带杂原子的配位体及其金属配合物制造技术

本发明专利技术涉及含有带杂原子的桥键的新化合物和这些化合物与金属的新配合物。本发明专利技术的新化合物和配合物可用于诊断和治疗。（*该技术在2014年保护过期，可自由使用*）

【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及含有带杂原子的桥键的新化合物和这些化合物与金属的新配合物。本专利技术的新化合物和配合物可用于诊断和治疗。金属配合物(例如含有放射性金属的金属配合物)作为诊断试剂和治疗药剂的应用日益增加。特别引人注意的是其中含有生物活性部分的那些配合物，这些生物活性部分能在所希望的部位被选择性地吸收，从而有利于对处理对象的鉴定和治疗。本专利技术致力于解决本领域对这类配合物(包括配位体，由配位体可制备这类配合物)的需要，特别是其中含有在缺氧区定位的部分的那些配合物。本专利技术涉及以下式Ⅰa、Ⅰb和Ⅰc的新的化合物，本文中也称为配位体 其中Q是基团-(C(RR))m1-Y1-(C(RR))m2-(Y2-(C(RR))m3)n-，其中Y1和Y2各自独立地是-NR-、-O-、-S-、-SO-、-SO2-或Se-;n是选自0或1的整数;m1、m2和m3是各自独立地选自0到4的整数，条件是m1和m2之和大于0;所有R和R＊都各自独立地为(i)R2(ii)卤素，特别是氟;(iii)-OR2;(iv)-C(O)-OR2;(v)-C(O)-N(R2)2;(vi)-N(R2)2;(vii)-烷基本文档来自技高网...

【技术保护点】
以下式Ⅰａ、Ⅰｂ或Ⅰｃ的化合物： ＊＊＊ Ⅰａ ＊＊＊ Ⅰｂ ＊＊＊ Ⅰｃ 其中 Ｑ是基团－（Ｃ（ＲＲ））↓［ｍ１］－Ｙ↑［１］－（Ｃ（ＲＲ））↓［ｍ２］－（Ｙ↑［２］－（Ｃ（ＲＲ））↓［ｍ３］）ｎ－，其中Ｙ↑［１］和Ｙ↑［２］各自独立地是－ＮＲ－、－Ｏ－、－Ｓ－、－ＳＯ－、－ＳＯ↓［２］－或－Ｓｅ－；ｎ是选自０或１的整数；ｍ１、ｍ２和ｍ３是独立地选自从０到４的整数，条件是ｍ１和ｍ２之和大于０； 所有的Ｒ和Ｒ↑［＊］都独立地是： （ｉ） Ｒ↑［２］； （ｉｉ） 卤素； （ｉｉｉ） －ＯＲ↑［２］； （ｉｖ） －Ｃ（Ｏ）－...

【技术特征摘要】
...

【专利技术属性】
技术研发人员：K拉马林加姆，N拉祖，
申请(专利权)人：布拉科国际有限公司，
类型：发明
国别省市：NL[荷兰]