【技术实现步骤摘要】
本申请涉及光刻机设备，尤其涉及一种曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质。
技术介绍
1、光刻机是一种将掩模版上的图案转印到工件(硅片或玻璃基板)上的设备。掩模版放置在光刻机的掩模台中心，掩模版基材固定在掩模台上，掩模台运动的过程中，使固定在掩模台表面的掩模版基材被曝光，形成相应的光刻图案。因此，掩模台最大的运动范围，决定了光刻机可曝光掩模版的最大尺寸，限制了光刻机曝光范围。
2、因此，有必要提出一种能扩展光刻机曝光范围的方案。
技术实现思路
1、本申请的主要目的在于提供一种曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质，旨在扩展光刻机曝光范围，提高光刻机对掩模版基材尺寸的兼容性。
2、为实现上述目的，本申请提供一种曝光范围扩展装置，其特征在于，所述曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展，包括：
3、第一掩模台，所述掩模版基材基固定在所述第一掩模台上方；
4、第二掩模台，所述第二掩模台设置于所述第一掩模台的外围，所述第二掩模台的几何中心...
【技术保护点】
1.一种曝光范围扩展装置，其特征在于，所述曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展，包括：
2.如权利要求1所述的曝光范围扩展装置，其特征在于，所述掩模版基材的尺寸小于所述第二掩模台且大于所述第一掩模台。
3.一种曝光范围扩展方法，其特征在于，所述曝光范围扩展方法应用于曝光范围扩展系统，所述曝光范围扩展系统包括测量器、通讯控制器、驱动器，以及如权利要求1至2中任一项所述的曝光范围扩展装置，所述曝光范围扩展方法包括：
4.如权利要求3所述的曝光范围扩展方法，其特征在于，所述通过所述通讯控制器根据所述第一运动位置或所述第二运动位置，生成...
【技术特征摘要】
1.一种曝光范围扩展装置，其特征在于，所述曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展，包括：
2.如权利要求1所述的曝光范围扩展装置，其特征在于，所述掩模版基材的尺寸小于所述第二掩模台且大于所述第一掩模台。
3.一种曝光范围扩展方法，其特征在于，所述曝光范围扩展方法应用于曝光范围扩展系统，所述曝光范围扩展系统包括测量器、通讯控制器、驱动器，以及如权利要求1至2中任一项所述的曝光范围扩展装置，所述曝光范围扩展方法包括：
4.如权利要求3所述的曝光范围扩展方法，其特征在于，所述通过所述通讯控制器根据所述第一运动位置或所述第二运动位置，生成驱动指令的步骤，包括：
5.如权利要求4所述的曝光范围扩展方法，其特征在于，所述通过所述驱动器接收驱动指令，控制所述第一掩模台和所述第二掩模台运动的步骤，包括：
6.如权利要求5所述的曝光范围扩展方法，其特征在于，所述通过所述驱动器接收所述第二掩模台下降指令，控制所述...
【专利技术属性】
技术研发人员：黄执祥，雷健，何祥，孙世强，廖文超，
申请(专利权)人：深圳市龙图光罩股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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