石英舟用于半导体器件制程设备制造技术

技术编号：41210357 阅读：2 留言：0更新日期：2024-05-09 23:32

本发明专利技术公开了石英舟用于半导体器件制程设备，包括支撑结构、一对调节装置和多根槽棒，一对调节装置固定连接于支撑结构两侧，多个槽棒传动连接于一对调节装置；调节装置包括固定连接的限位组件一和限位组件二，限位组件一与支撑结构固定连接；限位组件一包括内弧和外弧，内弧和外弧之间形成有下部滑动轨道；限位组件二包括内环和外环，外环与外弧固定连接，外环和内环间固定连接有多个分道块，使得内环和外环之间形成多个上部滑动轨道，内环和内弧上均滑动连接多个止动组件；槽棒端部贯穿对应的下部滑动轨道和上部滑动轨道，以使得槽棒沿下部滑动轨道或上部滑动轨道移动，止动组件跟随槽棒移动，对槽棒抵接，以此形成多个不同规格的晶圆放置空间。

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【技术实现步骤摘要】

本专利技术涉及石英舟领域，具体为石英舟用于半导体器件制程设备。

技术介绍

1、半导体器件制程涉及多种步骤，工序复杂，从普通的沙子到制成成品需要进行多种工艺，如热处理、气相沉积、光刻、刻蚀、清洗、封装等等，在制备过程中通常会使用石英舟用于承载晶圆，石英舟是一种用于半导体制造中的重要工具，其主要作用是承载和运输晶圆。

2、晶圆在上述处理过程中有时需要浸泡到特定溶剂中进行去胶，现有的晶舟在载满晶圆的情况下对晶圆去胶时，往往只有靠近外侧的晶圆能够去胶干净，而内侧的晶圆则会存在胶体残留。经分析后发现这是由于晶舟在载满晶圆的情况下，晶圆之间的间距较小，氧离子和有机物发生反应后生成的大量的反应气体占据了有限空间而无法及时被泵抽走，导致后续的氧离子无法和有机物发生化学反应，最终造成晶圆去胶不干净。为解决该问题，目前的一种途径是采用大尺寸的晶舟以增大晶圆的间距，但这种方式下晶舟尺寸过大，不利于进行其他的处理；另一种途径是在一般晶舟上间隔放置晶圆，通过增加晶圆之间的间距提升去胶效果的方案，但这种方式下晶舟每次能够承载的晶圆有限，导致了产量的减少；

3、同时在晶圆片的生产加工过程中，也需要使用专用的清洗剂对晶圆硅片进行清洗操作，以确保硅片表面的洁净度。硅片的清洗操作为：将硅片放置在石英舟上，然后将整个石英舟浸入液态的清洗剂中进行清洗。但是，现有的硅片石英舟均为一体成型式的石英结构体，不具备变形调节能力，即只能对特定大小的硅片进行承载，而不能对其他尺寸的硅片进行承载，通用性较低；为此本专利技术提供石英舟用于半导体器件制程设备。</p>

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供石英舟用于半导体器件制程设备，以解决上述
技术介绍
中提出的问题。

2、为实现上述目的，本专利技术提供如下技术方案：

3、石英舟用于半导体器件制程设备，包括支撑结构、一对调节装置和多根槽棒，一对调节装置固定连接于支撑结构两侧，多个槽棒传动连接于一对调节装置；调节装置包括固定连接的限位组件一和限位组件二，限位组件一与支撑结构固定连接；

4、限位组件一包括内弧和外弧，内弧和外弧之间形成有下部滑动轨道；

5、限位组件二包括内环和外环，外环与外弧固定连接，外环和内环间固定连接有多个分道块，使得内环和外环之间形成多个上部滑动轨道，内环和内弧上均滑动连接多个止动组件；

6、槽棒端部贯穿对应的下部滑动轨道和上部滑动轨道，以使得槽棒沿下部滑动轨道或上部滑动轨道移动，止动组件跟随槽棒移动，对槽棒抵接，以此形成多个不同规格的晶圆放置空间。

7、优选的，所述支撑结构包括支撑板和多根竖向的支撑杆，支撑板上侧与内弧固定连接，多个支撑杆一端与内弧或外环固定连接，另一端固定连接于支撑板上侧，以提高调节装置的稳定性。

8、优选的，所述限位组件一截面为弧形，限位组件二截面为环形；分道块沿外环分布，每个上部滑动轨道对应有止动组件。

9、优选的，所述外弧内侧和外环内侧均固定连接有多个间隔设置的阻挡柱，用于对止动组件的位置进行限定。

10、优选的，所述槽棒每个端部均固定连接有限位轴，限位轴中部开设有环形槽，用于嵌入下部滑动轨道或上部滑动轨道内，并通过环形槽限定槽棒的位置，避免槽棒轴向移动。

11、优选的，所述环形槽中部开设有多个槽孔，用于与阻挡柱匹配，且相邻槽孔之间的周长与相邻阻挡柱之间的周长匹配，避免限位轴转动时阻挡柱位于相邻槽孔中间。

12、优选的，所述外弧靠近槽棒端部的一侧固定连接有齿槽弧，外环靠近槽棒的端部固定连接有齿槽环；限位轴靠近外环或外弧外侧的端部开设有多个齿槽，用于齿槽弧或齿槽环啮合连接，使得槽棒在下部滑动轨道或上部滑动轨道滑动同时实现自转。

13、优选的，所述止动组件包括滑动部、固定板和转动板，滑动部与内弧或内环滑动连接，固定板与滑动部固定连接，转动板与滑动部转动连接，滑动部位于对应槽棒的下侧。

14、优选的，所述固定板和转动板紧贴位于朝向下部滑动轨道或上部滑动轨道的一侧，使得转动板转动范围小于等于90度时，固定板相对于转动板靠近槽棒。

15、优选的，所述转动板的长度超过阻挡柱的端部，固定板的长度不超过阻挡柱的端部，使得通过固定板限定转动板转动，通过转动板与阻挡柱抵接，限制滑动部滑动，从而通过滑动部与限位轴抵接，限定槽棒的位置。

16、与现有技术相比，本专利技术的有益效果是：

17、本专利技术结构简单，操作方便，利用限位组件一和限位组件二与槽棒的配合，大大提高了石英舟的通用性；通过调整第一放置空间和第二放置空间中槽棒的位置，可以形成不同的放置规格，以此放置不同规格的晶圆，适应范围更广泛，圆形和方形晶圆均可放置，且也可一起放置，放置晶圆的数量也更多，提高了晶圆清洗的工作效率；

18、去胶时，晶圆在第一放置空间和第二放置空间错位放置，既没有减少晶圆放置的数量，同时也增加了晶圆之间的间隔，使得去胶更彻底，提高成品良品率；

19、通过限位轴与齿槽环或齿槽弧的啮合连接，能使槽棒在沿下部滑动轨道和上部滑动轨道移动的过程中自转；通过转动板与阻挡柱的抵接可以将槽棒限定在指定位置，对转动板对槽棒限定位置之后，槽棒的啮合连接也防止了槽棒自转，避免影响对晶圆的承载；通过设置槽孔与阻挡柱对应，一方面能最大程度的保证限位轴周侧环形槽外径与上、下部滑动轨道匹配，保持稳定，另一方向，槽孔提供限位轴转动时，限位柱在环形槽外周的活动空间，使限位轴能方便更省力的边转动边移动。

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【技术保护点】

1.石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：包括支撑结构(1)、一对调节装置(2)和多根槽棒(3)，一对调节装置(2)固定连接于支撑结构(1)两侧，多个槽棒(3)传动连接于一对调节装置(2)间；调节装置(2)包括固定连接的限位组件一(21)和限位组件二(22)，限位组件一(21)与支撑结构(1)固定连接；

2.根据权利要求1所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述支撑结构(1)包括支撑板(11)和多根竖向的支撑杆(12)，支撑板(11)上侧与内弧(211)固定连接，多个支撑杆(12)一端与内弧(211)或外环(222)固定连接，另一端固定连接于支撑板(11)上侧，以提高调节装置(2)的稳定性。

3.根据权利要求1所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述限位组件一(21)截面为弧形，限位组件二(22)截面为环形；分道块(2221)沿外环(222)分布，每个上部滑动轨道(224)对应有止动组件(4)。

4.根据权利要求1所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述外弧(212)内侧和外环(222)内侧均固定连接有多

5.根据权利要求1所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述槽棒(3)每个端部均固定连接有限位轴(31)，限位轴(31)中部开设有环形槽，用于嵌入下部滑动轨道(214)或上部滑动轨道(224)内，并通过环形槽限定槽棒(3)的位置，避免槽棒(3)轴向移动。

6.根据权利要求5所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述环形槽中部开设有多个槽孔(311)，用于与阻挡柱(2121)匹配，且相邻槽孔(311)之间的周长与相邻阻挡柱(2121)之间的周长匹配，避免限位轴(2)转动时阻挡柱(2121)位于相邻槽孔(311)中间。

7.根据权利要求5所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述外弧(212)靠近槽棒(3)端部的一侧固定连接有齿槽弧(213)，外环(222)靠近槽棒(3)的端部固定连接有齿槽环(223)；限位轴(31)靠近外环(222)或外弧(212)外侧的端部开设有多个齿槽，用于齿槽弧(213)或齿槽环(223)啮合连接，使得槽棒(3)在下部滑动轨道(214)或上部滑动轨道(224)滑动时自转。

8.根据权利要求5所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述止动组件(4)包括滑动部(41)、固定板(42)和转动板(43)，滑动部(41)与内弧(211)或内环(221)滑动连接，固定板(42)与滑动部(41)固定连接，转动板(43)与滑动部(41)转动连接，滑动部(41)位于对应槽棒(3)的下侧。

9.根据权利要求8所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述固定板(42)和转动板(43)紧贴位于朝向下部滑动轨道(214)或上部滑动轨道(224)的一侧，使得转动板(43)转动范围小于等于90度时，固定板(42)相对于转动板(43)靠近槽棒(3)。

10.根据权利要求8所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述转动板(43)的长度超过阻挡柱(2121)的端部，固定板(42)的长度不超过阻挡柱(2121)的端部，使得通过固定板(42)限定转动板(43)转动，通过转动板(43)与阻挡柱(2121)抵接，限制滑动部(41)滑动，从而通过滑动部(41)与限位轴(31)抵接，限定槽棒(3)的位置。

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【技术特征摘要】

4.根据权利要求1所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述外弧(212)内侧和外环(222)内侧均固定连接有多个间隔设置的阻挡柱(2121)，用于对止动组件(4)的位置进行限定。

6.根据权利要求5所述的石英舟用于半导体器件制程设备，其特征在于：所述环形槽中部开设有多个槽孔(311)，用于与阻挡柱(2121)匹配，且相邻槽孔(...

【专利技术属性】
技术研发人员：郑涛，李建斌，蔡彬，陈佳思，
申请(专利权)人：浙江泓芯半导体有限公司，
类型：发明
国别省市：

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