阵列基板及其制造方法技术

本发明专利技术公开了一种阵列基板及其制造方法。该阵列基板包括：显示区域和位于所述显示区域四周的边框区域，所述边框区域包括：基板；位于所述基板之上的公共电极层；位于所述公共电极层之上的保护层；形成于所述保护层上并位于所述公共电极层之上的过孔；位于所述保护层之上并填充于所述过孔的透明导电层；形成于所述公共电极层和所述保护层上并位于所述基板之上的隔离线，所述隔离线位于所述过孔的外侧和封框胶区域的内侧，所述封框胶区域位于所述透明导电层之上并且所述封框胶区域的封框胶填充于所述隔离线中。本发明专利技术的技术方案有效保证了下边沿区域的显示品质。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及液晶显示器制造领域，特别涉及一种。技术背景随着液晶显示技术的发展，具有低消耗功率、无辐射等特性的TFT IXD已经成为 液晶显示市场的主流。图1为现有技术中液晶显示面板的结构示意图，图2为图1中的局 部放大图，图3为图2中A-A向剖视图，如图1、图2和图3所示，图1中的液晶显示面板的 阵列基板包括显示区域1和位于该显示区域1四周的边框区域，该边框区域包括上边沿区 域21、左边沿区域22、下边沿区域23和右边沿区域24。边框区域的上边沿区域21和左边 沿区域22为集成电路板，边框区域的下边沿区域(还可称为数据反对面)23为虚线所示区 域，下边沿区域23的具体结构可参见图2和图3所示。下边沿区域23包括基板3、位于基 板3之上的公共电极层4、位于公共电极层4之上的保护层5、多个形成于保护层5上并位 于公共电极层4之上的过孔6、位于保护层5之上并填充于过孔6的透明导电层7以及位于 所述透明导电层7之上的封框胶区域8。进一步地，下边沿区域23还包括多个形成于公共 电极层4上并位于基板3之上的狭缝9。其中，公共电极层4可用于稳定公共电极电压并 为彩膜基板提供公共电极电压，从图3可以看出，公共电极层4的边缘与基板3的边缘之间 的距离可设置为IOOum至300um，从而保证公共电极层4所提供的公共电极电压的稳定性； 保护层5可用于防止公共电极层4被腐蚀；透明导电层7可通过过孔6和封框胶区域8内 的金球Au Ball (或称为导电球)将公共电极层4与彩膜基板的透明导电层导通，从而使公 共电极层4可以为彩膜基板提供稳定的电压。在图2中为了清楚表示出阵列基板各层的具 体结构，覆盖于透明导电层7之上的封框胶区域8以虚线框表示。从图2和图3中可以看 出，为防止空气或者水汽中的酸性物质腐蚀透明导电层7，封框胶区域8的宽度要大于透明 导电层的宽度。上述阵列基板的边框区域中的公共电极层容易出现被腐蚀的现象，以边框区域的 下边沿区域中的公共电极层4为例，下边沿区域中的公共电极层4会出现被腐蚀的现象。如 图2和图3所示，由于下边沿区域可能存在不可见裂痕或者各层结构间致密性不足的问题， 水汽会从封框胶区域8与保护层5之间的缝隙渗入到过孔6的位置。由于过孔6的位置存 在电压差，水汽中的酸性离子(例如C1、S等)与位于过孔6下方的公共电极层4的活性金 属(例如Al、Nd等)发生电化学反应，使公共电极层4被腐蚀。随着电化学反应的进行，公 共电极层4逐渐被腐蚀掉，当公共电极层4被腐蚀的面积足够大时，公共电极层4提供的公 共电极电压会出现异常，从而造成液晶显示面板的下边沿区域出现显示不良，降低了显示 品质。当公共电极层4被腐蚀的情况严重时，甚至会影响到封框胶区域8，造成封框胶区域 8发生液晶(LiquidCrystal，简称LC)污染以及出现气泡(Bubble)等不良，从而进一步降 低了显示品质。
技术实现思路
本专利技术的目的是针对现有技术中的问题，提供一种，从而 有效保证边框区域的显示品质。为实现上述目的，本专利技术提供了一种阵列基板，包括显示区域和位于所述显示区 域四周的边框区域，所述边框区域包括基板；位于所述基板之上的公共电极层；位于所述公共电极层之上的保护层；形成于所述保护层上并位于所述公共电极层之上的过孔；位于所述保护层之上并填充于所述过孔的透明导电层；形成于所述公共电极层和所述保护层上并位于所述基板之上的隔离线，所述隔离 线位于所述过孔的外侧和封框胶区域的内侧，所述封框胶区域位于所述透明导电层之上并 且所述封框胶区域的封框胶填充于所述隔离线中。为实现上述目的，本专利技术实施例还提供了一种阵列基板的制造方法，包括在基板上形成公共电极层，在显示区域的公共电极层上形成栅线栅电极和公共电 极，在边框区域的公共电极层上形成隔离线，所述隔离线位于基板之上；在基板上形成公共电极层保护层，所述公共电极层保护层位于所述公共电极层之上；在基板上形成位于所述公共电极层之上的数据层和位于所述数据层之上的数据 层保护层，保护层包括所述公共电极层保护层和所述数据层保护层；在显示区域的保护层上形成过孔，在边框区域的保护层上形成过孔并去除填充于 隔离线中的保护层，在边框区域的保护层上形成的过孔位于所述公共电极层之上；在基板上形成透明导电层，所述透明导电层位于所述保护层之上并填充于所述过 孔，所述隔离线位于所述过孔的外侧和封框胶区域的内侧，所述封框胶区域位于所述透明 导电层之上并且封框胶区域的封框胶填充于所述隔离线。本专利技术实施例的技术方案中，通过在边框区域的过孔外侧和封框胶区域内侧设置 以封框胶填充的隔离线，水汽被隔离线阻挡而无法进入过孔，避免过孔位置的公共电极层 被腐蚀，从而有效保证了边框区域的显示品质。下面通过附图和实施例，对本专利技术的技术方案做进一步的详细描述。 附图说明图1为现有技术中液晶显示面板的结构示意图2为图1中的局部放大图3为图2中A-A向剖视图4为本专利技术实施例一提供的阵列基板的下边沿区域的放大图5为图4中B-B向剖视图6a为本专利技术实施例二中形成公共电极层的示意图6b为本专利技术实施例二中形成保护层的示意图6c为本专利技术实施例二中形成过孔的示意图6d为本专利技术实施例二中形成透明导电层的示意图；4图6e为本专利技术实施例二中形成封框胶区域的示意图。具体实施方式本专利技术实施例一提供了一种阵列基板，该阵列基板包括显示区域和位于显示区域 四周的边框区域，其中显示区域和边框区域的结构和位置关系可参见图1中所示。本实施 例中，边框区域包括基板、位于基板之上的公共电极层，形成于保护层之上并位于公共电 极层之上的过孔，位于保护层之上并填充于过孔的透明导电层，形成于公共电极层和保护 层上并位于基板之上的隔离线，隔离线位于过孔的外侧和封框胶区域的内侧，该封框胶区 域位于透明导电层之上并且该封框胶区域的封框胶填充于隔离线中。具体地，以边框区域的下边沿区域为例，边框区域的下边沿区域可参见图4和图5 所示，图4为本专利技术实施例一提供的阵列基板的下边沿区域的放大图，图5为图4中B-B向 剖视图，如图4和图5所示，下边沿区域包括基板3、公共电极层4、保护层5、透明导电层7、 隔离线10和过孔6，换言之，隔离线10和过孔6位于下边沿区域，其中下边沿区域的多个过 孔6形成过孔区域6’。公共电极层4位于基板3之上，保护层5位于公共电极层4之上，过 孔6形成于保护层5上并位于公共电极层4之上，透明导电层7位于保护层5之上并填充 于过孔6，隔离线10形成于公共电极层4和保护层5上并位于基板3之上，隔离线10还位 于过孔区域6’的外侧和封框胶区域8的内侧，封框胶区域8位于透明导电层7之上并且封 框胶区域8的封框胶填充于隔离线10。进一步地，下边沿区域还可以包括形成于公共电极层4上并位于基板3之上的狭缝9。本实施例中，隔离线10的长度可大于等于过孔区域6’的长度。隔离线10的宽度 可以为IOum至25um。本实施例中，封框胶区域的封框胶的材料为树脂Resin、感光材料UVPhoto hitiator、填充剂Filter、硬化剂Hardener或者附属材料Additive。封框胶区域的宽度 和位置可采用现有技术中封框胶区域的宽度和位置，无需因为隔离线10改变封框胶区域 的宽度和位置。本实施例中，基板本文档来自技高网...

【技术保护点】
一种阵列基板，其特征在于，包括：显示区域和位于所述显示区域四周的边框区域，所述边框区域包括：基板；位于所述基板之上的公共电极层；位于所述公共电极层之上的保护层；形成于所述保护层上并位于所述公共电极层之上的过孔；位于所述保护层之上并填充于所述过孔的透明导电层；形成于所述公共电极层和所述保护层上并位于所述基板之上的隔离线，所述隔离线位于所述过孔的外侧和封框胶区域的内侧，所述封框胶区域位于所述透明导电层之上并且所述封框胶区域的封框胶填充于所述隔离线中。

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员：张志男，梁国鹏，
申请(专利权)人：北京京东方光电科技有限公司，
类型：发明
国别省市：11[中国|北京]