【技术实现步骤摘要】
掩模版贴膜方法、装置及存储介质
[0001]本专利技术涉及掩模版
,尤其涉及一种掩模版贴膜方法
、
装置及存储介质
。
技术介绍
[0002]掩模版在生产过程中,为了防止微尘颗粒掉落在图形区表面,需要在掩模版出货前进行贴膜操作,贴膜后的掩模版需要再次放入自动光学检测设备
AOI
进行检测,确保被膜层组件即
pellecle
膜所保护的图形区表面无微尘颗粒污染
。
[0003]相关技术中,在实际生产过程中,膜层组件通过高分子粘接剂粘贴在掩模版表面后再次进行
AOI
扫描,经常发现被膜层组件保护的图形区表面存在微尘颗粒污染的情况,这种情况下,需要先将固定在掩模版表面的膜层组件移除,才能对掩模版表面的微尘颗粒进行清洁,具体操作过程为:掩模版生产完成后上
AOI
检测,若检测后发现无缺陷和微尘颗粒,接着将膜层组件粘贴在掩模版的图形面,保护主图形区,贴完膜层组件后,带膜的掩模版继续在
AOI
设备中进行检测,如 ...
【技术保护点】
【技术特征摘要】
1.
一种掩模版贴膜装置,其特征在于,包括:基座,所述基座上可拆卸地连接有所述掩模版;膜层组件,所述膜层组件设置于所述基座的上方,所述膜层组件的周向形成有孔口朝外的定位孔,且所述定位孔沿水平方向延伸;所述膜层组件内形成有容胶腔,所述膜层组件的顶部和底部分别形成有与所述容胶腔连通的第一通孔和第二通孔,且所述第二通孔对应所述掩模版的位置设置;所述第二通孔的孔径小于所述第一通孔的孔径;定位机构,所述定位机构设置于所述基座,所述定位机构通过所述定位孔与所述膜层组件可拆卸地连接,所述定位机构用于驱动所述膜层组件相对所述掩模版升降
。2.
如权利要求1所述的掩模版贴膜装置,其特征在于,所述第二通孔的数量为多个,多个所述第二通孔沿所述膜层组件的周向分布,且所述第二通孔的孔口朝向所述掩模版设置
。3.
如权利要求1所述的掩模版贴膜装置,其特征在于,所述定位孔的数量为多个,多个所述定位孔间隔设置且分布于所述膜层组件的相对两侧
。4.
如权利要求1所述的掩模版贴膜装置,其特征在于,所述膜层组件包括膜框和膜体,所述膜体设置于所述膜框,所述膜框的周向形成有所述定位孔,所述膜框内形成有所述容胶腔,所述膜框的顶部和底部分别形成有所述第一通孔和所述第二通孔
。5.
如权利要求1至4任一项所述的掩模版贴膜装置,其特征在于,所述定位机构包括升降组件和伸缩组件,所述升降组件的固定端设置于所述基座,所述升降组件的升降端通过所述伸缩组件与所述定位孔可拆卸地连接,所述升降组件用于驱动所述伸缩组件带动所述膜层组件相对所述掩模版升降
。6.
如权利要求5所述的掩模版贴膜装置,其特征在于,所述伸缩组件的连接端与所述升降组件...
【专利技术属性】
技术研发人员:雷健,黄执祥,王栋,何祥,郭成恩,
申请(专利权)人:深圳市龙图光罩股份有限公司,
类型:发明
国别省市:
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