【技术实现步骤摘要】
本专利技术涉及掩模版，尤其涉及一种掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质。
技术介绍
1、全自动清洗设备使指掩模版在曝光处理、显影、蚀刻、脱模过程完成后进行的进一步清洗过程，其目的是为了去除掩模版在经过前述工艺工程中使其表面残留部分有机物、颗粒等杂质，经过清洗设备的清洗，掩模版表面的洁净度会进一步提升。
2、但是现有的清洗工艺在清洗过程中由于清洗的过程中对溶液以及清洗时的设备旋转电机参数没有进行控制，会存在清洗不干净的情况。
3、故本专利技术提出一种掩模版清洗方法，以解决掩模版清洗时没有对应的清洗流程以及清洗参数进行清洗，导致清洗不干净的问题。
4、上述内容仅用于辅助理解本专利技术的技术方案，并不代表承认上述内容是现有技术。
技术实现思路
1、本专利技术的主要目的在于提供一种掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质，旨在解决掩模版清洗时没有对应的清洗流程以及清洗参数进行清洗，导致清洗不干净的技术问题。
2、为实现上述目的，本专利技术提供一种掩模版清洗方法，所述掩模版清洗方法应用于清洗设备，所述清洗设备包括光学检查系统、逻辑控制器、喷洒装置以及掩模版托盘，包括以下步骤：
3、通过所述光学检查系统对掩模版进行脏污检测，获取检测结果；
4、根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数；
5、将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒
6、可选的，所述根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数的步骤包括：
7、对所述检测结果进行解析，获取有机物信息以及颗粒物信息；
8、根据预设的溶液分析结果以及所述有机物信息进行数据分析，获取有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数；
9、根据所述溶液分析结果以及所述颗粒物信息进行数据分析，获取颗粒物清洗溶液信息以及第二旋转参数；
10、根据所述有机物清洗溶液信息、第一旋转参数、颗粒物清洗溶液信息以及第二旋转参数进行流程生成，获取清洗流程；
11、根据所述逻辑控制器的参数格式，对所述清洗流程进行参数配置，获取清洗参数。
12、可选的，所述根据预设的溶液分析结果以及所述有机物信息进行数据分析，获取有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数的步骤之前还包括：
13、对所述掩模版进行材质识别，获取所述掩模版的材质信息；
14、根据所述掩模版的材质信息进行清洗溶液分析，获取溶液分析结果。
15、可选的，所述通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果的步骤包括：
16、通过所述逻辑控制器对所述清洗参数进行读取，获取有机物清洗溶液信息、颗粒物清洗溶液信息、第一旋转参数以及第二旋转参数；
17、根据所述有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第一清洗结果；
18、根据所述第一清洗结果、颗粒物清洗溶液信息以及第二旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第二清洗结果；
19、对所述第一清洗结果以及第二清洗结果进行汇总分析，得到清洗结果。
20、可选的，所述根据所述有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第一清洗结果的步骤包括：
21、根据所述有机物清洗溶液信息，通过所述喷洒装置将所述有机物清洗溶液信息对应的第一清洗溶液喷洒至所述掩模版，并根据所述第一旋转参数，控制所述掩模版托盘进行旋转，获取第三清洗结果；
22、对所述第三清洗结果进行检测，获取所述第一清洗溶液的第一遗留信息；
23、根据所述第一遗留信息，获取冷去离子水以及热去离子水的第一喷洒信息，并根据所述第一喷洒信息，通过所述喷洒装置将冷去离子水以及热去离子水喷洒至所述掩模版进行稀释清洗，获取第一清洗结果。
24、可选的，所述根据所述第一清洗结果、颗粒物清洗溶液信息以及第二旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第二清洗结果的步骤包括：
25、根据所述第一清洗结果以及所述颗粒物清洗溶液信息，通过所述喷洒装置将所述颗粒物清洗溶液信息对应的第二清洗溶液喷洒至所述掩模版，并根据所述第二旋转参数，控制所述掩模版托盘进行旋转，获取第四清洗结果；
26、对所述第四清洗结果进行检测，获取所述第二清洗溶液的第二遗留信息；
27、根据所述第二遗留信息，获取冷去离子水的第二喷洒信息，并根据所述第二喷洒信息，通过所述喷洒装置将冷去离子水喷洒至所述掩模版进行稀释清洗，获取第二清洗结果。
28、可选的，所述将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果的步骤之后还包括：
29、通过所述光学检查系统对所述掩模版进行清洗检测，获取清洁程度；
30、根据预设的清洁阈值，对所述清洁程度进行阈值分析；
31、若所述清洁程度超过所述清洁阈值，则根据所述清洁程度以及清洗结果生成通知信息发送至对应的用户；
32、若所述清洁程度不超过所述清洁阈值，则根据所述清洁程度以及清洗结果生成异常告警信息发送至对应的用户。
33、本专利技术实施例还提出一种掩模版清洗装置，所述掩模版清洗装置包括：
34、检测模块，用于通过所述光学检查系统对掩模版进行脏污检测，获取检测结果；
35、参数获取模块，用于根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数；
36、清洗模块，用于将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果。
37、本专利技术实施例还提出了一种终端设备所述终端设备包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的掩模版清洗程序，所述掩模版清洗程序被所述处理器执行时实现如上所述的掩模版清洗方法的步骤。
38、本专利技术实施例还提出了一种计算机可读存储介质，所述计算机可读存储介质上存储有掩模版清洗程序，所述掩模版清洗程序被处理器执行时实现如上所述的掩模版清洗方法的步骤。
39、本专利技术实施例提出的一种掩模版清洗方法、装置、终端设备以及存储介质，通过所述光学检查系统对掩模版进行脏污检测，获取检测结果；根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数；将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果。由此，通过清洗设备对掩模版进行脏污检测，得到检测结果，针对检测结果进行对应的清洗流程以及清洗参数获取，本文档来自技高网...
【技术保护点】
1.一种掩模版清洗方法，其特征在于，所述掩模版清洗方法应用于清洗设备，所述清洗设备包括光学检查系统、逻辑控制器、喷洒装置以及掩模版托盘，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数的步骤包括：
3.根据权利要求2所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据预设的溶液分析结果以及所述有机物信息进行数据分析，获取有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数的步骤之前还包括：
4.根据权利要求2所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果的步骤包括：
5.根据权利要求4所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第一清洗结果的步骤包括：
6.根据权利要求4所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述第一清洗结果、颗粒物清洗溶液信息以及第二旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清
7.根据权利要求1所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述将所述清洗参数输入所述逻辑控制器，通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果的步骤之后还包括：
8.一种掩模版清洗装置，其特征在于，所述掩模版清洗装置应用于清洗设备，所述清洗设备包括光学检查系统、逻辑控制器、喷洒装置以及掩模版托盘，包括：
9.一种终端设备，其特征在于，所述终端设备包括存储器、处理器及存储在所述存储器上并可在所述处理器上运行的掩模版清洗程序，所述掩模版清洗程序被所述处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的掩模版清洗方法的步骤。
10.一种计算机可读存储介质，其特征在于，所述计算机可读存储介质上存储有掩模版清洗程序，所述掩模版清洗程序被处理器执行时实现如权利要求1-7中任一项所述的掩模版清洗方法的步骤。
...【技术特征摘要】
1.一种掩模版清洗方法，其特征在于，所述掩模版清洗方法应用于清洗设备，所述清洗设备包括光学检查系统、逻辑控制器、喷洒装置以及掩模版托盘，包括以下步骤：
2.根据权利要求1所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述检测结果生成清洗流程，并根据所述清洗流程获取清洗参数的步骤包括：
3.根据权利要求2所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据预设的溶液分析结果以及所述有机物信息进行数据分析，获取有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数的步骤之前还包括：
4.根据权利要求2所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述通过所述逻辑控制器控制所述掩模版托盘进行旋转，并控制所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取清洗结果的步骤包括：
5.根据权利要求4所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述有机物清洗溶液信息以及第一旋转参数，通过所述喷洒装置对所述掩模版进行清洗，获取第一清洗结果的步骤包括：
6.根据权利要求4所述的掩模版清洗方法，其特征在于，所述根据所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：王栋，黄执祥，白永智，何俊龙，郑祺弘，
申请(专利权)人：深圳市龙图光罩股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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