作为组胺H3受体拮抗剂的氮杂环丁烷类和环丁烷类化合物制造技术

技术编号:4946649 阅读:232 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术涉及式(I)化合物,其中R、R0、R1、m、n和X1至X4具有说明书和权利要求书中所指出的含义。所述化合物可用作组胺H3受体拮抗剂。本发明专利技术还涉及药物组合物、这类化合物的制备以及作为药物的生产和用途。

【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】作为组胺H3受体拮抗剂的氮杂环丁烷类和环丁烷类化合物本专利技术涉及组胺H3受体拮抗剂、其药物组合物、这类化合物的制备以及作为药 物的生产和用途。组胺H3受体是G蛋白偶联受体(GPCR),是组胺受体家族的四种受体之一。组 胺受体一直以来是引人注意的药物靶标,这由针对组胺Hl受体以治疗变态反应或者针对 组胺H2受体以通过抑制胃酸分泌来改善胃溃疡的抗组胺剂的发展得到反映。H3受体已 被鉴定为调节组胺的释放的突触前自身受体(Arrang等人.(1983) Nature: 302 ; 832-837) 及调节许多其他重要神经递质(乙酰胆碱、去甲肾上腺素、多巴胺和血清紧张素)的释 放的异源受体(heteroreceptor)。结构上各不相同的H3受体拮抗剂/反向激动剂已被开 发出来,并在小鼠和大鼠中进行的多个认知试验中(例如Esbenshade等人.(2006)Mol. Interventions 6⑵;77-88)以及在睡眠障碍和能量平衡的模型中被证实具有活性。从这 些研究得出结论,这类拮抗剂是多种影响认知的疾病(例如阿尔兹海默病、帕金森病、 注意障碍和多动症、精神分裂症、胎儿酒精综合征、轻度认知损害、年龄相关性记忆功 能障碍、唐氏综合征和其他疾病)及影响睡眠的疾病(例如嗜睡和发作性睡病)和影响能 量稳态的疾病(例如肥胖症)的潜在治疗法(Witkin&Nelson(2004) JPET : 103 ; 1-20 ; Hancock&Brane (2005) Exp Opin Inves Drags 14 (3),223-241)。因此,本领域描述了组胺H3受体拮抗剂用于治疗上述疾病和障碍。在WO-A 2007/080140中公开了可用作H3受体调节剂的环已基哌嗪基甲酮衍生 物。在WO-A 2006/136924中公开了作为组胺_3受体拮抗剂的环丁基衍生物。US-A 4956359描述了具有类似化学结构的抗惊厥药和抗癫痫药,但没有提及H3 受体拮抗作用。但是,仍继续需要可用作组胺H3受体拮抗剂的新化合物。因此,本专利技术的一个目的是提供作为组胺H3受体拮抗剂的新一类化合物,其可 有效治疗H3受体相关疾病,且可显示出改进的药物相关特性(包括活性在内)、ADMET 特性和/或减低的副作用。因此,本专利技术提供式⑴化合物权利要求1.式⑴化合物2.权利要求1的化合物,其中R1为CV5烷基、C2_5烯基、C2_5炔基、C3_5环烷基、 CH2-环丙基、CHF-环丙基、CF2-环丙基、CH2-环丁基、CHF-环丁基、CF2-环丁基 或4至5元饱和杂环基,其中CV5烷基、C2_5烯基、C2_5炔基任选被一个或多个取代基取 代,所述取代基相同或不同且选自卤素、OH、OCH3、OCH2F> OCHF2> OCF3和CN, 且其中C3_5环烷基、CH2-环丙基、CHF-环丙基、CF2-环丙基、CH2-环丁基、CHF-环 丁基、CF2-环丁基和4至5元饱和杂环基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基相 同或不同且选自卤素、OH、OCH3> OCH2F> OCHF2> 0CF3、CN、CH3> CH2F> CHF2 和 CF3。3.权利要求1或2的化合物,其中η为2。4.权利要求1-3中任一项的化合物,其中X1为N。5.权利要求1-4中任一项的化合物,其中X2为O。6.权利要求1-5中任一项的化合物,其中X1、X3中至少一个为N。7.权利要求1-6中任一项的化合物,其中m为O。8.权利要求1-7中任一项的化合物,其中nl、n2独立地选自O和1。9.权利要求1-8中任一项的化合物,其中X5为C(0)、O、C(O)N(Rla) > N(Rla) C (O)、S (O) 2N (Rla)、N (Rla) S (O) 2、N (Rla)或 N (Rla) C (O) N (Rlb)。10.权利要求1-9中任一项的化合物,其中R2为H或T。11.权利要求1的化合物,其选自1-氮杂环丁 -3-醇;1-氮杂环丁 -3-醇;6-({1-氮杂环丁 -3-基丨氧基)-N-甲 基吡啶-3-甲酰胺;5-({1-氮杂环丁-3-基}氧基)吡 啶-2-甲酰胺;5-({1-氮杂环丁 -3-基丨氧基)-N-甲 基吡啶-2-甲酰胺;5-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)_N, N-二甲基吡啶-2-甲酰胺;5-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)_N, N-二乙基吡啶-2-甲酰胺;4-({1-氮杂环丁 -3-基丨氧基)-N-甲 基苯甲酰胺;4-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)_N, N-二甲基苯甲酰胺;1-环丁基-4- ({3-氮杂环丁 -1-基丨羰基)-1,4- 二氮杂环 庚烷;1-环丁基_4-氧基}氮杂环丁 -1-基)羰基]_1,4" 二氮杂环庚烷;4_ ({1_氮杂环丁 -3-基}氧基)苄腈; 1-环丁基-4-丨羰基丨_1,4- 二氮杂环庚烷; 1-{羰基}-4_环丁基-1,4- 二氮杂环庚烷; 1-环丁基_4-氮杂环丁 -1-基}羰基)-1, 4- 二氮杂环庚烷;1-环丁基_4-氧基}氮杂环丁 -1-基) 羰基]-1,4-二氮杂环庚烷;1-氮杂环丁 -3-基}氧基)苯 基]吡咯烷-2-酮;1-环丁基-4- ({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-1,4- 二 氮杂环庚烷;1-环丁基-4-苯氧基}氮杂环丁-1-基)羰 基hl,4-二氮杂环庚烷;1-环丁基-4-苯氧基}氮杂环丁-1-基)羰 基hl,4-二氮杂环庚烷;1-({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-4-环丁基-1,4- 二氮杂 环庚烷;1-环丁基-4-{羰基}-1,4-二氮杂环庚烷;1-({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-4-环丁基-1,4- 二氮杂 环庚烷;1-{羰基}-4_环丁基-1,4- 二氮杂环 庚烷;1-环丁基-4-({3-氮杂环丁-l-基}羰基)_1,4-二 氮杂环庚烷;1-环丁基-4- ({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-1,4- 二氮 杂环庚烷;1-环丁基-4- ({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-1,4- 二氮杂环 庚烷;1-环丁基-4-({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)-1,4- 二氮杂环 庚烷;3_ ({1_氮杂环丁 -3-基}氧基)苄腈;2-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)苄腈; 1-{羰基}-4_环丁基-1,4- 二氮杂环庚烷; 1-{羰基}-4_环丁基-1,4- 二氮杂环庚烷; 4-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)_N,3-二甲基苯甲酰胺;5-({1-氮杂环丁 -3-基丨氧基)-N-(环 丙基甲基)吡啶-2-甲酰胺;1-环丁基_4-氧基}氮杂环丁 -1-基)羰基]_1, 4- 二氮杂环庚烷;5-({1-氮杂环丁 -3-基}氧基)-N-甲基吡啶-2-甲 酰胺;1-环丁基_4-哌嗪;1-环丁基-4- ({3-氮杂环丁 -1-基}羰基)哌嗪;4_ ({1_氮杂环丁 -3-基}氧基)苄腈;1-环丁基-4_{羰基}哌嗪;6-环丁基-2-({1-氮杂环丁 -3-基}氧 基)-5,6,7,8-四氢-1,6-萘啶;4-({1-氮杂环丁 -3-基}氧 基)-3_氟-N-甲基苯甲酰胺;1-环丁基-4-丨羰基丨-1,4-二氮杂环庚烷;1本文档来自技高网...

【技术保护点】
式(Ⅰ)化合物  *** (Ⅰ)  或其药物可接受盐、前体药物或代谢物,其中  R↑[1]为C↓[1-5]烷基、C↓[2-5]烯基、C↓[2-5]炔基或T0,其中C↓[1-5]烷基、C↓[2-5]烯基、C↓[2-5]炔基任选被一个或多个取代基取代,所述取代基相同或不同且选自卤素、OH、OCH↓[3]、OCH↓[2]F、OCHF↓[2]、OCF↓[3]、CN和T↑[0];  T↑[0]为C↓[3-5]环烷基或4至5元饱和杂环基,其中T↑[0]任选被一个或多个取代基取代,所述取代基相同或不同且选自卤素、C↓[1-5]烷基、C↓[2-5]烯基、C↓[2-5]炔基、OH、O-C↓[1-5]烷基、O-C↓[2-5]烯基、O-C↓[2-5]炔基和CN,其中C↓[1-5]烷基、C↓[2-5]烯基、C↓[2-5]炔基、O-C↓[1-5]烷基、O-C↓[2-5]烯基和O-C↓[2-5]炔基任选被一个或多个相同或不同的卤素取代;  n为1或2;  X↑[1]为N或CH;  X↑[2]为O、S、N-CN、N-OH或N-OC↓[1-4]烷基;  X↑[3]为N、CH或CF;  X↑[4]为H、F或(CH↓[2])↓[n1]X↑[5](CH↓[2])↓[n2]R↑[2];  R↑[0]为F;  m为0、1、2、3或4;  R为H或F;  任选地,R、X↑[4]连接形成氧代基(=O);  n1、n2独立地选自0、1和2;  X↑[5]为C(O)、C(O)O、OC(O)、O、C(O)N(R↑[1a])、N(R↑[1a])C(O)、S(O)↓[2]N(R↑[1a])、N(R↑[1a])S(O)↓[2]、S(O)N(R↑[1a])、N(R↑[1a])S(O)、S(O)↓[2]、S(O)、N(R↑[1a])S(O)↓[2]N(R↑[1b])、S、N(R↑[1a])、N(R↑[1a])C(O)N(R↑[1b])、N(R↑[1a])C(O)O或OC(O)N(R↑[1a]);  R↑[1a]、R↑[1b]独立地选自H、C↓[1-4]烷基、C↓[2-4]烯基和C↓[2-4]炔基,其中C↓[1-4]烷基、C↓[2-4]烯基和C↓[2-4]炔基任选被一个或多个相同或不同的卤素取代;  R↑[2]为H、T、C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基或C↓[2-6]炔基,其中C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基和C↓[2-6]炔基任选被一个或多个相同或不同的R↑[3]取代;  R↑[3]为卤素、CN、C(O)R↑[4]、C(O)OR↑[4]、OR↑[4]、C(O)N(R↑[4]R↑[4a])、S(O)↓[2]N(R↑[4]R↑[4a])、S(O)N(R↑[4]R↑[4a])、S(O)↓[2]R↑[4]、S(O)R↑[4]、N(R↑[4])S(O)↓[2]N(R↑[4a]R↑[4b])、SR↑[4]、N(R↑[4]R↑[4a])、NO↓[2]-、OC(O)R↑[4]、N(R↑[4])C(O)R↑[4a]、N(R↑[4])SO↓[2]-R↑[4a]、N(R↑[4])S(O)R↑[4a]、N(R↑[4])C(O)N(R↑[4a]R↑[4b])、N(R↑[4])C(O)OR↑[4a]、OC(O)N(R↑[4]R↑[4a])或T;  R↑[4]、R↑[4a]、R↑[4b]独立地选自H、T、C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基和C↓[2-6]炔基,其中C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基和C↓[2-6]炔基任选被一个或多个相同或不同的R↑[5]取代;  R↑[5]为卤素、CN、C(O)R↑[6]、C(O)OR↑[6]、OR↑[6]、C(O)N(R↑[6]R↑[6a])、S(O)↓[2]N(R↑[6]R↑[6a])、S(O)N(R↑[6]R↑[6a])、S(O)↓[2]R↑[6]、S(O)R↑[6]、N(R↑[6])S(O)↓[2]N(R↑[6a]R↑[6b])、SR↑[6]、N(R↑[6]R↑[6a])、NO↓[2]-、OC(O)R↑[6]、N(R↑[6])C(O)R↑[6a]、N(R↑[6])SO↓[2]-R↑[6a]、N(R↑[6])S(O)R↑[6a]、N(R↑[6])C(O)N(R↑[6a]R↑[6b])、N(R↑[6])C(O)OR↑[6a]、OC(O)N(R↑[6]R↑[6a])或T;  R↑[6]、R↑[6a]、R↑[6b]独立地选自H、T、C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基和C↓[2-6]炔基,其中C↓[1-6]烷基、C↓[2-6]烯基和C↓[2-6]炔基任选被一个或多个相同或不同的卤素取代;  T为苯基、萘基、薁基、茚基、茚满基、C↓[3-7]环烷基、3至7元杂环基或7至11元杂二环基,其中T任选被一个或多个相同或不同的R7取代;  R↑[7]为卤素、CN、C(O)...

【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】...

【专利技术属性】
技术研发人员:AJ达文波特DJ哈莱特M科尔西
申请(专利权)人:埃沃特克股份有限公司
类型:发明
国别省市:DE

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