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本申请公开了一种曝光范围扩展方法、装置、终端设备以及存储介质，其曝光范围扩展装置应用于光刻机曝光范围扩展，包括：第一掩模台，所述掩模版基材基固定在所述第一掩模台上方；第二掩模台，所述第二掩模台设置于所述第一掩模台的外围，所述第二掩模台的几何...
该专利属于深圳市龙图光罩股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过深圳市龙图光罩股份有限公司授权不得商用。

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