System.ArgumentOutOfRangeException: 索引和长度必须引用该字符串内的位置。 参数名: length 在 System.String.Substring(Int32 startIndex, Int32 length) 在 zhuanliShow.Bind() 气相前体输送系统技术方案_技高网

气相前体输送系统技术方案

技术编号:41176420 阅读:2 留言:0更新日期:2024-05-07 22:12
公开了一种用于输送气相前体以在气相沉积设备中沉积层的气相前体输送系统。该气相前体输送系统具有:气体出口;气体入口;被构造和布置用于存储前体的容器;以及包含在容器内的连接管。连接管可以连接到气体入口并与其流体连通。一种气相沉积设备例如立式炉可以具有这样的气相前体输送系统,用于在衬底上沉积层。

【技术实现步骤摘要】

本公开总体涉及一种用于输送气相前体以在气相沉积设备中沉积层的气相前体输送系统。具体地,本公开涉及一种气相前体输送系统,包括:气体出口;气体入口;被构造和布置用于存储前体的容器;以及包含在容器内的连接管,该连接管连接到气体入口并与其流体连通。本公开还涉及一种气相沉积设备,例如包括用于在衬底上沉积层的这种气相前体输送系统的立式炉。


技术介绍

1、用于输送气相前体以在气相沉积设备的反应器中的衬底上沉积层的气相前体输送系统可能存在某些挑战。这些挑战之一可能是前体输送系统可能输送较少蒸气,并且前体输送实际上可能成为沉积设备生产率的瓶颈。前体输送系统可能输送较少前体的原因之一是前体的蒸气压可能非常低。固体前体可能尤其如此。

2、气相沉积设备系统生产率的另一个瓶颈可能是前体的输送可能取决于用于存储前体的容器中的前体水平。由于在系统使用期间容器中的前体水平可能变化,所以在系统中蒸发的前体的量也可能变化。


技术实现思路

1、目的是提供一种用于输送气相前体的气相前体输送系统。系统的前体输送对容器中的前体水平的变化不太敏感。

2、因此,可以提供一种气相前体输送系统,包括:气体出口;气体入口;被构造和布置用于存储前体的容器;以及包含在容器内的连接管。连接管可以连接到气体入口并与其流体连通。该系统可以设置有可移动注射器,该注射器连接到连接管并与之流体连通,并且被构造和布置用于在距离容器中的前体表面基本恒定的水平处从气体入口注射气体。

3、此外,可以提供一种气相沉积设备。该设备可以包括用于输送气相前体以在衬底上沉积层的气相前体输送系统。该设备可以是包括反应器的立式炉,该反应器被构造和布置成装载具有多个衬底的舟。气相前体输送系统可被构造和布置用于输送气相前体,以在反应器中的衬底上沉积层。

4、提供本
技术实现思路
是为了以简化的形式介绍一些概念。这些概念在以下公开的示例实施例的详细描述中被进一步详细描述。本
技术实现思路
不旨在标识所要求保护的主题的关键特征或必要特征,也不旨在用于限制所要求保护的主题的范围。

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【技术保护点】

1.一种气相前体输送系统,包括:

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有用于用前体填充所述容器的填充端口。

3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述连接管被柔性地构造和布置成允许所述注射器相对于所述气体入口移动。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳液体前体。

5.根据权利要求4所述的系统,其中,所述系统设置有浮体,所述浮体被构造和布置成漂浮在所述液体前体上并支撑所述注射器。

6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面上方提供气流。

7.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面下方提供气流。

8.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面下方产生气泡。

9.根据权利要求1所述的系统,其中,所述注射器被构造和布置为喷淋头,其设置有多个孔,用于在距离所述前体表面基本恒定的水平处从所述孔注射气体。

10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有多个注射器,用于在距离所述前体表面基本恒定的水平处从所述气体入口注射气体。

11.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有提升装置,其被构造和布置用于移动和支撑所述注射器,并且所述系统设置有控制器,以通过提升装置控制注射器的移动。

12.根据权利要求11所述的系统,其中,所述系统设置有用于测量前体水平的水平测量装置,并且所述控制器可操作地连接到水平测量装置,以基于由水平测量装置测量的前体水平来控制所述注射器的移动。

13.根据权利要求12所述的系统,其中,所述控制器被编程为控制所述提升装置,以使所述注射器在所述前体表面上方提供气流。

14.根据权利要求12所述的系统,其中,所述控制器被编程为控制所述提升装置,以使所述注射器在所述前体表面下方提供气流。

15.根据权利要求12所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳液体前体,并且所述控制器被编程为控制所述提升装置,以使所述注射器在所述前体表面下方产生气泡。

16.根据权利要求1所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳固体前体。

17.根据权利要求16所述的系统,其中,所述注射器被构造和布置成支撑在所述容器中的固体前体表面上,并且被构造和布置成当固体前体从容器升华时跟随固体前体表面。

18.根据权利要求1所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳和升华金属氯化物。

19.根据权利要求18所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳和升华氯化铪或氯化锆作为所述金属氯化物。

20.根据权利要求1所述的系统,其被构造和布置成容纳和蒸发与水的粘度相比具有相对高粘度的液体。

21.根据权利要求2所述的系统,其中,所述系统设置有盖子以覆盖所述填充端口。

22.一种气相沉积设备,包括根据权利要求1所述的气相前体输送系统,用于输送气相前体以在衬底上沉积层。

23.根据权利要求22所述的气相沉积设备,其中,所述设备是包括反应器的立式炉,所述反应器被构造和布置成装载具有多个衬底的舟,并且所述气相前体输送系统被构造和布置成输送气相前体,以在反应器中的衬底上沉积层。

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【技术特征摘要】

1.一种气相前体输送系统,包括:

2.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有用于用前体填充所述容器的填充端口。

3.根据权利要求1所述的系统,其中,所述连接管被柔性地构造和布置成允许所述注射器相对于所述气体入口移动。

4.根据权利要求1所述的系统,其中,所述容器被构造和布置成容纳液体前体。

5.根据权利要求4所述的系统,其中,所述系统设置有浮体,所述浮体被构造和布置成漂浮在所述液体前体上并支撑所述注射器。

6.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面上方提供气流。

7.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面下方提供气流。

8.根据权利要求5所述的系统,其中,所述浮体和注射器被构造和布置成在所述前体表面下方产生气泡。

9.根据权利要求1所述的系统,其中,所述注射器被构造和布置为喷淋头,其设置有多个孔,用于在距离所述前体表面基本恒定的水平处从所述孔注射气体。

10.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有多个注射器,用于在距离所述前体表面基本恒定的水平处从所述气体入口注射气体。

11.根据权利要求1所述的系统,其中,所述系统设置有提升装置,其被构造和布置用于移动和支撑所述注射器,并且所述系统设置有控制器,以通过提升装置控制注射器的移动。

12.根据权利要求11所述的系统,其中,所述系统设置有用于测量前体水平的水平测量装置,并且所述控制器可操作地连接到水平测量装置,以基于由水平测量装置测量的前体水平来控制所述注射器...

【专利技术属性】
技术研发人员:T·G·M·奥斯特拉肯
申请(专利权)人:ASMIP私人控股有限公司
类型:发明
国别省市:

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