射频功率单刀双掷开关电路制造技术

技术编号:4073340 阅读:503 留言:0更新日期:2012-04-11 18:40
本发明专利技术是一种基于砷化镓(GaAs)赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)的射频功率单刀双掷开关(SPDT)电路。开关单片电路采用三栅PHEMT,串并拓扑,对称结构设计。信号经过2个三栅PHEMT串联到输出端,输出端同时经过2个三栅PHEMT串联并通过电容并联到地。开关只需一组互补的控制信号(V1、V1-),完成SPDT开关通道切换,应用方便。优点是:该开关单片电路采用三栅PHEMT,串并拓扑结构,提高了击穿电压,增大了功率容量。开关单片电路通过的插损小,隔离度高,最大可通过20w,在移动通信系统中应用方便。可通过6英寸0.5μm?GaAs?PHEMT标准工艺批量生产,一致性好,成本低。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术是一种基于砷化镓(GaAs)赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)的射频功率 单刀双掷开关(SPDT)电路。属于微波单片集成电路领域。
技术介绍
DC-2000MHZ的微波系统,特别是移动通信系统中,功率放大器PA到天线ANT和低 噪声放大器LNA到天线间通常需要一个功率开关SW来控制收发切换。在目前的微波通讯系 统中,功率开关通常有两种形式,一种是采用分立的硅(si)材料的PIN二极管,采用混合电 路的方式完成,其特点是体积大,工作频带窄,控制电路复杂。另一种是采用砷化镓(GaAs) 赝配高电子迁移率晶体管(PHEMT)单片开关,PHEMT开关具有体积小,应用频带宽,使用方 便的特点,但通过的功率相对较小。随着移动通信系统的不断发展,对系统的性能,频率带 宽,集成度,体积,成本的要求越来越高,因此PHEMT开关的应用越来越广泛。目前通信的商 用PHEMT开关产品,频率覆盖范围DC-6GHZ,功率在2GHz处,P-I功率10W。随着一些新的通 讯系统的研制和开发,希望功率开关可以处理大于IOW的功率,目前传统的砷化镓(GaAs) PHEMT开关单片性能上无法实现。专利技术内本文档来自技高网...

【技术保护点】
射频功率单刀双掷开关电路,其特征是射频SPDT功率开关电路采用三栅PHEMT,串并拓扑,对称结构设计,并联支路通过电容隔直到地,在输入到第1输出的信号通道上,第3号PHEMT管(FET3)和第四号PHEMT管(FET4)串联连接,由控制信号(V1)控制,第五号PHEMT管(FET5)和第六号PHEMT管(FET6)通过隔直电容(C1)并联到地,由控制端信号(V1↑[-])控制;在输入到第2输出的信号通道上,第一号PHEMT管(FET1)和第二号PHEMT管(FET2)串联连接,由控制端信号(V1-)控制;第七号PHEMT管(FET7)和第八号PHEMT管(FET8)通过隔直电容(C2)并联到地...

【技术特征摘要】

【专利技术属性】
技术研发人员:许正荣陈新宇徐光
申请(专利权)人:中国电子科技集团公司第五十五研究所
类型:发明
国别省市:84[中国|南京]

网友询问留言 已有0条评论
  • 还没有人留言评论。发表了对其他浏览者有用的留言会获得科技券。

1