EL、FED这样的显示器中，有时会在显示器表面反 射太阳光或荧光灯的光之类的外部光，从而会产生映射(reflection)或光晕(halation)， 使图像的辨识性降低。上述现象的原因是，在显示器的表面附近部分的折射率和与该部分接触的大气的 折射率之间存在很大差异，作为减少这种折射率的方法，已知有在显示器的表面形成由下 述材料构成的抗反射膜，所述材料具有低于构成该表面的材料的折射率。作为具有抗反射 膜的基材，已知有例如由链状二氧化硅微粒及相对该链状二氧化硅微粒的重量为5 30% 的非粒子状二氧化硅组成、具有110 250nm的厚度的膜包覆于玻璃基板表面、并在该膜表 面形成凹凸的可见光抗反射玻璃板(参照日本特开平11-292568号公报)。但是，为了形成如上所述的抗反射膜，必须使用选自可以水解和/或缩聚的有机 硅化合物或它们的水解物中的硅化合物，在数百度的高温下进行处理。因此，作为形成抗反 射膜的基材，只能使用耐热性优异的基材。另外，存在如下问题由于抗反射层配置于显示 器表面，因此，要求高的强度，但为了使抗反射性能提高，形成具有空隙的结构或低密度结 构而将膜进行低折射率化时，强度又会降低，因此，从这样的理由出发，难以兼备强度和抗 反射性能。
技术实现思路
本专利技术的目的在于，提供一种，其可以不在高温下进行处理而 形成，抗反射性能及膜强度的平衡优异。本专利技术涉及一种，所述层叠体在基材上层叠有粒子的层，所述 制造方法包括以下的工序(1) (3)。工序(1)使由体积分率为0. 30 0. 84的连接成链状的粒径为10 60nm的3个 以上的粒子构成的无机粒子链(A)、体积分率为0. 10 0. 45的平均粒径为1 20nm的无 机粒子(B)和体积分率为0. 06 0. 25的平均粒径Dc大于20nm的粒子(C)分散于液体分 散剂中，制备混合粒子分散液的工序；工序(2)将所述混合粒子分散液涂敷于基材上的工序；及工序(3)通过从涂敷的混合粒子分散液中除去液体分散剂，在所述基材上形成 具有满足0. 5D < Dc < D的厚度D的所述粒子层的工序。具体实施例方式由本专利技术的方法制造的层叠体为主要用作IXD、PDP、CRT、有机EL、无机EL、FED那样的各种显示器的抗反射材料的构件，更具体而言，以防止显示器表面的由外部光引起的 映射或防止从显示器内部的发光体产生的光的由显示器内部的反射引起的显示器亮度的 降低为目的，主要配置在显示器的表面或内部。在本专利技术中，作为基材，只要是具有适应于制造的层叠体的用途的机械刚性的材 料即可，可以使用由树脂、玻璃、金属、无机物构成的膜、片、箔等。基材优选表面平滑的基 材，但可以是具有凹凸的基材，表面具有配线图案、装饰图案等的基材，多孔质膜。在将制造 的层叠体用于显示器材料时，优选使用透明材料、例如透明塑料膜或透明塑料片、透明玻璃 片。作为透明塑料膜或透明塑料片的具体例，可以列举聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚乙烯、 聚丙烯、玻璃纸、三醋酸纤维素、二醋酸纤维素、醋酸纤维素丁酯、聚甲基丙烯酸甲酯等膜或 片。从透明性优异且光学上没有各向异性方面考虑，优选由三醋酸纤维素或聚对苯二甲酸 乙二醇酯构成的膜或片。另外，也可以将偏振片、漫射板、导光板、亮度提高膜、反射偏振片 等光学用构件用作基材。基材可以具有由紫外线固化性树脂等构成的硬涂层或含有导电性 微粒等的抗静电层作为表层。本专利技术中使用的混合粒子分散液是使由体积分率为0. 30 0. 84的连接成链状的 粒径为10 60nm的3个以上的粒子构成的无机粒子链(A)、体积分率为0. 10 0. 45的平 均粒径为1 20nm的无机粒子(B)和体积分率为0. 06 0. 25的平均粒径Dc大于20nm 的粒子(C)分散于液体分散剂中而形成的分散液。无机粒子链(A)的化学组成和无机粒子(B)的化学组成可以相同也可以不同。作 为用作无机粒子链(A)及无机粒子(B)的无机粒子的实例，可列举氧化硅(二氧化硅)、 氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、碳酸钙、硫酸钡、滑石、高岭土等。由于得到溶剂中的分散 性良好、折射率低、另外粒径分布小的粉体容易，因此，无机粒子链(A)和无机粒子(B)优选为二氧化硅粒子。本专利技术的粒子(C)既可以为无机粒子，也可以为树脂粒子。而且，无机粒子链(A) 或无机粒子(B)的化学组成可以相同也可以不同。作为无机粒子的实例，可列举由氧化硅 (二氧化硅)、氧化钛、氧化铝、氧化锌、氧化锡、碳酸钙、硫酸钡等金属氧化物、滑石、高岭土 等矿物、箔、金、银、铜、铝、镍、钽、钨等金属构成的粒子。树脂粒子例如为丙烯酸类、苯乙烯 类、聚乙烯类、PAN、尼龙、聚氨酯类、苯酚、硅酮、苯代三聚氰胺(benzoguanamine)、三聚氰胺 类、氟树脂构成的粒子。由于溶剂中的分散性良好、折射率低、另外粒径分布小的粉体的得 到容易，因此，本专利技术的粒子(C)优选为二氧化硅粒子。本专利技术的方法中所使用的无机粒子链(A)为由连接成链状的粒径在10 60nm 的范围内、优选在20 50nm的范围内的3个以上的粒子构成的无机粒子的链。形成无机 粒子链(A)的粒子的粒径为由使用光学显微镜、激光显微镜、扫描型电子显微镜、透射型电 子显微镜、原子间力显微镜等观察的图像求出的粒径或BET法的平均粒径、利用西尔斯法 (sears method)等求出的平均粒径。所谓西尔斯法，为Analytical Chemistry, vol. 28, p. 1981-1983,1956中记载的方法，为应用于二氧化硅粒子的平均粒径的测定中的分析方 法，为由使PH = 3的胶态二氧化硅分散液消耗至pH = 9时的NaOH的量求出二氧化硅粒子 的表面积、由求出的表面积算出球当量径的方法。作为这种无机粒子链，可以使用市售品， 作为其实例，可以列举日产化学工业株式会社制的7 ) 一吁、”；(注册商标)UP、0UP、 PS-S、PS-SO、PS-M、PS-MO(这些是以水为分散剂的二氧化硅溶胶)及日产化学工业株式会社制的IPA-ST-UP(其是以异丙醇为分散剂的二氧化硅溶胶)等。形成无机粒子链的粒子 的粒径及无机粒子链的形状可以通过利用透射型电子显微镜观察来确定。在此，“连接成链 状”的表现为与连接成环状”相对的表现，不仅包括连接成直线状的表现，也包括弯曲连接 的表现。本专利技术的方法中所使用的无机粒子⑶的平均粒径在1 20nm的范围内、优选在 1 IOnm的范围内。在此，无机粒子(B)的平均粒径为由使用光学显微镜、透射型电子显微 镜、原子间力显微镜等观察的图像求出的粒径或利用动态光散射法、西尔斯法等求出的平 均粒径。本专利技术的方法中所使用的粒子(C)的平均粒径Dc大于20nm、优选为60 200nm。 在此，粒子(C)的平均粒径为使用光学显微镜、激光显微镜、扫描型电子显微镜、透射型电 子显微镜、原子间力显微镜等用图像观察的粒径或由激光衍射散射法、动态光散射法、BET 法的平均粒径、利用西尔斯法等求出的平均粒径。用本专利技术的方法所形成的层叠体的膜厚满足0. 5D ^ Dc ^ D0当其为Dc < 0. 本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种层叠体的制造方法，所述层叠体在基材上层叠有粒子的层，所述制造方法包括以下的工序（１）～（３），工序（１）：使由体积分率为０．３０～０．８４的连接成链状的粒径为１０～６０ｎｍ的３个以上的粒子构成的无机粒子链Ａ、体积分率为０．１０～０．４５的平均粒径为１～２０ｎｍ的无机粒子Ｂ和体积分率为０．０６～０．２５的平均粒径Ｄｃ大于２０ｎｍ的粒子Ｃ分散于液体分散剂中，制备混合粒子分散液的工序；工序（２）：将所述混合粒子分散液涂敷于基材上的工序；及工序（３）：通过从涂敷的混合粒子分散液中除去液体分散剂，在所述基材上形成具有满足０．５Ｄ≤Ｄｃ≤Ｄ的厚度Ｄ的所述粒子层的工序。

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员：涩田匠，原万纪子，阪谷泰一，
申请(专利权)人：住友化学株式会社，
类型：发明
国别省市：JP[日本]