【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及一种四氯化硅处理工艺。
技术介绍
四氯化硅是多晶硅生产中的附产物，多晶硅为电子工业和光伏产业所需要的主要 原料，在多晶硅的生产中，每生产1吨多晶硅，将产生15 20吨四氯化硅，目前，我国在建、 已建多晶硅规模已达9万吨/年，且随太阳能(光伏产业)的发展，多晶硅产业正随几何级 数发展，附产物四氯化硅同比增长，预计将达到160万吨/年。 未经处理的四氯化硅是一种具有强腐蚀性的化学物品，受热或遇水分解放热，放 出有毒的腐蚀性烟气，对环境危害极大。 对于四氯化硅的处理，当前国际上主要的途径为制备气相法白炭黑技术、热氢化 制备三氯氢硅技术、氯氢化制备三氯氢硅技术。 将四氯化硅热氢化后再生成生产多晶硅的原料，可以回收利用一部分四氯化硅， 但不能彻底回收，并且能耗高，已被国际上淘汰；氯氢化技术属于未成熟技术；气相法白炭 黑主要在硅橡胶上、橡胶中、塑料上应用，但是目前其产量已经大大超出了市场容量。 综上所述，如何安全处理和有效利用四氯化硅，已成为关系到多晶硅产业能否健 康发展的关键问题和地球环境问题。
技术实现思路
针对以上所述问题，本专利技术提供了一种处理安全、...
【技术保护点】
一种四氯化硅低温处理工艺，其特征在于，它由以下步骤完成： （１．１）、四氯化硅和水导入到反应釜进行反应水解，得到Ｈ↓［４］ＳｉＯ↓［４］和ＨＣｌ，其化学式为：ＳｉＣｌ↓［４］＋Ｈ↓［２］Ｏ→Ｈ↓［４］ＳｉＯ↓［４］＋ＨＣｌ； （１．２）、将反应所产生的ＨＣｌ气体进行过滤，除去其中的杂质，得到高纯度ＨＣｌ气体； （１．３）、高纯度ＨＣｌ气体进行至少三次回收，得到稀盐酸，将稀盐酸包装出厂销售，进入下游产业； （１．４）、将反应釜中所产生的Ｈ↓［４］ＳｉＯ↓［４］进行固液分离，获得Ｈ↓［２］ＳｉＯ↓［３］和Ｈ↓［２］Ｏ，Ｈ↓［２］ＳｉＯ↓［３］转化为硅酸盐类，将硅酸盐类包...
【技术特征摘要】
一种四氯化硅低温处理工艺，其特征在于，它由以下步骤完成(1.1)、四氯化硅和水导入到反应釜进行反应水解，得到H4SiO4和HCl，其化学式为SiCl4+H2O→H4SiO4+HCl；(1.2)、将反应所产生的HCl气体进行过滤，除去其中的杂质，得到高纯度HCl气体；(1.3)、高纯度HCl气体进行至少三次回收，得到稀盐酸，将稀盐酸包装出厂销售，进入下游产业；(1.4)...
还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。